【技术实现步骤摘要】
本申请属于玻璃，具体涉及镀膜玻璃及其制备方法、夹层玻璃。
技术介绍
1、镀膜玻璃是指利用气相沉积技术在玻璃基板的表面上形成特殊功能的涂层或膜层。镀膜玻璃可制造用作机动车上的隔热玻璃、电加热玻璃、抬头显示玻璃或实现其他功能。当镀膜玻璃用于机动车上时，还需要经过至少500℃的高温弯曲工艺，例如汽车玻璃的烘弯工艺、压制弯曲工艺等。这就要求镀膜玻璃上的涂层或膜层不仅要满足光学性能和外观质量的要求，还要具有较高的机械性能、热稳定性和化学稳定性。但是，相关技术中的镀膜玻璃的涂层或膜层存在机械性能较差、硬度较低等缺点，在后续的运输、储存、搬运、加工过程中容易被硬物划伤，使得耐加工能力较差。
技术实现思路
1、鉴于此，本申请第一方面提供了一种镀膜玻璃，包括第一玻璃基板以及设置在所述第一玻璃基板表面的镀膜层；
2、所述镀膜层包括依次层叠设置至少一个功能叠层、第一保护层、第二保护层以及一个顶层保护层，每个所述功能叠层包括一个金属层和两个介质层，所述金属层位于两个所述介质层之间，所述顶层保护层为所述镀膜层中最远离所述第一玻璃基板表面的一层，所述第一保护层位于所述第二保护层和所述至少一个功能叠层之间，所述第二保护层直接接触地位于所述第一保护层和所述顶层保护层之间；
3、所述顶层保护层的材料包括sialox，1.5＜x＜2，所述顶层保护层的折射率n值为1.49～1.55，消光系数k值为0.00001～0.003。
4、其中，所述第一保护层的折射率大于所述第二保护层的折射率
5、其中，所述第一保护层的光学厚度为15nm～40nm，所述第二保护层的光学厚度为20nm～60nm，所述第一保护层与所述第二保护层的光学厚度之比为0.4～0.9。
6、其中，所述顶层保护层的物理厚度为80nm～300nm。
7、其中，从所述镀膜层一侧测量，所述镀膜玻璃的铅笔硬度≥9h。
8、其中，所述镀膜层满足如下条件中的一个或几个：
9、(1)所述第一保护层的材料选自zn、mg、sn、ti、nb、zr中的至少一种元素的氧化物；
10、(2)所述第一保护层的物理厚度为5nm～20nm；
11、(3)所述第一保护层的折射率为2.0～2.75。
12、其中，所述镀膜层满足如下条件中的一个或几个：
13、(1)所述第二保护层的材料选自zn、mg、sn、ti、nb、zr、al中的至少一种元素的氧化物；
14、(2)所述第二保护层的物理厚度为10nm～40nm；
15、(3)所述第二保护层的折射率为1.8～2.4。
16、其中，所述镀膜层满足如下条件中的一个或几个：
17、(1)各所述金属层的材料独立地选自ag、au、cu及al中的任意一种金属或金属合金；
18、(2)各所述金属层的物理厚度独立地为5nm～20nm；
19、(3)各所述介质层的材料独立地选自zn、mg、sn、ti、nb、zr、ni、in、al、ce、w、mo、sb、bi中的至少一种元素的氧化物；
20、(4)各所述介质层的物理厚度独立地为5nm～30nm。
21、其中，所述功能叠层的数量为至少两个，多个所述功能叠层层叠设置，在相邻两个所述功能叠层之间还设有中间层。
22、其中，所述镀膜层满足如下条件中的一个或几个：
23、(1)各所述中间层的材料独立地选自si、zn、mg、sn、ti、nb、zr、ni、in、al、ce、w、mo、sb、bi中的至少一种元素的氧化物、氮化物或氮氧化物；
24、(2)各所述中间层的物理厚度独立地为20nm～100nm。
25、其中，所述镀膜层还包括设置在所述第一玻璃基板与所述至少一个功能叠层之间的最内附着层，所述最内附着层与所述第一玻璃基板表面直接接触。
26、其中，所述镀膜层满足如下条件中的一个或几个：
27、(1)所述最内附着层的材料选自si、zn、mg、sn、ti、nb、zr、ni、in、al、ce、w、mo、sb、bi中的至少一种元素的氧化物、氮化物或氮氧化物；
28、(2)所述最内附着层的物理厚度为10nm～50nm。
29、其中，所述镀膜层满足如下条件中的一个或几个：
30、(1)所述第一保护层和所述第二保护层的物理厚度之和小于所述顶层保护层的物理厚度；
31、(2)所述顶层保护层的物理厚度与所述第一保护层的物理厚度之比大于或等于4；
32、(3)所述顶层保护层的物理厚度与所述第一保护层的物理厚度之比为5～50，优选为8～25；
33、(4)所述顶层保护层的物理厚度与所述第二保护层的物理厚度之比大于或等于3，优选为4～15；
34、(5)所述顶层保护层的物理厚度与所述第一保护层和所述第二保护层的总物理厚度之比为1.5～15，优选为3～10。
35、其中，至少一个所述功能叠层还包括阻挡层，所述阻挡层与所述金属层直接接触，所述阻挡层的物理厚度小于或等于5nm，所述阻挡层的材料选自ti、ni、cr、nb、w中的至少一种金属或金属合金。
36、本申请第二方面提供了一种镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：
37、提供第一玻璃基板：
38、提供第一玻璃基板：
39、在所述第一玻璃基板的至少一个表面上通过磁控溅射工艺沉积镀膜层；所述镀膜层包括依次层叠设置至少一个功能叠层、第一保护层、第二保护层以及一个顶层保护层，每个所述功能叠层包括一个金属层和两个介质层，所述金属层位于两个所述介质层之间，所述顶层保护层为所述镀膜层中最远离所述第一玻璃基板表面的一层，所述第一保护层位于所述第二保护层和所述至少一个功能叠层之间，所述第二保护层直接接触地位于所述第一保护层和所述顶层保护层之间；
40、所述顶层保护层的材料包括sialox，1.5＜x＜2，所述顶层保护层的折射率n值为1.49～1.55，消光系数k值为0.00001～0.003。
41、其中，所述顶层保护层的溅射靶材包括sial合金靶，以质量百分比计，所述sial合金靶包含45％～92％的si和8％～55％的al。
42、其中，所述顶层保护层的靶材电源为高功率脉冲磁控溅射电源，沉积所述顶层保护层的过程中的工艺参数满足如下条件中的一个或几个：
43、(1)所述高功率脉冲磁控溅射电源的工作电压为550v～1200v；
44、(2)所述高功率脉冲磁控溅射电源的占空比为5％～15％；
45、(3)所述高功率脉冲磁控溅射电源的工作电流为200a～1000a。
46、本申请第三方面提供了一种夹层玻璃，包括第二玻璃基板、粘合层和如本申请第一方面提供的镀膜玻璃，所本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种镀膜玻璃，其特征在于，包括第一玻璃基板以及设置在所述第一玻璃基板表面的镀膜层；
2.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第一保护层的折射率大于所述第二保护层的折射率；和/或，所述第一保护层的物理厚度小于所述第二保护层的物理厚度。
3.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第一保护层的光学厚度为15nm～40nm，所述第二保护层的光学厚度为20nm～60nm，所述第一保护层与所述第二保护层的光学厚度之比为0.4～0.9。
4.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述顶层保护层的物理厚度为80nm～300nm。
5.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，从所述镀膜层一侧测量，所述镀膜玻璃的铅笔硬度≥9H。
6.根据权利要求1-5任意一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜层满足如下条件中的一个或几个：
7.根据权利要求1-5任意一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜层满足如下条件中的一个或几个：
8.根据权利要求1-5任意一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜层
9.根据权利要求1-5任意一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述功能叠层的数量为至少两个，多个所述功能叠层层叠设置，在相邻两个所述功能叠层之间还设有中间层。
10.根据权利要求9所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜层满足如下条件中的一个或几个：
11.根据权利要求1-5任意一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜层还包括设置在所述第一玻璃基板与所述至少一个功能叠层之间的最内附着层，所述最内附着层与所述第一玻璃基板表面直接接触。
12.根据权利要求11所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜层满足如下条件中的一个或几个：
13.根据权利要求1-5任意一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜层满足如下条件中的一个或几个：
14.根据权利要求1-5任意一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，至少一个所述功能叠层还包括阻挡层，所述阻挡层与所述金属层直接接触，所述阻挡层的物理厚度小于或等于5nm，所述阻挡层的材料选自Ti、Ni、Cr、Nb、W中的至少一种金属或金属合金。
15.一种镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
16.根据权利要求15所述的镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述顶层保护层的溅射靶材包括SiAl合金靶，以质量百分比计，所述SiAl合金靶包含45％～92％的Si和8％～55％的Al。
17.根据权利要求16所述的镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述顶层保护层的靶材电源为高功率脉冲磁控溅射电源，沉积所述顶层保护层的过程中的工艺参数满足如下条件中的一个或几个：
18.一种夹层玻璃，其特征在于，包括第二玻璃基板、粘合层和如权利要求1～14任一项所述的镀膜玻璃，所述粘合层设置在所述镀膜玻璃和所述第二玻璃基板之间，所述镀膜层中的所述顶层保护层与所述粘合层直接接触。
19.如权利要求18所述的夹层玻璃，其特征在于，所述镀膜层的顶层保护层的折射率与所述粘合层的折射率之差的绝对值≤0.03。
...【技术特征摘要】
1.一种镀膜玻璃，其特征在于，包括第一玻璃基板以及设置在所述第一玻璃基板表面的镀膜层；
2.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第一保护层的折射率大于所述第二保护层的折射率；和/或，所述第一保护层的物理厚度小于所述第二保护层的物理厚度。
3.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第一保护层的光学厚度为15nm～40nm，所述第二保护层的光学厚度为20nm～60nm，所述第一保护层与所述第二保护层的光学厚度之比为0.4～0.9。
4.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述顶层保护层的物理厚度为80nm～300nm。
5.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，从所述镀膜层一侧测量，所述镀膜玻璃的铅笔硬度≥9h。
6.根据权利要求1-5任意一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜层满足如下条件中的一个或几个：
7.根据权利要求1-5任意一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜层满足如下条件中的一个或几个：
8.根据权利要求1-5任意一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜层满足如下条件中的一个或几个：
9.根据权利要求1-5任意一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述功能叠层的数量为至少两个，多个所述功能叠层层叠设置，在相邻两个所述功能叠层之间还设有中间层。
10.根据权利要求9所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜层满足如下条件中的一个或几个：
11.根据权利要求1-5任意一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜层还包括...
【专利技术属性】
技术研发人员：曹晖，张洁林，陈国富，曾东，游明希，福原康太，
申请(专利权)人：福耀玻璃工业集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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