【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本披露内容属于眼科光学领域。本披露内容总体涉及光学透镜的涂覆。特别地，披露了用于涂覆光学透镜的方法以及对应的组件、计算机程序和存储介质，该光学透镜的主表面至少部分覆盖有小透镜。
技术介绍
1、在眼科行业，几十年来人们都知道对光学透镜进行表面处理。
2、例如，比如眼科透镜等光学制品通常包括被成形以便提供期望的光焦度的基础透镜基材、以及覆盖基础透镜基材的至少一个表面以防止基础透镜基材被划痕损坏的抗磨损涂层覆盖物。
3、对光学透镜涂覆上硬质涂层，最常用的方法是浸涂和旋涂。
4、浸涂方法经常出现的一个已知问题是控制所得硬质涂层的厚度。
5、对于许多应用，已发现期望在基础透镜基材上设置多个小透镜(比如微透镜)，从而提供光学制品的焦度的局部变化。例如，从us 2017/0131567已知了一种透镜，该透镜包括形成在透镜的表面上的多个微透镜，由微透镜提供的焦度的局部变化能够抑制或减慢近视的进展。
6、在这方面，涂覆在至少一个表面上包括小透镜的基材会影响在小透镜处的所得光焦度。这种影响可以通过在制造基材时预先调整小透镜的光焦度来补偿。但是这种调整可能仅适合用于补偿硬质涂层的特定预期厚度的影响。
7、因此，需要改进对在浸渍过程中沉积在光学透镜上的涂覆流体或固体层的厚度的控制，以便更好地控制由于涂覆层引起的小透镜的焦度偏移。
技术实现思路
1、本专利技术旨在通过提供一种更好地控制涂覆流体或固体层的厚度的方法来改进这些方面。
...【技术保护点】
1.一种用于涂覆多个光学透镜(10)的方法，所述光学透镜的至少一个主表面(14，16)至少部分覆盖有小透镜(18)，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法包括干燥(DRY)沉积在所述第一光学透镜(10)上的所述涂覆层(20)的步骤，所述测量(MEAS)步骤在所述抽出(WDW)步骤与所述干燥(DRY)步骤之间实施。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法包括干燥(DRY)沉积在所述第一光学透镜(10)上的所述涂覆层(20)的步骤和硬化(HRD)沉积在所述第一光学透镜(10)上的所述涂覆层(20)的步骤，所述测量(MEAS)步骤在所述干燥(DRY)步骤与所述硬化(HRD)步骤之间实施。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法包括硬化(HRD)沉积在所述第一光学透镜(10)上的所述涂覆层(20)的步骤，所述测量(MEAS)步骤在所述硬化(HRD)步骤之后实施。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述测量(MEAS)步骤通过非接触式光学方法实施。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方
7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述调整后的抽出速度基于在所述涂覆层(20)的测得厚度与期望标称厚度之间差值的经验函数来确定。
8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述经验函数进一步取决于所述涂覆流体(112)的流体特性以及所述主表面(14，16)和小透镜(18)的表面机械和物理特性。
9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，在所述抽出(WDW)步骤期间，所述抽出速度保持恒定。
10.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其中，在所述抽出(WDW)步骤期间，所述抽出速度逐渐减小。
11.一种用于涂覆光学透镜的涂覆组件(100)，所述光学透镜的至少一个主表面(14，16)至少部分覆盖有小透镜(18)，所述涂覆组件(100)包括：
12.一种计算机程序，所述计算机程序包括一个或多个存储的指令序列，所述指令序列可由处理单元(PROC)访问并且当由所述处理单元(PROC)执行时，使所述处理单元(PROC)执行根据权利要求1至10中任一项所述的方法的至少一部分。
13.一种非暂时性存储介质，所述存储介质存储根据权利要求12所述的计算机程序的一个或多个存储的指令序列。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于涂覆多个光学透镜(10)的方法，所述光学透镜的至少一个主表面(14，16)至少部分覆盖有小透镜(18)，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法包括干燥(dry)沉积在所述第一光学透镜(10)上的所述涂覆层(20)的步骤，所述测量(meas)步骤在所述抽出(wdw)步骤与所述干燥(dry)步骤之间实施。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法包括干燥(dry)沉积在所述第一光学透镜(10)上的所述涂覆层(20)的步骤和硬化(hrd)沉积在所述第一光学透镜(10)上的所述涂覆层(20)的步骤，所述测量(meas)步骤在所述干燥(dry)步骤与所述硬化(hrd)步骤之间实施。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法包括硬化(hrd)沉积在所述第一光学透镜(10)上的所述涂覆层(20)的步骤，所述测量(meas)步骤在所述硬化(hrd)步骤之后实施。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述测量(meas)步骤通过非接触式光学方法实施。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述方法包括在实施所述浸渍(dip)步骤的浸渍组件中连续调整所述涂覆流体(112)...
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