用于三维打印的系统和方法以及由此生产的产品技术方案

技术编号:40431232 阅读:25 留言:0更新日期:2024-02-20 22:53
一种增材制造设备,包括:输出设备和控制器。所述输出设备被配置为接收至少一种材料以生成元件。所述控制器包括一个或多个处理器,所述一个或多个处理器被配置为:接收模型,所述模型包括表征所述元件的多个像素;识别所述多个像素之中的、与所述元件的第一表面相对应的至少一个像素;修改所述模型以基于目标曝光量调整与所述至少一个像素相对应的曝光量;以及,控制所述输出设备的操作,使所述输出设备基于修改后的模型生成所述元件。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本申请大体涉及元件制造领域,更具体地,涉及用于三维(3d)打印的系统和方法以及由此生产的产品。


技术介绍

1、3d打印可用于基于元件的计算机模型生成各种元件。


技术实现思路

1、至少一个方面涉及一种增材制造设备。所述增材制造设备可以包括输出设备和控制器。所述输出设备可以配置为接收至少一种材料以生成元件。所述控制器可以包括一个或多个处理器,所述一个或多个处理器配置为:接收模型,所述模型包括表征所述元件的多个像素;识别所述多个像素中的、与所述元件的第一表面相对应的至少一个像素;修改所述模型以基于目标曝光量调整与所述至少一个像素相对应的曝光量;以及,控制所述输出设备的操作,以使所述输出设备基于修改后的模型生成所述元件。

2、至少一个方面涉及一种系统。所述系统可以包括一个或多个处理器,所述一个或多个处理器配置为:接收模型,所述模型包括表征一种元件的多个像素;识别所述多个像素中的、与所述元件的第一表面相对应的至少一个像素;修改所述模型以基于目标曝光量调整与所述至少一个像素相对应的曝光量;以及,控制输出设备的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种增材制造设备,包括:

2.根据权利要求1所述的增材制造设备,其中,所述控制器被配置为通过执行Z轴补偿来修改所述模型以调整所述曝光量。

3.根据权利要求1所述的增材制造设备,其中,所述至少一个像素包括第一像素,所述控制器被配置为基于所述多个像素中的多个第二像素将曝光量确定为累积曝光量,所述多个第二像素相对于所述至少一个第一像素排布在多个层中。

4.根据权利要求1所述的增材制造设备,其中,所述至少一个像素是至少一个第一像素,所述控制器被配置为基于离所述至少一个第一像素在阈值距离内的至少一个第二像素来确定所述曝光量。

5.根据权利要求1所...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种增材制造设备,包括:

2.根据权利要求1所述的增材制造设备,其中,所述控制器被配置为通过执行z轴补偿来修改所述模型以调整所述曝光量。

3.根据权利要求1所述的增材制造设备,其中,所述至少一个像素包括第一像素,所述控制器被配置为基于所述多个像素中的多个第二像素将曝光量确定为累积曝光量,所述多个第二像素相对于所述至少一个第一像素排布在多个层中。

4.根据权利要求1所述的增材制造设备,其中,所述至少一个像素是至少一个第一像素,所述控制器被配置为基于离所述至少一个第一像素在阈值距离内的至少一个第二像素来确定所述曝光量。

5.根据权利要求1所述的增材制造设备,其中,所述控制器被配置为调整所述曝光量,以使所述曝光量小于或等于所述目标曝光量。

6.根据权利要求1所述的增材制造设备,其中,所述控制器被配置为通过增加z轴补偿的幅度来迭代地修改所述模型,直到所述曝光量小于或等于所述目标曝光量。

7.根据权利要求1所述的增材制造设备,其中,所述第一表面是面朝下的表面。

8.根据权利要求1所述的增材制造设备,其中,所述输出设备被配置为使用树脂作为材料来将所述元件生成为一种生物组织元件。

9.根据权利要求1所述的增材制造设备,其中,所述多个像素包括三维坐标空间中的多个体积元素(体素)。

10.根据权利要求1所述的增材制造设备,其中,所述至少一个像素包括第一像素,所述控制器被配置为对所述多...

【专利技术属性】
技术研发人员:G·赫斯特M·莫达雷西法尔M·萨法维耶D·莫里斯L·阿尔瓦雷斯D·E·贝克曼
申请(专利权)人:朗格生物技术公共公益股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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