System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind()
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于线路板电镀,具体地说是一种镍铬蚀刻剂及其制备方法。
技术介绍
1、近年来,随着消费类电子产品不断的轻薄化、集成化和多功能化,要求印制电路板(pcb、fccl)具有高密度、高精度、高可靠性等特点,从而在有限的表面上,装载更多的微型器件。现有技术主要是通过使用电解铜铜箔以及压延铜箔作为材料进行压合,从而达到线路基板的材料。无胶基材是最近几年新出的一种新型fpc覆铜材料,有胶基材比无胶基材在p i与铜之间多了一层胶,无胶基材挠折性能更好,无胶基材多以电解薄铜居多。因为铜厚对挠着性能有着直接影响。由于无胶基材的成本高,同时基材铜的厚度很难达到更高的要求,基材铜要求越来越薄已经是明显的趋势。因此市面上进行了以镍铬打底,作为pi基材表面进行导体化处理后,根据客户对基材铜的要求,进行电镀,从而达到客户要求的厚度。因此作为一种新型的fpc/fccl材料,在进行线路板后端的蚀刻线路时,很难将底部的镍铬蚀刻清除,同时在蚀刻的过程中很容易导致线路出现侧蚀现象。
2、传统的方式,通常底部是以铜作为基材,通常在蚀刻线体是使用sps以及双氧水的酸性蚀刻液快速蚀刻,无法蚀刻镍铬等金属,传统的单纯使用过硫酸铵溶液应用于pcb板的蚀刻工艺时,受限于其刻蚀效率较低的问题,通常只能用作粗蚀刻用,后续还需要结合其他他蚀刻工艺进行蚀刻,方能满足pcb线路板蚀刻工艺要求。虽然后续有采用硫酸-过硫酸铵溶液,但酸度过高,且依然蚀刻速率较低,后续虽然也有采用硝酸-过硫酸铵溶液,能够在一定程度上提高铣切速度,但该体系极容易因为硝酸挥发产生黄烟,不利于生产
3、综上,因此本专利技术提供了一种镍铬蚀刻剂及其制备方法,以解决上述问题。
技术实现思路
1、为了解决上述技术问题,本专利技术提供一种镍铬蚀刻剂及其制备方法,以解决现有技术中双氧水的酸性无法蚀刻镍铬等金属的问题。
2、一种镍铬蚀刻剂,包括以下组成部分:
3、主盐:包括硝酸铵盐和氯化铵盐的其中至少一种;
4、酸:包括氢氟酸、硫酸、柠檬酸、琥珀酸、乳酸、苹果酸的其中至少一种;
5、铜面保护剂:包括巯基乙醇、巯基丙二醇、二甲基苯硫酚、1-硫代甘油、3-(2-氨基苯硫基)-2-羧基丙硫醇、2-巯基丙酸、甘露醇、木糖醇的其中至少两种;
6、结合剂:包括氨三乙酸钠、乙二胺四乙酸盐和二乙烯三胺五羧酸盐的其中至少一种;
7、余量为水。
8、进一步的,包括以下重量份原料:
9、主盐:150~300份;
10、酸:10~20份;
11、铜面保护剂:0.01~0.05份;
12、结合剂:0.01~0.05份;
13、水:1000~3000份。
14、进一步的,所述水采用去离子水。
15、进一步的,所述蚀刻剂进一步含有用于蚀刻铬和镍铬合金的氧化剂。
16、一种镍铬蚀刻剂的制备方法,包括以下步骤:
17、步骤一:称取规定重量份的主盐以及酸,并且将其溶于部分水中,并且进行搅拌均匀后,得到混合物a;
18、步骤二:在混合物a中添加铜面保护剂、氧化剂和结合剂,并且静置10~20分钟,再添加剩余的水,进行搅拌混合。
19、进一步的,所述氧化剂采用有机苯磺酸或其苯环被取代的不具有氧化性的衍生物或它们的混合物的其中一种。
20、与现有技术相比,本专利技术具有如下有益效果:
21、1、本专利技术中,采取氢氟酸、硫酸、柠檬酸、琥珀酸、乳酸、苹果酸、硝酸铵盐、氯化铵盐等原料,能起到对镍铬等金属的蚀刻,可以有效的蚀刻基材底部的镍铬金属的情况下,基本无明显的铜面侧蚀现象,可以解决针对新型工艺的以镍铬打底进行电镀的无胶基材在使用过程中,后端工序的蚀刻线路起到了解决作用。
22、2、本专利技术中,经过蚀刻后的基板通过电测后,方阻增大,能解决蚀刻干净的作用,在蚀刻的过程中,能有效的对铜起到保护的作用,防止线路侧壁受到侧蚀的影响,药液管理容易,能对应较为范围广的温度。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种镍铬蚀刻剂,其特征在于:包括以下组成部分:
2.如权利要求1所述镍铬蚀刻剂,其特征在于:包括以下重量份原料:
3.如权利要求1所述镍铬蚀刻剂,其特征在于:所述水采用去离子水。
4.如权利要求1所述镍铬蚀刻剂,其特征在于:所述蚀刻剂进一步含有用于蚀刻铬和镍铬合金的氧化剂。
5.一种镍铬蚀刻剂的制备方法,用于制备如权利要求1-4中所述的镍铬蚀刻剂,其特征在于:包括以下步骤:
6.如权利要求5所述镍铬蚀刻剂的制备方法,其特征在于:所述氧化剂采用有机苯磺酸或其苯环被取代的不具有氧化性的衍生物或它们的混合物的其中一种。
【技术特征摘要】
1.一种镍铬蚀刻剂,其特征在于:包括以下组成部分:
2.如权利要求1所述镍铬蚀刻剂,其特征在于:包括以下重量份原料:
3.如权利要求1所述镍铬蚀刻剂,其特征在于:所述水采用去离子水。
4.如权利要求1所述镍铬蚀刻剂,其特征在于:所述蚀刻剂进一步含有用于蚀刻...
【专利技术属性】
技术研发人员:王志军,
申请(专利权)人:苏州杰睿美科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。