【技术实现步骤摘要】
本专利技术的实施例涉及半导体领域,尤其涉及一种电极引出部处于同侧的石英谐振器及其制造方法,以及一种电子器件。
技术介绍
1、高基频、小型化和低矮化是石英晶振片(下文中简称为晶片)发展的趋势。传统晶片制造方案多采用研磨切片的方式获得一定频率的散粒薄片,然后进行后续的镀电极与调频。然而,切片所采用的线切割技术对1mm×1mm及以下尺寸难以实现,基本无法覆盖1.2mm×1.0mm及以下尺寸的晶片制造,更无法满足1.0mm×0.8mm及以下尺寸规格晶片制造。晶片的基频主要受晶片谐振区域的厚度决定,晶片的基频由以下公式支配:
2、f0(mhz)=1670(mhz·μm)/d(μm) (1)
3、晶圆级制造可以实现单颗谐振器制造成本的大幅降低,以及谐振器之间的品控一致性;通常来说,晶圆尺寸越大,单颗谐振器的制造成本越低。然而,对于晶圆级制造方案,几百至数千颗晶片排列在单片晶圆上,对各个位置点石英厚度的精确控制挑战巨大,这也就直接导致了整片晶圆上晶片频率的准确性与一致性难以得到保证。因此,晶圆级晶片调频存在极大的挑战。目
...【技术保护点】
1.一种石英谐振器,包括:
2.根据权利要求1所述的谐振器,其中:
3.根据权利要求2所述的谐振器,其中:
4.根据权利要求3所述的谐振器,其中:
5.根据权利要求2所述的谐振器,其中:
6.根据权利要求1所述的谐振器,其中:
7.根据权利要求6所述的谐振器,其中:
8.根据权利要求1所述的谐振器,其中:
9.根据权利要求1所述的谐振器,其中:
10.根据权利要求1-9中任一项所述的谐振器,还包括:
11.根据权利要求10所述的谐振器,其中:
...【技术特征摘要】
1.一种石英谐振器,包括:
2.根据权利要求1所述的谐振器,其中:
3.根据权利要求2所述的谐振器,其中:
4.根据权利要求3所述的谐振器,其中:
5.根据权利要求2所述的谐振器,其中:
6.根据权利要求1所述的谐振器,其中:
7.根据权利要求6所述的谐振器,其中:
8.根据权利要求1所述的谐振器,其中:
9.根据权利要求1所述的谐振器,其中:
10.根据权利要求1-9中任一项所述的谐振器,还包括:
11.根据权利要求10所述的谐振器,其中:
12.根据权利要求11所述的谐振器,其中:
13.根据权利要求11所述的谐振器,其中:
14.根据权利要求13所述的谐振器,其中:
15.根据权利要求11所述的谐振器,其中:
16.根据权利要求11所述的谐振器,其中:
17.根据权利要求11所述的谐振器,其中:
18.根据权利要求11所述的谐振器,其中:
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