【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及全息光栅制造，尤其涉及的是一种反射式体全息光栅的制造装置和制造方法。
技术介绍
1、体全息光栅光波导由于可以提供更大的视场角、更好的光学显示效果和更轻薄的体积而被应用到增强现实显示系统或混合现实的显示系统，但是现有技术中的体全息光栅的制备工艺需要双光束曝光设备完成，并且干涉条纹对环境扰动、温度和湿度等多个方面要求严格，因此导致体全息光栅难以实现高质量、大规模批量制造。
2、因此，现有技术有待改进。
技术实现思路
1、鉴于上述现有技术中的不足之处，本专利技术的目的在于提供一种反射式体全息光栅的制造装置和制造方法，克服现有技术中体全息光栅制造工艺难以实现高质量大规模批量制造体全息光栅的缺陷。
2、本专利技术解决技术问题所采用的技术方案如下：
3、第一方面，本实施例提供了一种反射式体全息光栅的制造装置，其中，包括：光源和位于所述光源发光光路上的曝光模组；所述曝光模组包括：具有至少一个光学衍射模块的掩膜版、记录介质、耦合棱镜和曝光调制单元；
4、所述光源，用于提供入射记录光束；
5、所述掩膜版上的光学衍射模块，用于接收入射记录光束，并对所述入射记录光束进行衍射分光，得到反射衍射光束；
6、所述耦合棱镜，用于对入射记录光束入射到所述掩膜版中的角度进行调整，以使得所述入射记录光束以预设角度入射所述记录介质，并消除界面上由于入射记录光束非理想折、反射导致的背景干涉噪声，以进一步提高目标干涉条纹的信噪比；
...【技术保护点】
1.一种反射式体全息光栅的制造装置，其特征在于，包括：光源和位于所述光源发光光路上的曝光模组；所述曝光模组包括：具有至少一个光学衍射模块的掩膜版、记录介质、耦合棱镜和曝光调制单元；
2.根据权利要求1所述的反射式体全息光栅的制造装置，其特征在于，所述曝光调制单元包括：间隙隔块和透明隔块；所述记录介质内嵌设置在间隙隔块中，所述透明隔块设置在所述间隙隔块和掩膜版之间。
3.根据权利要求1所述的反射式体全息光栅的制造装置，其特征在于，还包括：至少一个设置在入射记录光束光路上的可旋转半透半反射镜；
4.根据权利要求1所述的反射式体全息光栅的制造装置，其特征在于，所述曝光模组还包括：设置在所述耦合棱镜表面的吸收介质层；
5.根据权利要求1所述的反射式体全息光栅的制造装置，其特征在于，所述光学衍射模块的表面形状为平面或曲面，且所述光学衍射模块为微纳光学结构或者为光学微纳可调器件。
6.根据权利要求2所述的反射式体全息光栅的制造装置，其特征在于，所述间隙隔块内填充有折射率匹配液；
7.根据权利要求1所述的反射式体全息光栅的
8.根据权利要求1所述的反射式体全息光栅的制造装置，其特征在于，还包括：依次排列设置在光源的出射光路上的聚焦透镜、小孔光阑和/或准直透镜；
9.根据权利要求1所述的反射式体全息光栅的制造装置，其特征在于，所述掩膜版上设置有参数不同的多个光学衍射模块；设置在不同位置的用于记录体全息光栅的多个记录区域；
10.一种反射式体全息光栅的制造方法，其特征在于，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种反射式体全息光栅的制造装置，其特征在于，包括：光源和位于所述光源发光光路上的曝光模组；所述曝光模组包括：具有至少一个光学衍射模块的掩膜版、记录介质、耦合棱镜和曝光调制单元；
2.根据权利要求1所述的反射式体全息光栅的制造装置，其特征在于，所述曝光调制单元包括：间隙隔块和透明隔块；所述记录介质内嵌设置在间隙隔块中，所述透明隔块设置在所述间隙隔块和掩膜版之间。
3.根据权利要求1所述的反射式体全息光栅的制造装置，其特征在于，还包括：至少一个设置在入射记录光束光路上的可旋转半透半反射镜；
4.根据权利要求1所述的反射式体全息光栅的制造装置，其特征在于，所述曝光模组还包括：设置在所述耦合棱镜表面的吸收介质层；
5.根据权利要求1所述的反射式体全息光栅的制造装置，其特征在于，所述光学衍射模块的表面形状为平面...
【专利技术属性】
技术研发人员：马国庆，关健，兰富洋，王兆民，
申请(专利权)人：珠海莫界科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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