【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及铜管靶，尤其是涉及一种管靶用铜管制备装置及方法。
技术介绍
1、现有高纯铜管靶用铜管制备技术先熔炼铸锭，再将熔炼铸锭挤压成管，最后机加工成管靶。这种方式的设备投资大，工艺流程较长，应对不同规格尺寸的模具加工较难，而且制备得到的铜管纯度大多在6n以下、氧含量≤5ppm。
技术实现思路
1、针对现有技术存在的问题，本专利技术提供一种管靶用铜管制备装置及方法，能够一步制备铜管，缩短制备工艺流程，减少制备成本，提高制备效率、精度和纯度。
2、本专利技术的技术方案为：
3、一种管靶用铜管制备装置，包括导液漏斗1、保温包盖2、保温包3、内腔柱4、加热件5、铸模7、拉杆水冷座8；所述保温包3的顶部敞开、底部中间设有第一通孔，所述保温包盖2盖在所述保温包3的顶部且中部开设有第二通孔；所述拉杆水冷座8包括水冷盘8-1、固定在所述水冷盘8-1底部中间的拉锭杆8-2，所述水冷盘8-1设置在所述保温包3下方且上沿位于所述第一通孔内；所述铸模7为圆柱形且顶部共轴开设有圆形的浇注...
【技术保护点】
1.一种管靶用铜管制备装置，其特征在于，包括导液漏斗(1)、保温包盖(2)、保温包(3)、内腔柱(4)、加热件(5)、铸模(7)、拉杆水冷座(8)；所述保温包(3)的顶部敞开、底部中间设有第一通孔，所述保温包盖(2)盖在所述保温包(3)的顶部且中部开设有第二通孔；所述拉杆水冷座(8)包括水冷盘(8-1)、固定在所述水冷盘(8-1)底部中间的拉锭杆(8-2)，所述水冷盘(8-1)设置在所述保温包(3)下方且上沿位于所述第一通孔内；所述铸模(7)为圆柱形且顶部共轴开设有圆形的浇注槽(7-1)，所述浇注槽(7-1)底部共轴开设有阶梯状凹槽，所述内腔柱(4)为圆柱形且底部共轴...
【技术特征摘要】
1.一种管靶用铜管制备装置，其特征在于，包括导液漏斗(1)、保温包盖(2)、保温包(3)、内腔柱(4)、加热件(5)、铸模(7)、拉杆水冷座(8)；所述保温包(3)的顶部敞开、底部中间设有第一通孔，所述保温包盖(2)盖在所述保温包(3)的顶部且中部开设有第二通孔；所述拉杆水冷座(8)包括水冷盘(8-1)、固定在所述水冷盘(8-1)底部中间的拉锭杆(8-2)，所述水冷盘(8-1)设置在所述保温包(3)下方且上沿位于所述第一通孔内；所述铸模(7)为圆柱形且顶部共轴开设有圆形的浇注槽(7-1)，所述浇注槽(7-1)底部共轴开设有阶梯状凹槽，所述内腔柱(4)为圆柱形且底部共轴设置有阶梯状凸台，所述铸模(7)设置在所述水冷盘(8-1)上，所述内腔柱(4)共轴设置在所述浇注槽(7-1)内部且所述阶梯状凸台设置在所述阶梯状凹槽内，所述内腔柱(4)与所述铸模(7)在侧壁周向通过多个定位销(6)连接；所述导液漏斗(1)设置在所述保温包盖(2)的顶部上方且颈部向下穿过所述第二通孔后伸入所述浇注槽(7-1)内部所述内腔柱(4)上方；所述加热件(5)有多个且均匀分布在所述保温包(3)内部所述铸模(7)外侧周向。
2.根据权利要求1所述的管靶用铜管制备装置，其特征在于，所述阶梯状凹槽包括在所述浇注槽(7-1)底部共轴开设的内径小于浇注槽(7-1)内径的第一凹槽(7-2)、在所述第一凹槽(7-2)底部共轴开设的内径小于第一凹槽(7-2)内径的第二凹槽(7-3)，所述阶梯状凸台包括在所述内腔柱(4)底部共轴设置的直径小于内腔柱(4)直径的第一凸台(4-3)、在所述第一凸台(4-3)底部共轴设置的直径小于第一凸台(4-3)直径的第二凸台(4-4)，所述第一凸台(4-3)、第二凸台(4-4)分别位于所述第一凹槽(7-2)、第二凹槽(7-3)内部。
3.根据权利要求1所述的管靶用铜管制备装置，其特征在于，所述内腔柱(4)的顶部设置有出炉把手(4-2)。
4.根据权利要求1所述的管靶用铜管制备装置，其特征在于，所述铸模(7)在所述浇注槽(7-1)的侧壁周向均匀开设有多个调整螺纹孔(7-4)，所述内腔柱(4)在外侧壁周向均匀开设有多个调整螺纹凹槽(4-1)，所述调整螺纹凹槽(4-1)与所述调整螺纹孔(7-4)、定位销(...
【专利技术属性】
技术研发人员：柴明强，胡家彦，鲁相杰，张亚东，李伟，李宵波，金赟，贾钰泽，孙成成，陆世海，李文琳，
申请(专利权)人：金川集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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