一种半导体晶片的清洗装置制造方法及图纸

技术编号:40408989 阅读:5 留言:0更新日期:2024-02-20 22:29
本技术涉及半导体晶片清洗技术领域,且公开了一种半导体晶片的清洗装置,包括安装箱,开设有在所述安装箱左侧的出水口,设置在所述安装箱内部的清洗箱,以及设置在所述清洗箱内部的加工组件,所述加工组件包括固定安装在清洗箱内部的固定机构,所述清洗箱的顶部固定安装有散热机构,所述安装箱的内部固定安装有发生机构,所述固定机构包括固定安装在安装箱侧壁的导杆,所述导杆的外壁滑动设置有移动杆,所述安装箱的外壁固定安装有固定架,所述固定架的内壁顶部固定安装有电动伸缩杆,通过设置固定机构和发生机构,可以使本技术对内部的半导体晶片进行夹持后对其进行清洗,以提高对半导体晶片清洗的稳定性。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体晶片清洗,具体为一种半导体晶片的清洗装置


技术介绍

1、半导体晶片清洗是半导体晶片工艺加工中常用到的程序。半导体晶片清洗主要的作用包括:获得清洁的晶片表面,如去除附着在晶片表面的原子、离子、分子、有机物或其他颗粒,通常是将半导体晶片放入超声波清洗槽内进行清洗。

2、根据中国专利cn215696373u提出了一种带烘干装置的半导体硅片的清洗装置,挡杆的两侧均对称的焊接有支撑块,将半导体硅片放置在两根挡杆12之间,防止挡杆与半导体硅片完全接触。

3、但是该专利中可能存在一些不足之处,该装置中将半导体硅片放置在两根档杆之间,可能会存在升降机构在对承载网进行升降过程中使得半导体硅片脱离档杆,使半导体硅片造成损坏,从而影响了对半导硅片的清洗效率,为此,我们提出了一种半导体晶片的清洗装置。


技术实现思路

1、本技术的目的在于提供了一种半导体晶片的清洗装置,解决了上述
技术介绍
中所提出的问题。

2、为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种半导体晶片的清洗装置,包括安装箱,开设有在所述安装箱左侧的出水口,设置在所述安装箱内部的清洗箱,以及设置在所述清洗箱内部的加工组件,所述加工组件包括固定安装在清洗箱内部的固定机构,所述清洗箱的顶部固定安装有散热机构,所述安装箱的内部固定安装有发生机构。

3、优选的,所述固定机构包括固定安装在安装箱侧壁的导杆,所述导杆的外壁滑动设置有移动杆,所述安装箱的外壁固定安装有固定架,所述固定架的内壁顶部固定安装有电动伸缩杆,所述电动伸缩杆的底部与固定架的顶部固定连接,所述固定架的顶部与清洗箱的底部固定连接,通过设置固定机构,操作人员可将半导体晶片放置在清洗箱的内部,拉动拉杆,使拉杆带着夹持板进行拉动,将半导体晶片放置在夹持板的内部,然后释放拉杆,使夹持板通过连接弹簧的弹力对半导体晶片进行夹持,以提高其在清洗过程中的稳定性。

4、优选的,所述清洗箱的内壁底部固定安装有矩形板,所述矩形板的内部滑动设置有拉杆,所述拉杆的另一端固定安装有夹持板,所述夹持板的侧面固定安装有连接弹簧,所述连接弹簧的另一端与矩形板的侧面固定连接,通过此设置,可对半导体晶片进行夹持。

5、优选的,所述夹持板的数量有两个,两个所述夹持板大小大小相等,两个所述夹持板沿清洗箱的中心面对称设置,通过此设置,可对半导体晶片进行夹持。

6、优选的,所述发生机构包括固定安装在安装箱外壁的支撑杆,所述支撑杆的另一端固定安装有驱动电机,所述驱动电机活动贯穿安装箱的外壁并延伸至安装箱的内部,通过设置发生机构,当需要对安装箱内部的水进行拨动时,操作人员可开启电机,使电机带着输出轴转动,输出轴带着拨动风扇转动,使拨动风扇对安装箱内部的水进行拨动,以更好的对半导体晶片进行清洗,输出轴带着转动杆转动,转动杆带着从动杆通过限位框带着超声波发生器进行往复摆动,以使超声波发生器能够更好的对内部水进行拨动。

7、优选的,所述驱动电机的输出端固定安装有输出轴,所述输出轴的底部外壁固定安装有拨动风扇,所述输出轴的外壁固定套设有转动杆,所述转动杆的另一端活动安装有从动杆,通过此设置,可对超声波发生器进行往复摆动。

8、优选的,所述安装箱的内壁固定安装有限位框,所述限位框的内部设置有超声波发生器,所述超声波发生器的一端与移动杆的另一端固定连接,通过此设置,可使超声波发生器对内部的水进行拨动。

9、本技术提供了一种半导体晶片的清洗装置。该半导体晶片的清洗装置具备以下有益效果:

10、(1)、该半导体晶片的清洗装置,通过设置固定机构,操作人员可将半导体晶片放置在清洗箱的内部,拉动拉杆,使拉杆带着夹持板进行拉动,将半导体晶片放置在夹持板的内部,然后释放拉杆,使夹持板通过连接弹簧的弹力对半导体晶片进行夹持,以提高其在清洗过程中的稳定性;

11、(2)、该半导体晶片的清洗装置,通过设置发生机构,当需要对安装箱内部的水进行拨动时,操作人员可开启电机,使电机带着输出轴转动,输出轴带着拨动风扇转动,使拨动风扇对安装箱内部的水进行拨动,以更好的对半导体晶片进行清洗,输出轴带着转动杆转动,转动杆带着从动杆通过限位框带着超声波发生器进行往复摆动,以使超声波发生器能够更好的对内部水进行拨动。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种半导体晶片的清洗装置,包括安装箱(1);

2.根据权利要求1所述的一种半导体晶片的清洗装置,其特征在于:所述固定机构(41)包括固定安装在安装箱(1)侧壁的导杆(411),所述导杆(411)的外壁滑动设置有移动杆(412),所述安装箱(1)的外壁固定安装有固定架(413),所述固定架(413)的内壁顶部固定安装有电动伸缩杆(414),所述电动伸缩杆(414)的底部与固定架(413)的顶部固定连接,所述固定架(413)的顶部与清洗箱(3)的底部固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种半导体晶片的清洗装置,其特征在于:所述清洗箱(3)的内壁底部固定安装有矩形板(415),所述矩形板(415)的内部滑动设置有拉杆(416),所述拉杆(416)的另一端固定安装有夹持板(417),所述夹持板(417)的侧面固定安装有连接弹簧(418),所述连接弹簧(418)的另一端与矩形板(415)的侧面固定连接。

4.根据权利要求3所述的一种半导体晶片的清洗装置,其特征在于:所述夹持板(417)的数量有两个,两个所述夹持板(417)大小大小相等,两个所述夹持板(417)沿清洗箱(3)的中心面对称设置。

5.根据权利要求1所述的一种半导体晶片的清洗装置,其特征在于:所述发生机构(42)包括固定安装在安装箱(1)外壁的支撑杆(421),所述支撑杆(421)的另一端固定安装有驱动电机(422),所述驱动电机(422)活动贯穿安装箱(1)的外壁并延伸至安装箱(1)的内部。

6.根据权利要求5所述的一种半导体晶片的清洗装置,其特征在于:所述驱动电机(422)的输出端固定安装有输出轴(423),所述输出轴(423)的底部外壁固定安装有拨动风扇(424),所述输出轴(423)的外壁固定套设有转动杆(425),所述转动杆(425)的另一端活动安装有从动杆(426)。

7.根据权利要求1所述的一种半导体晶片的清洗装置,其特征在于:所述安装箱(1)的内壁固定安装有限位框(427),所述限位框(427)的内部设置有超声波发生器(428),所述超声波发生器(428)的一端与移动杆(412)的另一端固定连接。

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【技术特征摘要】

1.一种半导体晶片的清洗装置,包括安装箱(1);

2.根据权利要求1所述的一种半导体晶片的清洗装置,其特征在于:所述固定机构(41)包括固定安装在安装箱(1)侧壁的导杆(411),所述导杆(411)的外壁滑动设置有移动杆(412),所述安装箱(1)的外壁固定安装有固定架(413),所述固定架(413)的内壁顶部固定安装有电动伸缩杆(414),所述电动伸缩杆(414)的底部与固定架(413)的顶部固定连接,所述固定架(413)的顶部与清洗箱(3)的底部固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种半导体晶片的清洗装置,其特征在于:所述清洗箱(3)的内壁底部固定安装有矩形板(415),所述矩形板(415)的内部滑动设置有拉杆(416),所述拉杆(416)的另一端固定安装有夹持板(417),所述夹持板(417)的侧面固定安装有连接弹簧(418),所述连接弹簧(418)的另一端与矩形板(415)的侧面固定连接。

4.根据权利要求3所述的一种半导体晶片的清洗装置,其特征在于:所述夹持板(417)的数量有...

【专利技术属性】
技术研发人员:李杰殷军伟
申请(专利权)人:梯牧半导体科技上海有限公司
类型:新型
国别省市:

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