【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于激光直写，尤其涉及到立体线路的曝光方法、装置及相关设备。
技术介绍
1、参考图1，某种精密、体积较小的物品10的表面(可以是外表面，也可以是内表面，还可以同时是内表面和外表面，本申请中仅举例为外表面的情形，本申请中的物品，例如可以是需要内表面和/或外表面铺设线路的：手机显示屏、精密电子元器件、微型耳机)由外侧面abcdefgha-a’b’c’d’e’f’g’h’a’、上平面abcdefgha和下平面abcdefgha围合而成。在物品10的外侧面，铺设有呈任意形状分布的待曝光的立体线路，用第一图像a”b”c”d”e”f”g”h”a”表示。由于外侧面是不规则曲面，且立体线路激光读写装置无法对布设其上的立体线路实现准确曝光。
技术实现思路
1、本专利技术提供了一种立体线路曝光的方法、装置及相关设备，其目的在于解决对铺设在物品表面上的立体线路的曝光不准确的问题。
2、本专利技术的方案如下：
3、一种立体线路的曝光方法，包括：
4、步骤1:将铺设在物品表面上的立体线路的第一图像处理成n幅第一子图像，n幅所述第一子图像分别被正投影到n个投影面上，得到n幅第二子图像；
5、步骤2：根据n幅所述第二子图像及对应的所述投影面，制得n块掩膜平板；
6、步骤3：利用至少一块激光模组发出的平行光束垂直照射n块掩膜平板，平行光束分别透过n幅所述第二子图像，对所述立体线路所在的感光涂层曝光。
7、进一步地，步骤1中，将每一幅
8、步骤11：将任意一幅第一子图像上的若干第一像素点的任意第k个第一像素点q的坐标(xnk,ynk,znk)，正投影到对应的投影面，得到其在对应投影面上的第二像素点q1的坐标为(xnk1,ynk1,znk1)，
9、步骤12：根据步骤11的方法，将所述任意一幅子图像的剩余第一像素点正投影到对应投影面上，得到若干第二像素点；
10、步骤13：将所有第二像素点依次组成与任意一幅第一子图像所述对应的第二子图像。
11、进一步地，所述激光模组有一个或多个，每个所述激光模组均包括激光光源、成像凸透镜和准直凸透镜，所述激光光源位于所述成像凸透镜的光轴一侧的焦点处，所述激光光源发出的激光光束经所述成像凸透镜透射后，入射至所述准直凸透镜，再经所述准直凸透镜平行射出，形成平行光束后垂直入射至对应的掩膜平板上，穿过所述掩膜平板上的所述第二子图像，对所述立体线路曝光；
12、其中，平行光束的照射范围不小于掩膜平板所占据的投影面范围。
13、进一步地，所述激光光源在曝光相邻的两第一子图像时，被重复曝光的部分第一子图像所需要的激光总功率大于等于只被曝光一次的那部分第一子图像所需要的激光功率。
14、进一步地，所述激光模组的数量与投影面的数量n相等。
15、进一步地，当n取3时，3个掩膜平板互成120°夹角，3个激光模组各自发出的平行光束均分别垂直入射对应的掩膜平板。
16、本专利技术还公开了一种立体线路的曝光装置，包括：
17、图像获取模块，用于：将铺设在物品上的立体线路的第一图像处理成n幅第一子图像，将每一幅第一子图像分别正投影到n个投影面上，得到n幅第二子图像；
18、掩膜制作模块，用于：根据n幅第二子图像及对应的投影面，制得n块掩膜平板；
19、激光模组发出的平行光束分别垂直入射在n块掩膜平板并穿过所述n幅第二子图像，对所述立体线路曝光。
20、进一步地，所述立体线路曝光装置还包括处理模块，用于：在曝光过程中，控制对于被重复曝光的那部分第一子图像所需要的激光总功率大于等于只被曝光一次的那部分第一子图像所需要的激光功率。
21、本专利技术还公开了一种存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如前所述的立体线路的曝光方法的步骤。
22、本专利技术还公开了一种计算机设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行程序时实现如前所述的立体线路的曝光方法的步骤。
23、本专利技术的技术效果：先将物品上的立体线路的第一图像处理成n幅第一子图像；将每一幅第一子图像上的所有第一像素点分别正投影到对应的投影面上，得到对应的若干第二像素点，若干第二像素点组成一幅第二子图像，如此便得到与n幅第一子图像一一对应的n幅第二子图像；利用n幅第二子图像及对应的投影面，制得n块掩膜平板；然后用至少一块激光模组发出的平行光束分别垂直照射n块掩膜平板，以使得平行光束能穿过每一块掩膜平板上的第二子图像，对物品上的立体线路曝光。由于每一幅第二子图像均由对应的第一子图像正投影得到，在曝光的时候，又是利用激光模组垂直照射对应的掩膜平面，使得激光模组发出的平行光束能透过第二子图像，实现对对应的第一子图像精确曝光，最终实现了对铺设在物品内表面和/或外表面上的立体线路精确曝光。
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1.一种立体线路的曝光方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的立体线路曝光方法，其特征在于，步骤1中，将每一幅第一子图像分别正投影到N个投影面上，得到N幅第二子图像，具体包括：
3.如权利要求2所述的立体线路的曝光方法，其特征在于，所述激光模组有一个或多个，每个所述激光模组均包括激光光源、成像凸透镜和准直凸透镜，所述激光光源位于所述成像凸透镜的光轴一侧的焦点处，所述激光光源发出的激光光束经所述成像凸透镜透射后，入射至所述准直凸透镜，再经所述准直凸透镜平行射出，形成平行光束后垂直入射至对应的掩膜平板上，穿过所述掩膜平板上的所述第二子图像，对所述立体线路曝光；
4.如权利要求3所述的立体线路的曝光方法，其特征在于，所述激光光源在曝光相邻的两幅第一子图像时，被两次曝光的部分第一子图像所需要的激光总功率大于等于只被一次曝光的那部分第一子图像所需要的激光功率。
5.如权利要求1所述的立体线路的曝光方法，其特征在于，所述激光模组的数量与投影面的数量N相等。
6.如权利要求5所述的立体线路的曝光方法，其特征在于，当N取3时，3
7.一种立体线路的曝光装置，其特征在于，包括：
8.如权利要求7所述的立体线路曝光装置，其特征在于，所述立体线路曝光装置还包括处理模块，用于：在曝光过程中，控制被两次曝光的那部分第一子图像所需要的激光总功率大于等于只被一次曝光的那部分第一子图像所需要的激光功率。
9.一种存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至6中任一项立体线路的曝光方法的步骤。
10.一种计算机设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行程序时实现如权利要求1至6中任一项立体线路的曝光方法的步骤。
...【技术特征摘要】
1.一种立体线路的曝光方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的立体线路曝光方法，其特征在于，步骤1中，将每一幅第一子图像分别正投影到n个投影面上，得到n幅第二子图像，具体包括：
3.如权利要求2所述的立体线路的曝光方法，其特征在于，所述激光模组有一个或多个，每个所述激光模组均包括激光光源、成像凸透镜和准直凸透镜，所述激光光源位于所述成像凸透镜的光轴一侧的焦点处，所述激光光源发出的激光光束经所述成像凸透镜透射后，入射至所述准直凸透镜，再经所述准直凸透镜平行射出，形成平行光束后垂直入射至对应的掩膜平板上，穿过所述掩膜平板上的所述第二子图像，对所述立体线路曝光；
4.如权利要求3所述的立体线路的曝光方法，其特征在于，所述激光光源在曝光相邻的两幅第一子图像时，被两次曝光的部分第一子图像所需要的激光总功率大于等于只被一次曝光的那部分第一子图像所需要的激光功率。
5.如权利要求1所述的立体线路的曝光...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈乃奇，陈钢，
申请(专利权)人：深圳市先地图像科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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