【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及太赫兹成像，具体涉及一种太赫兹暗场原子成像装置。
技术介绍
1、传统暗场显微成像技术受波长的衍射极限影响，分辨率只有几百微米，难以实现亚波长成像测量；传统暗场显微成像技术使用中央遮光板，使光源的中央光束被阻挡.不能直接通过成像物体进入物镜，因而中央光束被阻挡整个视野是黑暗的。环形光线经透镜倾斜地聚焦在成像物体上，倾斜光遇到成像物体发生反射(或散射)和衍射，反射(或散射)光被光阑遮挡，而衍射的光线投入物镜内进行成像。传统暗场显微成像技术在暗场中所观察到的是成像物体的衍射光图像.并非物体的本身，所以一般暗视野显微镜只能看到物体的存在和运动，不能辨清物体的细微结构。
2、太赫兹暗场原子成像装置结合了太赫兹原子成像和太赫兹涡旋光暗场成像技术，利用里德堡原子操控的成像技术，将原子气室作为太赫兹暗场成像的面探测器，实现对物体内部细微结构的高对比度成像。考虑到目前太赫兹暗场原子成像装置仅满足实验室的实验需求，因此有必要研发出一种能够用于实际应用的太赫兹暗场原子成像装置。
技术实现思路
1、本专利技术要解决的技术问题是提供一种太赫兹暗场原子成像装置，能够用于实际应用，其成像具有优于传统电子学探测器的高灵敏度，成像清晰度更高，分辨率更高。
2、为解决上述问题，本专利技术采用如下技术方案：
3、一种太赫兹暗场原子成像装置，包括太赫兹暗场照明模块、太赫兹原子成像模块和暗室套筒。
4、所述太赫兹暗场照明模块包含有太赫兹源、太赫兹第一透镜、太赫兹
5、所述太赫兹原子成像模块包含有第二金属光阑、太赫兹第三透镜、原子气室、成像透镜、ccd相机和光片供给组件。
6、所述太赫兹源、太赫兹第一透镜、太赫兹第二透镜、太赫兹螺旋相位板和第一金属光阑均位于所述暗室套筒内。
7、所述第二金属光阑、太赫兹第三透镜、原子气室、成像透镜和ccd相机均位于暗室套筒内。
8、暗室套筒上设置有穿孔，所述穿孔用于供所述光片供给组件所产生的光片进入所述暗室套筒内，所述光片供给组件所产生的光片配置为射入所述原子气室内。
9、本公开至少一实施例提供的太赫兹暗场原子成像装置中，所述光片供给组件包含有第一激光器、第二激光器、第三激光器、第一柱透镜组、第一反射镜、第二柱透镜组、二向色镜、第二反射镜、第三柱透镜组。
10、所述第一激光器用于提供里德堡激光。
11、所述第二激光器用于提供探测光。
12、所述第三激光器用于提供耦合光。
13、所述第一柱透镜组用于将所述第一激光器射出的里德堡激光整形成里德堡激光光片，所述第一反射镜用于将从所述第一柱透镜组射出的里德堡激光光片折射进所述原子气室内。
14、所述第二柱透镜组将所述第二激光器射出的探测光光束整形成探测光光片，所述二向色镜用于将从所述第二柱透镜组射出的光片折射进所述原子气室内，并与所述里德堡激光光片对射。
15、所述第二反射镜用于将所述第三激光器射出的耦合光折射至所述第三柱透镜组，所述第三柱透镜组用于将所述第三激光器射出的耦合光光束整形成耦合光光片。
16、所述第三柱透镜组位于第二反射镜和二向色镜之间。
17、所述二向色镜配置透射从所述第三柱透镜组发出的耦合光光片，以使所述第三柱透镜组射出的耦合光光片与所述第二柱透镜组射出的探测光光片重合。
18、本公开至少一实施例提供的太赫兹暗场原子成像装置中，所述所述探测光的波长为852nm。
19、本公开至少一实施例提供的太赫兹暗场原子成像装置中，所述耦合光的波长为1470nm。
20、本公开至少一实施例提供的太赫兹暗场原子成像装置中，所述里德堡激光的波长为843nm。
21、本公开至少一实施例提供的太赫兹暗场原子成像装置中，所述二向色镜为长波通二向色镜。
22、本公开至少一实施例提供的太赫兹暗场原子成像装置中，所述暗室套筒为黑色亚克力板材质。
23、本专利技术的有益效果为：
24、1、使用原子气室作为太赫兹暗场原子成像装置的面探测器，里德堡原子气室具有高灵敏度，高分辨率、实时成像等特点。太赫兹原子成像具有优于传统电子学探测器的高灵敏度，成像清晰度更高，分辨率更高。
25、2、太赫兹原子成像与太赫兹涡旋光暗场成像的结合可以实现物体内部的细微结构高对比度成像同时突破衍射极限实现高分辨率实时成像。可用于无损检测和成像具有广泛的应用前景。
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1.一种太赫兹暗场原子成像装置，其特征在于，包括：太赫兹暗场照明模块、太赫兹原子成像模块和暗室套筒；
2.根据权利要求1所述的一种太赫兹暗场原子成像装置，其特征在于，所述光片供给组件包含有第一激光器、第二激光器、第三激光器、第一柱透镜组、第一反射镜、第二柱透镜组、二向色镜、第二反射镜、第三柱透镜组；
3.根据权利要求2所述的一种太赫兹暗场原子成像装置，其特征在于，所述所述探测光的波长为852nm。
4.根据权利要求3所述的一种太赫兹暗场原子成像装置，其特征在于，所述耦合光的波长为1470nm。
5.根据权利要求4所述的一种太赫兹暗场原子成像装置，其特征在于，所述里德堡激光的波长为843nm。
6.根据权利要求5所述的一种太赫兹暗场原子成像装置，其特征在于，所述二向色镜为长波通二向色镜。
7.根据权利要求6所述的一种太赫兹暗场原子成像装置，其特征在于，所述暗室套筒为黑色亚克力板材质。
【技术特征摘要】
1.一种太赫兹暗场原子成像装置，其特征在于，包括：太赫兹暗场照明模块、太赫兹原子成像模块和暗室套筒；
2.根据权利要求1所述的一种太赫兹暗场原子成像装置，其特征在于，所述光片供给组件包含有第一激光器、第二激光器、第三激光器、第一柱透镜组、第一反射镜、第二柱透镜组、二向色镜、第二反射镜、第三柱透镜组；
3.根据权利要求2所述的一种太赫兹暗场原子成像装置，其特征在于，所述所述探测光的波长为852nm。
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