【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体生产，具体涉及一种燃烧控制系统及燃烧设备。
技术介绍
1、现有技术中，在半导体生产过程中，需要使用多种特殊气体辅助，特殊气体用于辅助干蚀刻如电介质、导体和多晶硅蚀刻工艺、化学气相沉积如电介质和金属沉积气相沉积工艺、扩散和离子注入工艺。
2、在半导体生产机台生产进程中的通入特殊气体的步骤时需要处理尾气，尾气进入附属机台的两个腔体后需要辅以天然气将其燃烧处理。现有的半导体生产机台进行非主要工艺流程或停机状态时，由于附属机台的两个腔体内没有可以处理的气体，附属机台会控制天然气进入附属机台的两个腔体内，两个腔体内同时燃烧天然气，消耗的天然气的量比较大；而且半导体生产机台在停机不跑货的情况下，附属机台不需要处理特殊气体的尾气，一直向附属机台的两个腔体内通入大量的天然气，不仅浪费了天然气资源，还增加了运营成本。
3、因此，如何避免在半导体生产机台停机时附属机台的腔室内持续消耗天然气是目前亟待解决的问题。
技术实现思路
1、鉴于此，本申请提供一种燃烧控制系统及燃烧...
【技术保护点】
1.一种燃烧控制系统，其特征在于，包括工作模块和控制模块，所述工作模块和所述控制模块连接；
2.如权利要求1所述的燃烧控制系统，其特征在于，所述工作模块还包括第二燃烧腔，所述第二燃烧腔通过第四管道与所述第二管道连接，所述第四管道与所述第二管道连接处设置有三通阀。
3.如权利要求1所述的燃烧控制系统，其特征在于，所述工作模块还包括气体输送装置，所述第二管道通过所述气体输送装置与所述反应腔体连接。
4.如权利要求2所述的燃烧控制系统，其特征在于，所述工作模块还包括排气装置，所述排气装置包括排风管和排风机构，所述排风管的进气口端通过第五管...
【技术特征摘要】
1.一种燃烧控制系统，其特征在于，包括工作模块和控制模块，所述工作模块和所述控制模块连接；
2.如权利要求1所述的燃烧控制系统，其特征在于，所述工作模块还包括第二燃烧腔，所述第二燃烧腔通过第四管道与所述第二管道连接，所述第四管道与所述第二管道连接处设置有三通阀。
3.如权利要求1所述的燃烧控制系统，其特征在于，所述工作模块还包括气体输送装置，所述第二管道通过所述气体输送装置与所述反应腔体连接。
4.如权利要求2所述的燃烧控制系统，其特征在于，所述工作模块还包括排气装置，所述排气装置包括排风管和排风机构，所述排风管的进气口端通过第五管道连接所述第一燃烧腔的出气口和第二燃烧腔的出气口，所述排风机构连接所述排风管的出气口端。
5.如权利要求2所述的燃烧控制系统，其特征在于，所述第三管道包括燃气管、第一支管和第二支管，所述燃气管的一端连接所述燃气提供装置...
【专利技术属性】
技术研发人员：王凯，巩雨锋，
申请(专利权)人：粤芯半导体技术股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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