【技术实现步骤摘要】
本技术涉及测量设备领域,具体涉及一种厚度检测装置。
技术介绍
1、晶圆是半导体的薄片,例如晶体硅,用于制造集成电路,晶圆就是硅做的硅晶片,因为是圆形的,称为晶圆,它主要用于硅半导体集成电路,在晶圆的生产中,需要对晶圆的厚度进行检测,检测方式通常有两种,一种是通过非接触式传感器对晶圆进行检测,但由于晶圆表面为镜面,会使检测光线发生偏移,因此通过非接触式传感器检测误差较大,因此大多采用接触式传感器对其厚度进行检测,但在实际操作中,将晶圆放置在检测台上时,晶圆表面直接与检测台台面接触,接触面积较大,在检测完成后移动晶圆时,由于较大的接触面积会造成较大的摩擦力,因此晶圆在移动时其与台面的接触面容易受到划伤。
技术实现思路
1、为解决上述技术问题,本技术提供一种厚度检测装置,包括操作台,所述操作台上通过连接组件活动安装有若干支撑件,所述支撑件顶面高度高于所述操作台台面,所述支撑件用以对待测物进行支撑;
2、所述操作台上安装有检测装置,所述检测装置位于所述支撑件上方,将待测物放置在所述支撑件上后,通过检测装置对所述支撑件上的待测物进行厚度检测。
3、优选的:所述连接组件包括调节杆,所述支撑件固定安装在所述调节杆一端,所述调节杆通过螺纹安装在所述操作台中,通过转动所述调节杆调节所述支撑件的高度。
4、优选的:所述操作台上还固定安装有固定座,所述固定座上设置有检测座,所述固定座位于所述检测装置下方。
5、优选的:所述操作台底部固定安装有若干支脚。
...【技术保护点】
1.一种厚度检测装置,其特征在于,包括操作台(1),所述操作台(1)上通过连接组件(201)活动安装有若干支撑件(2),所述支撑件(2)顶面高度高于所述操作台(1)台面,所述支撑件(2)用以对待测物进行支撑;
2.根据权利要求1所述的一种厚度检测装置,其特征在于,所述连接组件(201)包括调节杆(202),所述支撑件(2)固定安装在所述调节杆(202)一端,所述调节杆(202)通过螺纹安装在所述操作台(1)中,通过转动所述调节杆(202)调节所述支撑件(2)的高度。
3.根据权利要求2所述的一种厚度检测装置,其特征在于,所述操作台(1)上还固定安装有固定座(101),所述固定座(101)上设置有检测座(102),所述固定座(101)位于所述检测装置(3)下方。
4.根据权利要求1所述的一种厚度检测装置,其特征在于,所述操作台(1)底部固定安装有若干支脚(104)。
5.根据权利要求4所述的一种厚度检测装置,其特征在于,所述操作台(1)一侧开设有v型槽(103),所述v型槽(103)贯穿所述操作台(1)设置。
6.根据权利
7.根据权利要求6所述的一种厚度检测装置,其特征在于,所述控制组件(4)包括壳体(401)和控制器(402),所述控制器(402)固定安装在所述壳体(401)内部,所述检测装置(3)通过导线与所述控制器(402)电性连接。
8.根据权利要求6所述的一种厚度检测装置,其特征在于,所述检测装置(3)具体为接触式厚度传感器。
9.根据权利要求4所述的一种厚度检测装置,其特征在于,所述支脚(104)具体数量为4-6个。
10.根据权利要求7所述的一种厚度检测装置,其特征在于,所述壳体(401)的两侧均设置有散热风扇(403)。
...【技术特征摘要】
1.一种厚度检测装置,其特征在于,包括操作台(1),所述操作台(1)上通过连接组件(201)活动安装有若干支撑件(2),所述支撑件(2)顶面高度高于所述操作台(1)台面,所述支撑件(2)用以对待测物进行支撑;
2.根据权利要求1所述的一种厚度检测装置,其特征在于,所述连接组件(201)包括调节杆(202),所述支撑件(2)固定安装在所述调节杆(202)一端,所述调节杆(202)通过螺纹安装在所述操作台(1)中,通过转动所述调节杆(202)调节所述支撑件(2)的高度。
3.根据权利要求2所述的一种厚度检测装置,其特征在于,所述操作台(1)上还固定安装有固定座(101),所述固定座(101)上设置有检测座(102),所述固定座(101)位于所述检测装置(3)下方。
4.根据权利要求1所述的一种厚度检测装置,其特征在于,所述操作台(1)底部固定安装有若干支脚(104)。
5.根据权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员:王中杰,谭柳健,安普运,王中旺,谷植坤,黄军久,刘奎,
申请(专利权)人:三河汇电子机械设备上海有限公司,
类型:新型
国别省市:
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