【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体工艺，尤其是涉及一种用于物理气相沉积氮化钛工艺反应腔维护保养时的防护装置。
技术介绍
1、目前对物理气相沉积氮化钛反应腔设备维护与保养时，需要定期打磨反应腔体。在用砂纸打磨时微尘粒子和无尘布容易掉进反应腔和涡轮泵之间的管道内以及涡轮泵内，一旦无尘布掉入，会直接造成涡轮泵损坏、反应腔及管道污染，从而影响管道和反应腔的清洁度以及设备维护与保养的成功率，进而影响设备效率和涡轮泵使用寿命。
技术实现思路
1、有鉴于此，本申请的目的在于提供一种半导体设备维保防护装置，以解决物理气相沉积氮化钛反应腔进行设备维护与保养时，容易造成涡轮泵损坏、反应腔及管道污染，从而影响管道和反应腔的清洁度以及设备维护与保养的成功率的问题。
2、本技术提供了一种半导体设备维保防护装置，反应腔和涡轮泵通过管道连通，所述反应腔的内壁形成有连接所述管道的抽速口，其中，所述一种半导体设备维保防护装置包括：
3、防护主体，与所述抽速口连接，所述防护主体与所述反应腔上设置有所述抽速口的部位相贴合...
【技术保护点】
1.一种半导体设备维保防护装置，反应腔和涡轮泵通过管道连通，所述反应腔的内壁形成有连接所述管道的抽速口，其特征在于，所述一种半导体设备维保防护装置包括：
2.根据权利要求1所述的一种半导体设备维保防护装置，其特征在于，所述定位部与所述管道仿形适配，使得所述定位部的侧壁与所述管道的内壁相贴合。
3.根据权利要求2所述的一种半导体设备维保防护装置，其特征在于，所述防护主体背向所述抽速口的一面形成有凸出的拆装部。
4.根据权利要求3所述的一种半导体设备维保防护装置，其特征在于，所述拆装部形成为与所述定位部呈角度设置的板状结构。
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。