制造显示装置的方法制造方法及图纸

技术编号:40312975 阅读:19 留言:0更新日期:2024-02-07 20:55
一种制造显示装置的方法包括:在设置于发光层上的封装层上形成有机层;在所述有机层上形成狭缝层,其中,暴露所述有机层的顶表面的至少一部分的狭缝形成在所述狭缝层中;通过经由使用所述狭缝层作为掩模对所述有机层执行初次蚀刻来形成第一沟槽;形成覆盖所述第一沟槽的侧表面的第一无机保护层;通过经由使用所述狭缝层作为掩模对所述有机层执行二次蚀刻来形成从所述第一沟槽延伸的第二沟槽;以及形成填充所述第一沟槽和所述第二沟槽的阻光材料。

【技术实现步骤摘要】

实施例总体上提供了一种制造显示装置的方法


技术介绍

1、随着信息技术发展,显示装置作为用户和信息之间的连接媒介的重要性日益突出。例如,诸如液晶显示装置(lcd)、有机发光显示装置(oled)、等离子显示装置(pdp)或量子点显示装置等的显示装置的使用正在增加。


技术实现思路

1、在显示装置中,尽管对视角没有限制,但是出于诸如隐私保护的原因,可能需要限制视角。

2、实施例提供了一种制造显示装置的方法。

3、实施例提供了一种由该方法制造的显示装置。

4、一种制造显示装置的方法的实施例包括:在设置于发光层上的封装层上形成有机层;在有机层上形成狭缝层,其中,暴露有机层的顶表面的至少一部分的狭缝形成在狭缝层中;通过经由使用狭缝层作为掩模对有机层执行初次蚀刻来形成第一沟槽;形成覆盖第一沟槽的侧表面的第一无机保护层;通过经由使用狭缝层作为掩模对有机层执行二次蚀刻来形成从第一沟槽延伸的第二沟槽;以及形成填充第一沟槽和第二沟槽的阻光材料。

5、在实施例中,有机层的厚度可以小于或本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种制造显示装置的方法,其中,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述形成所述狭缝层包括:

3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述金属层包括铝。

4.根据权利要求1所述的方法,其中,所述初次蚀刻和所述二次蚀刻中的每一者为干法蚀刻。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述形成所述第一无机保护层包括:

6.根据权利要求5所述的方法,其中,所述第一无机保护层包括透明材料。

7.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一沟槽的高度不同于所述第二沟槽的高度。

8.根据权利要求7所述的方法,其中...

【技术特征摘要】

1.一种制造显示装置的方法,其中,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述形成所述狭缝层包括:

3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述金属层包括铝。

4.根据权利要求1所述的方法,其中,所述初次蚀刻和所述二次蚀刻中的每一者为干法蚀刻。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述形成所述第一无机保护层包括:

6.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:金是广金雄植裵东焕边镇洙
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:发明
国别省市:

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