【技术实现步骤摘要】
本技术涉及太阳能电池及半导体制造领域,具体涉及一种电镀设备。
技术介绍
1、电镀是利用电解作用使金属或其它料件的表面附着一层金属膜的工艺。
2、现有的电镀设备包括垂直电镀、水平电镀,垂直电镀主要包括垂直升降式电镀和垂直连续式电镀,垂直升降式电镀的产量为1800-3600半片/小时,碎片率在0.04%左右,产能低,碎片率高。垂直连续式电镀的产量为3600-7200半片/小时,碎片率小于0.04%,较垂直升降式电镀的产能有所提高、碎片率降低。水平连续电镀的产量达到6000整片/小时,碎片率在0.02%左右。上述电镀设备结构复杂,如2019年8月2日公布的cn209194097u一种水平连续电镀装置,或者2018年1月19日公布的cn206902276u一种垂直升降式电镀装置,其都需要额外设置驱动装置以在电镀过程中运输料件。另外,在电镀过程中料件需要移动,更容易导致碎片。如何提升电镀产能、降低碎片率是料件电镀工艺提升和改善的方向。
技术实现思路
1、为了克服现有技术中的缺陷,本技术提
...【技术保护点】
1.一种电镀设备,其特征在于,所述电镀设备包括电镀单元和储液槽,
2.如权利要求1所述的电镀设备,其特征在于,所述插架可拆卸的连接于所述电镀槽内。
3.如权利要求1所述的电镀设备,其特征在于,所述插架包括底部挡板、连接于所述底部挡板两端的连接板、设置于所述连接板间的侧边档条,在所述侧边档条间设置插设料件的插槽。
4.如权利要求3所述的电镀设备,其特征在于,所述电镀槽内底部设有凹槽,所述插架的底部设有立柱,当所述立柱插入所述凹槽时,所述底部挡板正对所述金属板。
5.如权利要求4所述的电镀设备,其特征在于,合上所述盖板时,所
...【技术特征摘要】
1.一种电镀设备,其特征在于,所述电镀设备包括电镀单元和储液槽,
2.如权利要求1所述的电镀设备,其特征在于,所述插架可拆卸的连接于所述电镀槽内。
3.如权利要求1所述的电镀设备,其特征在于,所述插架包括底部挡板、连接于所述底部挡板两端的连接板、设置于所述连接板间的侧边档条,在所述侧边档条间设置插设料件的插槽。
4.如权利要求3所述的电镀设备,其特征在于,所述电镀槽内底部设有凹槽,所述插架的底部设有立柱,当所述立柱插入所述凹槽时,所述底部挡板正对所述金属板。
5.如权利要求4所述的电镀设备,其特征在于,合上所述盖板时,所述金属板和所...
【专利技术属性】
技术研发人员:傅建奇,孟飞,杨阳,
申请(专利权)人:库特勒自动化系统苏州有限公司,
类型:新型
国别省市:
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