【技术实现步骤摘要】
本技术涉及酸洗机，尤其涉及一种单晶片自动酸洗机。
技术介绍
1、半导体单晶抛光片污染杂质后，在实际清洗处理中，常采用物理或化学反应的方法去除，有机物主要来源于清洗容积、机械油、真空脂、人体油脂、光刻胶等方面，在实际清洗环节可采取双氧水或酸性溶液去除，氧化物主要是相应半导体单晶抛光片在自然含氧环境中形成的，且在后期会形成较为严重的化学缺陷，在实际清洗环节可采用稀氢氟酸或稀盐酸进行浸泡处理，由于单晶片根据不同的污染物其所需要的清洗溶液ph值不同，现有的酸洗机无法对配置完成的溶液进行实时酸碱度的调节测定，需要进行多次配液重复浸泡，比较浪费时间，同时传统浸泡液体没有流动性或流动性较弱，溶液混合不均匀，ph值不均匀稳定，且单晶片上的污染物无法及时过滤排出，容易对单晶片进行二次污染的问题。
技术实现思路
1、本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种单晶片自动酸洗机。
2、为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：包括箱体，所述箱体的内侧固定连接有抗腐蚀层，所述箱体的底部固...
【技术保护点】
1.一种单晶片自动酸洗机，包括箱体（1），其特征在于：所述箱体（1）的内侧固定连接有抗腐蚀层（2），所述箱体（1）的底部固定连接有若干个调节底座（3），所述调节底座（3）相对箱体（1）的底部中心处呈十字对称分布，所述箱体（1）的内侧中部设置有放置网框（4），所述放置网框（4）的前后两侧顶端与箱体（1）上下卡合连接，所述箱体（1）的顶部后侧转动连接有转筒（5），所述转筒（5）的前侧固定连接有密封盖（6）；
2.根据权利要求1所述的一种单晶片自动酸洗机，其特征在于：所述放置网框（4）的左右两侧底部对称固定连接有pH值测定板。
3.根据权利要求1所述...
【技术特征摘要】
1.一种单晶片自动酸洗机，包括箱体（1），其特征在于：所述箱体（1）的内侧固定连接有抗腐蚀层（2），所述箱体（1）的底部固定连接有若干个调节底座（3），所述调节底座（3）相对箱体（1）的底部中心处呈十字对称分布，所述箱体（1）的内侧中部设置有放置网框（4），所述放置网框（4）的前后两侧顶端与箱体（1）上下卡合连接，所述箱体（1）的顶部后侧转动连接有转筒（5），所述转筒（5）的前侧固定连接有密封盖（6）；
2.根据权利要求1所述的一种单晶片自动酸洗机，其特征在于：所述放置网框（4）的左右两侧底部对称固定连接有ph值测定板。
3.根据权利要求1所述的一种单晶片自动酸洗机，其特征在于：位于所述箱体（1）左侧的配液...
【专利技术属性】
技术研发人员：吕明，
申请(专利权)人：山东科芯电子有限公司，
类型：新型
国别省市：
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