【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及对色谱图拟合模型函数的模型函数拟合装置及模型函数拟合方法。
技术介绍
1、为了进行由色谱仪测量出的波形的定量与定性，提出有非专利文献1所示那样的各种模型函数。在应用于峰分离算法时，对于模型函数，要求能够对实测波形高精度地进行拟合，并且对于任意的参数取与色谱图的峰波形不同的形状的可能性低。为了应对这些要求，例如使用非专利文献2所示的emg函数、bemg函数。
2、非专利文献1：“峰拟合”，株式会社hulinks，[2021年6月4日检索]，<url：https://www.hulinks.co.jp/software/da_visual/peakfit/functions#chorom>
3、非专利文献2：“光电二极管阵列探测器数据处理新方法(new data processingmethod for photodiode array detectors)”，株式会社岛津制作所，[2021年6月4日检索]，<url：https://www.shimadzu.com/an/sites/...
【技术保护点】
1.一种模型函数拟合装置，其特征在于，具备：
2.如权利要求1所述的模型函数拟合装置，其特征在于，所述拟合部对所述模型函数施加所述对数函数的二次差分为非正这样的限制。
3.如权利要求2所述的模型函数拟合装置，其特征在于，所述拟合部通过使用广义加性模型，对所述色谱图拟合所述模型函数。
4.如权利要求2或者权利要求3所述的模型函数拟合装置，其特征在于，用于1个峰或者多个峰的面积计算。
5.如权利要求2或者权利要求3所述的模型函数拟合装置，其特征在于，作为所述模型函数的初始值，所述模型函数的所述对数函数使用对Sigmoid函数...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种模型函数拟合装置，其特征在于，具备：
2.如权利要求1所述的模型函数拟合装置，其特征在于，所述拟合部对所述模型函数施加所述对数函数的二次差分为非正这样的限制。
3.如权利要求2所述的模型函数拟合装置，其特征在于，所述拟合部通过使用广义加性模型，对所述色谱图拟合所述模型函数。
4.如权利要求2或者权利要求3所述的模型函数拟合装置，其特征在于，用于1个峰或者多个峰的面积计算。
5.如权利要求2或者权利要求3所述的模型函数拟合装置，其特征在于，作为所述模型函数的初始值，所述模型函数的所述对数函数使用对sigmoid函数乘以常数而得的式子加上常数后的函数进行积分而得到的函数。
6.如权利要求1所述的模型函数拟合装置，其特征在于，所述拟合部使用对sigmoid函数乘以常数而得的式子加上常数后的函数进行积分而得到的函数作为所述模型函数的所述对数函数。
7.如权利要求6所述的模型函数拟合装置，其特征在于，所述模型函数是进一步将峰高及峰位置归一化后的函数。
8.如权利要求7所述的模型函数拟合装置，其特征在于，所述模型函数是进一步通过包含贝塔函数及指数函数的式子对峰宽进行校正后的函数。
9.如权利要求1所述的模型函数拟合装置，其特征在于，所述拟合部将如下得到的所述模型函数拟合于所述色谱图：通过对二次差分为非正的原始函数应用具有比指数函数更平缓的斜率的转换函数而得到的所述模型函数。
10.如权利要求9所述的模型函数拟...
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