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【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于集成电路领域,特别涉及一种晶体管电压降测量技术。
技术介绍
1、电压降是指芯片中电源和地网络上电压下降或升高的一种现象,这种现象有时候严重影响芯片的性能甚至功能。随着半导体加工工艺的进步,金属互连线的宽度越来越窄,导致相应的电阻值上升,所以在整个芯片范围内将存在一定的电压降。电压降的大小决定决定于多个方面。在现代集成电路中,一定程度的电压降是不可避免的。电压降的出现会影响晶体管速率,尤其在深亚微米的工艺下,这种现象更加明显,经过大量实验表明,逻辑单元上5%的电压降将影响正常的门速率的15%。
2、在一些测试场合,特别是一些精确测量场合,我们希望能够消除电压降的影响以提升测量的精度。但是在很多芯片没有内嵌相应的测试结构根本无法测量。其中一种可能的方法是采用adc直接在内部进行采样,量化相应的电压降并输出,但是由于adc的面积非常大,且在实际的过程中adc电路需要与数字电路进行隔离处理,难以实现。因此集成电路电压降的精确修正仍然是重要问题。
技术实现思路
1、为解决上述技术问题,本专利技术提出一种集成电路电压降修正方法,结合环形振荡电路、仿真模型和实测数据实现电压降的修正。
2、本专利技术采用的技术方案为:一种集成电路电压降修正方法,包括:
3、s1、搭建环形振荡器电路:
4、基于电路仿真软件按照芯片工艺和相应的参数,搭建环形振荡器电路,所有的参数与流片中的一致,包括环形振荡器结构、spice工艺参数模型和晶体管参数等。
...【技术保护点】
1.一种电压降修正方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种电压降修正方法,其特征在于,参数化公式模型M1:参数化公式模型f=C1*(VDD-VIR-C2)C3。
3.根据权利要求2所述的一种电压降修正方法,其特征在于,电压降修正模型M2:基于S5的处理结果得到电压降修正模型,电压降模型以查找表的形式存在,以VDD为输入,VIR为输出。
【技术特征摘要】
1.一种电压降修正方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种电压降修正方法,其特征在于,参数化公式模型m1:参数化公式模型f=c1*(vdd-vir-c2)c3。<...
【专利技术属性】
技术研发人员:李磊,周婉婷,
申请(专利权)人:电子科技大学长三角研究院湖州,
类型:发明
国别省市:
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