阵列基板及其制作方法、显示面板技术

技术编号:40267890 阅读:22 留言:0更新日期:2024-02-02 22:55
本申请公开了一种阵列基板及其制作方法、显示面板,阵列基板包括衬底、缓冲层、半导体层、栅极绝缘层、栅极、第一层间介质层、第一电极、第二层间介质层、第二电极,其中,第一电极包括第一走线部,第二层间介质层覆盖第一走线部,第二层间介质层设有凹槽,第二电极包括第二走线部,其中,第二走线部设于凹槽内;凹槽在衬底上的正投影和第一走线部在衬底上的正投影不重叠,第二层间介质层位于第一走线部上方的一部分的上表面到第一层间介质层的上表面的距离大于凹槽底壁到第一层间介质层的上表面的距离。本申请旨在减少光罩对位偏移对源极和漏极间距的影响,提高源极和漏极的间距的一致性。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及显示,具体涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板


技术介绍

1、目前,用户对小尺寸、高分辨率的显示面板的需求越来越高。随着显示面板的分辨率的增加,显示面板的像素密度(pixel per inch,ppi)也随之增大,具有高像素密度的显示面板,其阵列基板上的源极和漏极也十分密集。

2、为了进一步减小显示面板的尺寸并提高显示面板的分辨率,需要缩减阵列基板上的源极和漏极的间距。但由于显示面板的传统工艺精度有限,通过光罩作为掩模形成源极和漏极的过程中,如果光罩对位产生位置偏移,会导致源极和漏极的间距与预设值不一致,当源极和漏极的间距比预设值小时,相邻的源极和漏极甚至会发生短接,使得阵列基板发生故障。

3、故,有必要提出一种新的技术方案,以解决上述技术问题。


技术实现思路

1、本申请的目的在于提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板,旨在减少光罩对位偏移对源极和漏极间距的影响,提高源极和漏极的间距的一致性。

2、为解决上述问题,本申请的技术方案如下:p>

3、第一方本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种阵列基板,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第二层间介质层包括:

3.如权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述第一绝缘部的厚度与所述第二绝缘部的厚度相等,所述第一走线部的厚度处于0.25μm至1μm的范围内。

4.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第二走线部的厚度小于所述凹槽的深度。

5.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述凹槽的宽度大于所述第二走线部的宽度。

6.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一层间介质层和所述栅极绝缘层中形成有第一过孔,所述第一过...

【技术特征摘要】

1.一种阵列基板,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第二层间介质层包括:

3.如权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述第一绝缘部的厚度与所述第二绝缘部的厚度相等,所述第一走线部的厚度处于0.25μm至1μm的范围内。

4.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第二走线部的厚度小于所述凹槽的深度。

5.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述凹槽的宽度大于所述第二走线部的宽度。

6.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一层间介质层和所述栅极绝缘层中形成有第一过孔,所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员:张永迪马涛艾飞
申请(专利权)人:武汉华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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