等离子体腔体组件及等离子体设备制造技术

本技术涉及等离子体技术领域，具体而言，涉及等离子体腔体组件及等离子体设备，所述等离子体腔体组件包括波导管、转换部和喷射管，所述转换部包括锥形结构，所述锥形结构的大端与波导管的第一宽边面连接，所述锥形结构的小端朝向波导管的第二宽边面，所述喷射管与波导管的第二宽边面连接并与波导管连通，所述锥形结构居中设置在波导管的窄边面之间，所述喷射管与锥形结构同轴设置，所述锥形结构的锥角α∈［60°，85°］，提供了一种反应腔内电场更集中的等离子体腔体组件。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及等离子体，具体而言，涉及等离子体腔体组件及等离子体设备。

技术介绍

1、等离子设备主要用于各种材料的表面改性处理，例如表面清洗、表面活化、表面刻蚀、表面接枝、表面沉积、表面聚合以及等离子体辅助化学气相沉积，该设备主要由放电腔、工作室、抽真空系统、高频电源和自动控制系统组成，在真空放电腔中，通过射频电场使气体发生放电，从而形成等离子体。

2、反应腔的腔体结构，是影响等离子体设备反应腔内电场集中程度的原因之一。

3、现有技术的等离子体设备，受腔体结构的影响，反应腔内电场分布不集中，不利于设备功率及其作业效率的提升。

技术实现思路

1、本技术的目的，在于克服现有技术的不足，提供了一种反应腔内电场更集中的等离子体腔体组件。

2、本技术的另一目的，在于提供一种等离子体设备，其采用了上述等离子体腔体组件。

3、本技术的目的通过以下技术方案来实现：

4、一种等离子体腔体组件，包括波导管、转换部和喷射管，所述转换部包括锥形结构，所述锥形结构的大端与波导管的第一宽边面连接，所述锥形结构的小端朝向波导管的第二宽边面，所述喷射管与波导管的第二宽边面连接并与波导管连通，所述喷射管与锥形结构同轴设置，所述锥形结构居中设置在波导管的窄边面之间，所述锥形结构的锥角α∈［60°，85°］。

5、进一步的，所述大端的直径为φ1，所述波导管的窄边面内壁之间的距离为d，所述φ1∈［0.75d，d］。

6、进一步的，所述波导管的第二宽边面设置有阶梯状通孔，所述喷射管通过阶梯状通孔与波导管连通，所述阶梯状通孔与锥形结构同轴设置，所述阶梯状通孔包括第一孔洞和第二孔洞，所述第一孔洞的直径为φ2，所述第二孔洞的直径为φ3，所述φ1∈（φ3，φ2）。

7、进一步的，所述小端伸入到阶梯状通孔中的长度为l1，所述第一孔洞的深度为l2，所述第二孔洞的深度为l3，所述l2+l3=l，所述l1∈（0，l）。

8、进一步的，所述l2=l3。

9、进一步的，所述φ2∈（φ1，1.2φ1）。

10、进一步的，所述φ3∈（0.8φ1，φ1）。

11、进一步的，所述转换部设置有通道。

12、进一步的，所述波导管与喷射管之间设置有能够被电磁波穿透的隔板。

13、一种等离子体设备，包括所述等离子体腔体组件。

14、本技术具有以下优点：

15、与现有技术等离子体腔体组件相比，本技术等离子体腔体组件反应腔内的电场更加集中，更利于设备功率及其作业效率的提升。

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【技术保护点】

1.一种等离子体腔体组件，包括波导管（1）、转换部（2）和喷射管（3），所述转换部（2）包括锥形结构，所述锥形结构的大端与波导管（1）的第一宽边面连接，所述锥形结构的小端朝向波导管（1）的第二宽边面，所述喷射管（3）与波导管（1）的第二宽边面连接并与波导管（1）连通，其特征在于：所述喷射管（3）与锥形结构同轴设置，所述锥形结构居中设置在波导管（1）的窄边面之间，所述锥形结构的锥角α∈［60°，85°］。

2.根据权利要求1所述的等离子体腔体组件，其特征在于：所述大端的直径为Φ1，所述波导管（1）的窄边面内壁之间的距离为D，所述Φ1∈［0.75D，D］。

3.根据权利要求2所述的等离子体腔体组件，其特征在于：所述波导管（1）的第二宽边面设置有阶梯状通孔，所述喷射管（3）通过阶梯状通孔与波导管（1）连通，所述阶梯状通孔与锥形结构同轴设置，所述阶梯状通孔包括第一孔洞和第二孔洞，所述第一孔洞的直径为Φ2，所述第二孔洞的直径为Φ3，所述Φ1∈（Φ3，Φ2）。

4.根据权利要求3所述的等离子体腔体组件，其特征在于：所述小端伸入到阶梯状通孔中的长度为L1，所述第一孔洞的深度为L2，所述第二孔洞的深度为L3，所述L2+L3=L，所述L1∈（0，L）。

5.根据权利要求4所述的等离子体腔体组件，其特征在于：所述L2=L3。

6.根据权利要求5所述的等离子体腔体组件，其特征在于：所述Φ2∈（Φ1，1.2Φ1）。

7.根据权利要求6所述的等离子体腔体组件，其特征在于：所述Φ3∈（0.8Φ1，Φ1）。

8.根据权利要求1至7任意一项所述的等离子体腔体组件，其特征在于：所述转换部（2）设置有通道（4）。

9.根据权利要求8所述的等离子体腔体组件，其特征在于：所述波导管（1）与喷射管（3）之间设置有能够被电磁波穿透的隔板（5）。

10.一种等离子体设备，其特征在于：包括权利要求1至9任意一项所述的等离子体腔体组件。

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【技术特征摘要】

1.一种等离子体腔体组件，包括波导管（1）、转换部（2）和喷射管（3），所述转换部（2）包括锥形结构，所述锥形结构的大端与波导管（1）的第一宽边面连接，所述锥形结构的小端朝向波导管（1）的第二宽边面，所述喷射管（3）与波导管（1）的第二宽边面连接并与波导管（1）连通，其特征在于：所述喷射管（3）与锥形结构同轴设置，所述锥形结构居中设置在波导管（1）的窄边面之间，所述锥形结构的锥角α∈［60°，85°］。

2.根据权利要求1所述的等离子体腔体组件，其特征在于：所述大端的直径为φ1，所述波导管（1）的窄边面内壁之间的距离为d，所述φ1∈［0.75d，d］。

3.根据权利要求2所述的等离子体腔体组件，其特征在于：所述波导管（1）的第二宽边面设置有阶梯状通孔，所述喷射管（3）通过阶梯状通孔与波导管（1）连通，所述阶梯状通孔与锥形结构同轴设置，所述阶梯状通孔包括第一孔洞和第二孔洞，所述第一孔洞的直径为φ2，所述第二孔洞的直径为φ3，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄春林，刘文科，胡宗义，李东亚，李俊宏，
申请(专利权)人：成都沃特塞恩电子技术有限公司，
类型：新型
国别省市：