一种基于加热丝环形走线方法的MEMS红外光源及其制备方法技术

技术编号:40254802 阅读:35 留言:0更新日期:2024-02-02 22:47
本发明专利技术提供了一种基于加热丝环形走线方法的MEMS红外光源及其制备方法。所述红外光源的结构自下而上依次为衬底、复合介质层和辐射增强层。复合介质层为电阻层外包覆薄膜层,加热丝电阻为环形走线设计,均匀分布在辐射区域,有效地提高电阻丝的热稳定性。薄膜层是由氧化硅和氮化硅复合而成的复合膜,起到支撑和保护的作用,所述衬底中央区域留有矩形空气间隙形成隔热区域,使整个红外光源底面悬空。本发明专利技术采用化学气相沉积法的工艺制备多晶硅,利用反应离子刻蚀获得圆柱形微纳结构,并将金属溅射在其表面形成纳米结构辐射层,提高发射率。基于该加热丝环形走线方法的MEMS红外光源具有功耗低、辐射特性好、温度分布均匀的特点,进一步提高了光源的性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及气体传感器,具体涉及一种基于加热丝环形走线方法的mems红外光源及其制备方法。


技术介绍

1、非色散红外(ndir)传感器是一种由红外光源、光路、红外探测器、电路及软件算法组成的光学气体传感器,相比于其他传感器,ndir气体传感器有很多独特的优点,比如灵敏度更高、精度更高、稳定性更好等,因此其在工业、医疗、环保等领域都有广泛的应用。mems红外光源是ndir气体传感器的重要器件,极大地影响着传感器的性能。采用mems加工工艺制作的mems红外光源,相较于其他红外光源,具有响应快、功耗低、辐射效率高、可靠性优异等特点,满足了实际应用中对传感器微型化、高性能的要求,广泛集成应用在各种红外系统中。

2、目前应用微纳加工技术的mems红外光源体积小、功耗较低,制作工艺也较为成熟,能够满足大批量生产的需求。但现有mems红外光源存在热损失较大、支撑膜材料红外辐射率低、电阻层发热带来应力变大和机械强度降低等问题,导致红外光源的热辐射功率低。其中在光源工作过程中,温度升高过程带来的不同部位应力变化会给光源带来不稳定性,这成为制约mems红外光源本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于加热丝环形走线方法的MEMS红外光源,其特征在于:红外光源结构从下往上包括衬底、衬底之上的复合介质层、环形走线加热电阻层以及最上面的纳米结构辐射层。电阻层位于复合介质层最中心区域、与衬底的悬空区域对齐。

2.根据权利要求1所述的一种基于加热丝环形走线方法的MEMS红外光源,其特征在于:电阻加热丝采用环形电阻,双层螺旋式均匀分布在辐射区域,辐射区域为正方形。

3.根据权利要求1所述的一种基于加热丝环形走线方法的MEMS红外光源,其特征在于:所述衬底材料为硅,衬底中心区域留出矩形空气间隙形成隔热区域,使整个红外光源底面悬空,悬空区域为红外辐射区。衬底材料尺...

【技术特征摘要】

1.一种基于加热丝环形走线方法的mems红外光源,其特征在于:红外光源结构从下往上包括衬底、衬底之上的复合介质层、环形走线加热电阻层以及最上面的纳米结构辐射层。电阻层位于复合介质层最中心区域、与衬底的悬空区域对齐。

2.根据权利要求1所述的一种基于加热丝环形走线方法的mems红外光源,其特征在于:电阻加热丝采用环形电阻,双层螺旋式均匀分布在辐射区域,辐射区域为正方形。

3.根据权利要求1所述的一种基于加热丝环形走线方法的mems红外光源,其特征在于:所述衬底材料为硅,衬底中心区域留出矩形空气间隙形成隔热区域,使整个红外光源底面悬空,悬空区域为红外辐射区。衬底材料尺寸为2mm×2mm~3mm×3mm,衬底材料厚度为400μm~600μm,矩形空气域尺寸为700μm×700μm~1000μm×100...

【专利技术属性】
技术研发人员:郭小伟李小迪李若禺王愿生
申请(专利权)人:电子科技大学长三角研究院湖州
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1