阵列基板、阵列基板的制作方法及显示装置制造方法及图纸

技术编号:40201998 阅读:17 留言:0更新日期:2024-02-02 22:15
本申请提供一种阵列基板、阵列基板的制作方法及显示装置,所述制作方法包括:提供基板;在所述基板上设置第一子像素走线和公共走线,且所述第一子像素走线与所述公共走线短接;短接检测合格后,在所述基板上设置无机层,所述无机层覆盖所述第一子像素走线和所述公共走线;在所述无机层上开设多个过孔;多个所述过孔错位设置,且所述多个过孔中的至少一个暴露所述第一子像素走线与所述公共走线的短接处;通过所述多个过孔注入刻蚀液,以使所述第一子像素走线与所述公共走线的短接处断开。本申请旨在能够完全清除第一子像素走线与所述公共走线的搭接处。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及显示面板,具体涉及一种阵列基板、阵列基板的制作方法及显示装置


技术介绍

1、电致发光二极管具有制备工艺简单、成本低、发光效率高、易形成柔性结构、低功耗、高色饱和度以及广视角等优点,利用电致发光二极管的显示技术已经成为一种重要的显示技术。oled是电流型发光器件,其主要包括阳极、阴极以及有机材料功能层。oled主要的工作原理是:有机材料功能层在阳极和阴极形成的电场的驱动下,通过载流子注入和复合而发光。

2、在现有技术中,qled基板大部分电路走线在基板上形成,因无法跨线故vss子像素走线通过vdd busline公共走线进行输入信号,并进行缺陷检测;而在在后续源漏极形成后,需将vss子像素走线和vdd busline公共走线的短接处断开。然而,现有技术中vss子像素走线和vdd busline公共走线的短接处存在刻蚀不完全的技术问题。


技术实现思路

1、本申请提供一种阵列基板、阵列基板的制作方法及显示装置,旨在解决现有技术中公共走线与像素走线之间的短接处刻蚀不完全的技术问题。

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【技术保护点】

1.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述第一子像素走线与所述公共走线通过薄层金属搭接。

3.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述第一子像素走线与所述公共走线通过易腐蚀金属搭接。

4.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述在所述基板上设置第一子像素走线和公共走线,且所述第一子像素走线与所述公共走线短接,包括:

5.一种阵列基板,其特征在于,包括:

6.如权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述过孔的锥度不小于70°。

7.如权利要求5所述的阵列基板...

【技术特征摘要】

1.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述第一子像素走线与所述公共走线通过薄层金属搭接。

3.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述第一子像素走线与所述公共走线通过易腐蚀金属搭接。

4.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述在所述基板上设置第一子像素走线和公共走线,且所述第一子像素走线与所述公共走线短接,包括:

5.一种阵列基板,其特征在于,包括:

6.如权利要求5所述的阵列基...

【专利技术属性】
技术研发人员:章仟益
申请(专利权)人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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