【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于工业清洗剂，具体涉及深孔加工用清洗剂及其制备方法。
技术介绍
1、工业清洗产品种类繁多，例如轻工业的化学清洗、车辆零件的清洗、金属加工业的清洗、电厂冷却循环系统的清洗等等，但因为应用的领域不同，所以对于清洗剂的选择需要注意的要点也略有不同，如喷淋工艺必须选用低泡型产品、精密零部件清洗必须选用低残留清洗产品。工业清洗产品主要分为水基型清洗剂、溶剂型清洗剂两大类。其中溶剂型清洗剂主要用于精密零部件的清洗工艺，但是溶剂型清洗剂主要以有机溶剂为主，极易对环境、生活、使用者造成不良影响。而水基清洗剂主要以水为主体，通过复配无机盐助洗剂、表面活性剂、其它助剂从而起到除油、除灰的作用，也存在种种弊端，但相较于溶剂型清洗剂，水基型清洗剂气味更小、污染更小。
2、在深孔加工中，冷却润滑液常起到具有清洗、排屑的作用，不仅要快速去除钻孔过程中产生的热量并润滑刀具和工件，减小两者间的摩擦，更主要的是要用具有一定压力和流速的冷却液来冲走切屑，以达到排屑的目的。而对于后续的金属零件上切屑液和油污等杂质的高效率地清除也是要去除的，从而减少零件污染物残留而且已有的冷却润滑液中在注重提高冷却、润滑作用的同时，往往会忽略清洗作用，并且含有较多有毒成分，对环境不利。
3、为了解决零件上拥有各种深孔、螺纹孔、狭缝和沟槽等结构要素，这些结构要素在生产过程中很容易积累各种切削液、油脂和污染物，极大地增加了零部件的清洁难度。在清洁生产中，现有的真空零件清洁工艺都不能高效率地清除零件上深孔和螺纹的残留油污和各种杂质成分，导致由于清洁不彻底
技术实现思路
1、针对
技术介绍
中的问题，本专利技术提供了深孔加工用清洗剂及其制备方法，无需复杂的成分，通过成分间的协同增效，使清洗剂可以很好快速去除深度大的孔油污，且对于残留一些固态的金属粉也有很好的去除效果。
2、为了实现上述目的，本专利技术采用的技术方案为：
3、深孔加工用清洗剂由以下原料组分组成：3～5％阴离子表面活性剂、2～4％非离子表面活性剂、0.1～0.3％净洗剂6501、1～5％n,n′-双月桂酰基乙二胺二丙酸钠、5～7％n-β-羟基乙基乙二胺三乙酸、1～3％柠檬酸钠、1.0-2.0％消泡剂、1.0-2.0％无水偏硅酸钠、3～6％碳酸钾，余量为水。
4、进一步，阴离子表面活性剂优选后选择二辛基磺化琥珀酸钠；
5、进一步，非离子表面活性剂优选后选择吐温-20。
6、进一步，n,n′-双月桂酰基乙二胺二丙酸钠优选后的用量为4％。
7、进一步，消泡剂为聚醚消泡剂。
8、首先，本专利技术选择二辛基磺化琥珀酸钠、吐温-20、净洗剂6501、n,n′-双月桂酰基乙二胺二丙酸钠、n-β-羟基乙基乙二胺三乙酸等不同功能的表面活性剂复配，含多种高效活性去污成分，具有很好的乳化清洁效果。还能对渗透、软化起到很强的增效作用。例如净洗剂6501有良好的增稠、稳泡、软化，和二辛基磺化琥珀酸钠、吐温-20等复配后，可以大大提高对油污的润滑和渗透，从而提高清洁效率。
9、而n-β-羟基乙基乙二胺三乙酸分子结构中含有多个活性基团，特殊的化学结构使其与金属表面发生吸附反应，对金属表面各种金属起到络合作用，使其生成可溶性的络合物进行清洗去除。与柠檬酸钠进行复配络合后吸附络合效果相比于单一络合剂效果更优。并且由于n-β-羟基乙基乙二胺三乙酸自身也是表面活性剂，本专利技术发现其还能与二辛基磺化琥珀酸钠阴离子表面活性剂进行相互配合用于硬表面清洁，更有助于油污的浸润软化。
10、n,n′-双月桂酰基乙二胺二丙酸钠能与阴离子表面活性剂兼容，与二辛基磺化琥珀酸钠复配后具有优异的增溶作用，除污效果显著，耐碱性能好，这是传统二甲苯磺酸钠、枯烯磺酸钠常规增溶剂所无法达到的效果。
11、深孔加工用清洗剂的制备方法为：先将n,n′-双月桂酰基乙二胺二丙酸钠加入1～3％水中，搅拌均匀后再加入阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂、净洗剂6501、n-β-羟基乙基乙二胺三乙酸、柠檬酸钠，无水偏硅酸钠、碳酸钾，搅拌混合10～20min，最后加入消泡剂常温常压下搅拌5～10min，加入剩余的水，搅拌均匀后得清洗剂
12、深孔加工用清洗剂的应用方法为：将清洁液装入带碰头的容器中，对深孔加工后的工件表面，尤其是孔道中进行喷洒；静置2～4min后再喷涂一次，静置2
13、～4min分钟后，待模具上的清洗剂没有干之前用清水冲洗即可。
14、也可以将用清洗剂涂抹在工件表面，优选喷洒方式，会使清洗剂分布更均匀。静置2～4min后再喷涂一次可使清洗剂渗透软化更佳彻底，大大提高提升清洁效果。与现有技术相比，本专利技术的有益效果为：
15、本专利技术的水基清洗剂不含磷酸盐、强碱以及铝盐等有害化学成分。采用本专利技术的清洗剂，通过各组分间复配协同，很好快速去除深孔中的油污，对于残留一些固态的金属粉也有很好的去除效果，并可使工件保持长久的清洁效果，对于深孔加工中的清洗发挥重要意义。
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1.一种深孔加工用清洗剂，其特征在于：深孔加工用清洗剂由以下原料组分组成：3～5％阴离子表面活性剂、2～4％非离子表面活性剂、0.1～0.3％净洗剂6501、1～5％N,N′-双月桂酰基乙二胺二丙酸钠、5～7％N-β-羟基乙基乙二胺三乙酸、1～3％柠檬酸钠、1.0-2.0％消泡剂、1.0-2.0％无水偏硅酸钠、3～6％碳酸钾，余量为水。
2.根据权利要求1所述深孔加工用清洗剂，其特征在于：阴离子表面活性剂为二辛基磺化琥珀酸钠。
3.根据权利要求1所述深孔加工用清洗剂，其特征在于：非离子表面活性剂为吐温-20。
4.根据权利要求1所述深孔加工用清洗剂，其特征在于：N,N′-双月桂酰基乙二胺二丙酸钠用量为4％。
5.根据权利要求1所述深孔加工用清洗剂，其特征在于：消泡剂为聚醚消泡剂。
6.根据权利要求1-5任一项所述深孔加工用清洗剂的制备方法，其特征在于：先将N,N′-双月桂酰基乙二胺二丙酸钠加入1～3％水中，搅拌均匀后再加入阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂、净洗剂6501、N-β-羟基乙基乙二胺三乙酸、柠檬酸钠，无水偏硅
7.根据权利要求1-5任一项所述深孔加工用清洗剂的应用，其特征在于：将清洁液剂装入容器中，对深孔加工后的工件表面进行喷洒；静置2～4min后再喷涂一次，静置2～4min分钟后，待模具上的清洗剂没有干之前用清水冲洗。
...【技术特征摘要】
1.一种深孔加工用清洗剂，其特征在于：深孔加工用清洗剂由以下原料组分组成：3～5％阴离子表面活性剂、2～4％非离子表面活性剂、0.1～0.3％净洗剂6501、1～5％n,n′-双月桂酰基乙二胺二丙酸钠、5～7％n-β-羟基乙基乙二胺三乙酸、1～3％柠檬酸钠、1.0-2.0％消泡剂、1.0-2.0％无水偏硅酸钠、3～6％碳酸钾，余量为水。
2.根据权利要求1所述深孔加工用清洗剂，其特征在于：阴离子表面活性剂为二辛基磺化琥珀酸钠。
3.根据权利要求1所述深孔加工用清洗剂，其特征在于：非离子表面活性剂为吐温-20。
4.根据权利要求1所述深孔加工用清洗剂，其特征在于：n,n′-双月桂酰基乙二胺二丙酸钠用量为4％。
5.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：孙毓韬，
申请(专利权)人：常州工程职业技术学院，
类型：发明
国别省市：
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