【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电解，尤其涉及一种提高铜电解液脱杂效率的工艺及装置。
技术介绍
1、铜电解精炼过程中，随着阳极板中铜及镍、砷、锑、铋等杂质的溶出，电解液中的铜及镍、砷、锑、铋等离子的浓度也会逐渐增加，为保证电铜质量，应维持电解液成分稳定，必须定期、定量地抽出部分电解液进行净化处理。铜电解净液二次电积的主要目的是脱掉电解液中累积的砷、锑、铋等杂质。
2、除砷锑铋常用方法之一为诱导电积法，诱导电积法采用阶梯式布置的电解槽、溶液串联流动、并通过主给液与辅助给液的办法，保持溶液中铜的离子浓度在一定范围内（0.3 g/l～10g/l），此时杂质与铜一起以诱导型合金的形式电解析出。
3、实际生产过程中，诱导电积法脱杂既要保证二次进液比重及流量，确保电解液的杂质脱除效率；同时还要控制二次脱铜终液中铜离子浓度≤1g/l，以确保后续脱镍工序中生产出的硫酸镍含铜较低，降低铜的损失。两者相互制约，所以在生产中既要保证较高的杂质脱除效率，又要保证后续工序硫酸镍的高效生产，研究一种新的二次电积生产工艺显得尤为重要。
4、诱导电积法生产过程中，电解液经过一次电积脱铜后进入一次脱铜终液储槽，然后进入真空蒸发器组对杂质浓度进行富集，富集后的液（杂质浓度越高越好）进入二次电积进行脱铜脱杂；二次电积脱铜脱杂工艺既要保证进液比重及流量，确保电解液的杂质脱除效率；同时还要控制二次脱铜终液中铜离子浓度≤1g/l，以确保后续脱镍工序中生产出的硫酸镍含铜较低，降低铜的损失，两者相互制约。
技术实现思路p>
1、针对上述问题，本专利技术提供一种提高铜电解液脱杂效率的工艺及装置，该专利技术既可以稳定较高的脱铜脱杂效率，保证电解工序生产；同时又能保证二次脱铜终液中较低的铜离子浓度，保证后续硫酸镍成品中含铜，减少铜的损失。
2、为解决上述问题，本专利技术所采用的技术方案是：
3、一种提高铜电解液脱杂效率的工艺，包括如下步骤：
4、s1、一次电积脱铜：将含有硫酸铜的一次电解液打入一次电积槽内，以精铜作为阴极，火法冶炼的粗铜作为阳极，导电进行一次电积，得到一次脱铜终液；
5、s2、高位蒸发浓缩：将步骤s1中得到的一次脱铜终液打入至真空蒸发高位槽内，对一次脱铜终液进行持续浓缩，得到浓缩终液；
6、s3、二次电积脱铜，将步骤s2中得到的浓缩终液打入至二次电积槽内，导电进行二次电积，得到二次脱铜终液；
7、其中，一次电积槽以及二次电积槽之间通过输送管道直接导通，输送管道内部设置有导通阀组用于控制输送管道处于打开状态。
8、优选地，在步骤s2中，将真空蒸发高位槽内的一次脱铜终液打入至板式真空蒸发器内进行真空蒸发得到蒸发终液，将蒸发终液依次打入至水冷结晶槽、导流式离心机内进行加工得到浓缩终液，控制浓缩终液内离子浓度不低于10g/l。
9、优选地，在一次电积槽内设置有检测控制装置，通过检测控制装置能够监测一次电积槽内液面高度，获得液面高度值，当液面高度值大于设定阈值时，打开输送管道内的导通阀组，让一次电积槽以及二次电积槽处于直接导通状态。
10、优选地，在一次电积脱铜以及二次电积脱铜前，均通过脱铜换热器对电解液温度进行控制，控制电解温度在40-55℃范围内。
11、一种提高铜电解液脱杂效率的装置，包括用于存储电解液的存储槽，所述存储槽内竖直设置有电积组件，所述电积组件包括阳极板以及阴极板，所述阳极板以及阴极板间隔设置形成电积通道，所述电积通道内安装有倾斜设置的过滤装置以及喷射装置，所述喷射装置包括喷射管道，所述过滤装置套设于喷射管道外侧，所述喷射管道远离过滤装置一侧与存储槽底部通过泵送管道连通，且泵送管道内部安装有输送泵体，所述过滤装置远离喷射装置一侧连通有输送管道，所述输送管道内部安装有导通阀组。
12、优选地，所述喷射管道与过滤装置之间转动连接，且喷射管道与过滤装置之间设置有转动密封件，所述喷射管道表面开有若干个喷射开口，所述喷射开口朝着外侧倾斜设置。
13、优选地，所述喷射管道表面安装有漩流组件，所述漩流组件的根部与喷射管道表面固定连接，所述漩流组件的主体部分套设于过滤装置的外侧。
14、优选地，所述漩流组件包括漩流安装盘，所述漩流安装盘侧壁固定连接有漩流安装杆，所述漩流安装杆设置为若干个，且漩流安装杆围绕着漩流安装盘周向布置。
15、优选地，所述存储槽内安装有检测控制装置，通过检测控制装置能够监测存储槽内液面高度，获得液面高度值，当液面高度值大于设定阈值时，打开输送管道内的导通阀组。
16、优选地，所述电积组件线性布置为若干组，所述存储槽底部倾斜内凹形成集料槽。
17、本专利技术的有益效果为：
18、1、通过上述工艺对电解液的流向进行控制，既可以稳定提高的脱铜脱杂效率，保证电解工序生产；同时又能保证二次脱铜终液中较低的铜离子浓度，保证后续硫酸镍成品中含铜较低，减少铜的损失。
19、2、通过设置导通阀组能够对存储槽内多余的电解液进行导流控制，直接打入二次电积槽内进行补液，保证二次电积的正常进行；同时通过设置喷射装置以及过滤装置，能够对不溶阳极泥集中过滤以及集中收集，降低了整体操作的步骤；同时能够降低电解过程中浓差极化线性的影响，提高整体电积铜的效率以及质量。
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1.一种提高铜电解液脱杂效率的工艺，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种提高铜电解液脱杂效率的工艺，其特征在于，在步骤S2中，将真空蒸发高位槽内的一次脱铜终液打入至板式真空蒸发器内进行真空蒸发得到蒸发终液，将蒸发终液依次打入至水冷结晶槽、导流式离心机内进行加工得到浓缩终液，控制浓缩终液内离子浓度不低于10g/L。
3.根据权利要求1所述的一种提高铜电解液脱杂效率的工艺，其特征在于，在一次电积槽内设置有检测控制装置，通过检测控制装置能够监测一次电积槽内液面高度，获得液面高度值，当液面高度值大于设定阈值时，打开输送管道内的导通阀组，让一次电积槽以及二次电积槽处于直接导通状态。
4.根据权利要求1所述的一种提高铜电解液脱杂效率的工艺，其特征在于，在一次电积脱铜以及二次电积脱铜前，均通过脱铜换热器对电解液温度进行控制，控制电解温度在40-55℃范围内。
5.一种提高铜电解液脱杂效率的装置，包括用于存储电解液的存储槽（100），所述存储槽（100）内竖直设置有电积组件，所述电积组件包括阳极板（200）以及阴极板（300），
6.根据权利要求5所述的一种提高铜电解液脱杂效率的装置，其特征在于，所述喷射管道（420）与过滤装置（500）之间转动连接，且喷射管道（420）与过滤装置（500）之间设置有转动密封件，所述喷射管道（420）表面开有若干个喷射开口（421），所述喷射开口（421）朝着外侧倾斜设置。
7.根据权利要求6所述的一种提高铜电解液脱杂效率的装置，其特征在于，所述喷射管道（420）表面安装有漩流组件（430），所述漩流组件（430）的根部与喷射管道（420）表面固定连接，所述漩流组件（430）的主体部分套设于过滤装置（500）的外侧。
8.根据权利要求7所述的一种提高铜电解液脱杂效率的装置，其特征在于，所述漩流组件（430）包括漩流安装盘（431），所述漩流安装盘（431）侧壁固定连接有漩流安装杆（432），所述漩流安装杆（432）设置为若干个，且漩流安装杆（432）围绕着漩流安装盘（431）周向布置。
9.根据权利要求5所述的一种提高铜电解液脱杂效率的装置，其特征在于，所述存储槽（100）内安装有检测控制装置，通过检测控制装置能够监测存储槽（100）内液面高度，获得液面高度值，当液面高度值大于设定阈值时，打开输送管道（510）内的导通阀组。
10.根据权利要求5所述的一种提高铜电解液脱杂效率的装置，其特征在于，所述电积组件线性布置为若干组，所述存储槽（100）底部倾斜内凹形成集料槽（110）。
...【技术特征摘要】
1.一种提高铜电解液脱杂效率的工艺，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种提高铜电解液脱杂效率的工艺，其特征在于，在步骤s2中，将真空蒸发高位槽内的一次脱铜终液打入至板式真空蒸发器内进行真空蒸发得到蒸发终液，将蒸发终液依次打入至水冷结晶槽、导流式离心机内进行加工得到浓缩终液，控制浓缩终液内离子浓度不低于10g/l。
3.根据权利要求1所述的一种提高铜电解液脱杂效率的工艺，其特征在于，在一次电积槽内设置有检测控制装置，通过检测控制装置能够监测一次电积槽内液面高度，获得液面高度值，当液面高度值大于设定阈值时，打开输送管道内的导通阀组，让一次电积槽以及二次电积槽处于直接导通状态。
4.根据权利要求1所述的一种提高铜电解液脱杂效率的工艺，其特征在于，在一次电积脱铜以及二次电积脱铜前，均通过脱铜换热器对电解液温度进行控制，控制电解温度在40-55℃范围内。
5.一种提高铜电解液脱杂效率的装置，包括用于存储电解液的存储槽（100），所述存储槽（100）内竖直设置有电积组件，所述电积组件包括阳极板（200）以及阴极板（300），所述阳极板（200）以及阴极板（300）间隔设置形成电积通道，其特征在于：
6.根据权利要求5所述的一种提高铜电解液脱杂效率的装置，其特征在于，所述喷射管道（42...
【专利技术属性】
技术研发人员：张海涛，张泽会，赵文辉，齐孔飞，卢志强，王智勇，
申请(专利权)人：赤峰金通铜业有限公司，
类型：发明
国别省市：
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