【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及激光器的可饱和吸收体，具体涉及一种tase2可饱和吸收体的制备方法。
技术介绍
1、由于激光技术的广泛应用，21世纪被誉为“激光加工时代”。相比于连续和纳秒脉冲激光，超快皮秒激光由于具有窄脉冲宽度、高峰值功率、高加工精度等特点，在医疗美容、航空航天、精密机械、光纤通讯等领域具有非常重要的应用前景。
2、可饱和吸收体被动锁模是获得超快激光的主要方法之一。在被动锁模超快激光器的研究中，可饱和吸收体作为锁模的关键元件，起着至关重要的作用。半导体可饱和吸收镜是目前应用最成熟的锁模元件，凭借其高稳定性已经被广泛应用于固体和光纤锁模激光器中。然而，半导体可饱和吸收镜也存在很多不足之处，比如制备工艺复杂，制备设备贵、工作带宽窄、成本高。因此，开发低成本、宽工作带宽、高光学质量的新型可饱和吸收体在超快激光器的研究中具有重要的实用价值和研究意义。
技术实现思路
1、本专利技术针对传统可饱和吸收体工作带宽窄、制备设备贵、成本高等问题，提出一种tase2可饱和吸收体的制备方法。
2、本专利技术提供的一种tase2可饱和吸收体的制备方法，包括以下步骤：
3、1)20mg十二烷基硫酸钠(sds)粉末和400mg聚乙烯醇(pva)粉末加入20ml去离子水中，加热(60-90度)并搅拌，让sds粉末和pva粉末溶于去离子水；
4、2)将50mgtase2粉末加入上述液体中，置于超声波清洗机中超声；
5、3)将混合液体置于离心机离心，将未溶
6、4)取出离心后混合液体的上层清液，把一端是fc接头另一端是裸纤的单模光纤中裸纤端熔接到光纤耦合输出的泵浦源上，有fc接头的一端放在离心后的上层清液中，在一定泵浦源泵浦功率下采用光诱导沉积法将材料沉积到光纤端面的芯区处；
7、5)晾干后将fc接头端沉积上tase2的光纤从泵浦源上取下，得到可饱和吸收体，可以很方便地接到光纤激光器中，通过被动锁模实现超快激光输出。
8、所述sds作为表面活性剂，促进tase2粉末溶解分散到液体中。
9、所述大分子聚合物pva，可以防止tase2聚集沉淀。
10、所述超声波清洗机的功率为300w，超声时间为10小时。
11、所述离心机以每分钟5000转进行离心30分钟。
12、所述光诱导沉积法中，泵浦源的波长976nm，泵浦功率为2mw～5mw。
13、所述光诱导沉积法中，光诱导沉积的时间为5分钟。
14、本专利技术所提供一种tase2可饱和吸收体的制备方法的主要优点和积极效果如下：相比于商用的半导体可饱和吸收镜，本专利技术采用光诱导沉积法制备的tase2可饱和吸收体，具有宽的工作带宽，制备工艺简单，成本低，灵活可控等优点。
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1.一种TaSe2可饱和吸收体的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述一种TaSe2可饱和吸收体的制备方法，其特征在于，所述SDS作为表面活性剂，促进TaSe2粉末溶解分散到液体中。
3.根据权利要求1所述一种TaSe2可饱和吸收体的制备方法，其特征在于，所述大分子聚合物PVA，可以防止TaSe2聚集沉淀。
4.根据权利要求1所述一种TaSe2可饱和吸收体的制备方法，其特征在于，所述超声波清洗机的功率为300W，超声时间为10小时。
5.根据权利要求1所述一种TaSe2可饱和吸收体的制备方法，其特征在于，所述离心机以每分钟5000转进行离心30分钟。
6.根据权利要求1所述一种TaSe2可饱和吸收体的制备方法，其特征在于，所述光诱导沉积法中，泵浦源的波长976nm，泵浦功率为2mW～5mW。
7.根据权利要求1所述一种TaSe2可饱和吸收体的制备方法，其特征在于，所述光诱导沉积法中，光诱导沉积的时间为5分钟。
【技术特征摘要】
1.一种tase2可饱和吸收体的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述一种tase2可饱和吸收体的制备方法，其特征在于，所述sds作为表面活性剂，促进tase2粉末溶解分散到液体中。
3.根据权利要求1所述一种tase2可饱和吸收体的制备方法，其特征在于，所述大分子聚合物pva，可以防止tase2聚集沉淀。
4.根据权利要求1所述一种tase2可饱和吸收体的制备方法，其特征在于，所述超声波清洗机的...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨亮，姜中元，
申请(专利权)人：华芯科技天津有限公司，
类型：发明
国别省市：
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