一种用于多晶硅生产过程中的氯化氢干燥系统技术方案

本技术公开了一种用于多晶硅生产过程中的氯化氢干燥系统，包括一级干燥塔、二级干燥塔和冷却器；所述一级干燥塔的塔釜连接有第一进料管和第二进料管，将含水HCl和四氯化硅一同送入一级干燥塔进行脱水反应；所述一级干燥塔通过塔顶的一级塔气相采出管连接至二级干燥塔的塔釜；所述二级干燥塔的塔釜处连接有用于送入四氯化硅的第三进料管；所述二级干燥塔通过塔顶的二级塔气相采出管连接至外部的氯化氢压缩单元；所述一级干燥塔、二级干燥塔的塔釜底部通过循环液管路连接至塔顶，将塔釜采出的循环液送入塔内喷淋重新分离；所述的冷却器设置在二级干燥塔的循环液管路上。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于多晶硅生产领域，具体涉及一种用于多晶硅生产过程中的氯化氢干燥系统。

技术介绍

1、多晶硅行业中无论是改良西门子法还是硅烷流化床法制备多晶硅。在生产过程中各装置的尾气正常排放、渣浆中固渣水解、高沸残液排放水解、各装置检修过程中置换、废液处理等过程都存在氯元素损失。

2、当前生产系统补充氯元素的方式有三种。第一种为在冷氢化装置流化床内通入hcl，hcl与硅粉反应生成氯硅烷；第二种将冷氢化装置回收的细硅粉或渣浆滤渣中回收的硅粉与hcl单独配置系统进行氯硅烷合成；第三种多晶硅生产过程中副产的高沸物(主要成分si2cl6)与hcl在催化剂的作用下分解生产氯硅烷。以上生产过程主要产物均为sihcl3、sicl4，生成的氯硅烷对生产过程的损失的氯硅烷进行补充，实现氯平衡与氯硅烷的零外购。

3、hcl的来源最常见的工艺为盐酸深解析获得，盐酸深解析的hcl经水冷、乙二醇冷却器(温度＜-10℃)及除沫器后hcl的水含量小于500ppmw。因多晶硅生产的过程的特殊性，对补充hcl中水要求特别高，hcl中最好不含水分，hcl水含量较高时会造成设备本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于多晶硅生产过程中的氯化氢干燥系统，其特征在于，包括一级干燥塔(10)、二级干燥塔(20)和冷却器(30)；所述一级干燥塔(10)的塔釜连接有第一进料管(40)和第二进料管(50)，将含水HCl和四氯化硅一同送入一级干燥塔(10)进行脱水反应；所述一级干燥塔(10)通过塔顶的一级塔气相采出管(101)连接至二级干燥塔(20)的塔釜；所述二级干燥塔(20)的塔釜处连接有用于送入四氯化硅的第三进料管(60)；所述二级干燥塔(20)通过塔顶的二级塔气相采出管(201)连接至外部的氯化氢压缩单元；所述一级干燥塔(10)、二级干燥塔(20)的塔釜底部通过循环液管路连接至塔顶，将塔釜采出的...

【技术特征摘要】

1.一种用于多晶硅生产过程中的氯化氢干燥系统，其特征在于，包括一级干燥塔(10)、二级干燥塔(20)和冷却器(30)；所述一级干燥塔(10)的塔釜连接有第一进料管(40)和第二进料管(50)，将含水hcl和四氯化硅一同送入一级干燥塔(10)进行脱水反应；所述一级干燥塔(10)通过塔顶的一级塔气相采出管(101)连接至二级干燥塔(20)的塔釜；所述二级干燥塔(20)的塔釜处连接有用于送入四氯化硅的第三进料管(60)；所述二级干燥塔(20)通过塔顶的二级塔气相采出管(201)连接至外部的氯化氢压缩单元；所述一级干燥塔(10)、二级干燥塔(20)的塔釜底部通过循环液管路连接至塔顶，将塔釜采出的循环液送入塔内喷淋重新分离；所述的冷却器(30)设置在二级干燥塔(20)的循环液管路上。

2.根据权利要求1所述的用于多晶硅生产过程中的氯化氢干燥系统，其特征在于，所述二级干燥塔(20)底部的二级塔循环液管路(202)上设置有用于加压的二级塔循环液泵(203)；所述二级塔循环液管路(202)上还连接有回流管(204)，所述的回流管(204)连接至第二进料管(50)上。

3.根据权利要求1所述的用于多晶硅生产过程中的氯化氢干燥系统，其特征在于，所述一级干燥塔(10)底部的一级塔循环液管路(102)上设置有用于加压的一级塔循环液泵(103)；所述的一级塔循环液管路(102)上还连接有外排管(90)，所述的外排管(90)连接至外部的渣浆装置。

4.根据权利要求1所述的用于多晶硅生产过程中的氯化氢干燥系统，其特征在于，所述一级干燥塔(10)、二级干燥塔(20)的...

【专利技术属性】
技术研发人员：于秀峰，徐海，周伟，刘亚洲，李允，沈桃军，徐永强，吴宁，杨飞，
申请(专利权)人：内蒙古鑫元硅材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：