异质结太阳能电池及其制备方法技术

技术编号:40166204 阅读:31 留言:0更新日期:2024-01-26 23:38
本发明专利技术公开了一种异质结太阳能电池及其制备方法。制备方法包括如下步骤:对硅基底进行清洗制绒处理;在硅基底的两个表面分别制备本征非晶硅层;在正面本征非晶硅层上制备N型掺杂层;在背面本征非晶硅层上制备P型掺杂层;采用RPD设备在P型掺杂层上制备背面含铟TCO种子层,利用PVD设备在背面含铟TCO种子层上制备背面无铟TCO薄膜;利用PVD设备在N型掺杂层上制备正面含铟TCO种子层,并在正面含铟TCO种子层上制备正面无铟TCO薄膜;以及分别制备背面电极、正面电极。本申请可以有效增加RPD与PVD结合设备的正常运行时间以及有效运行时间,增加设备有效产能,降低电池制造成本。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及光伏,特别是涉及一种异质结太阳能电池及其制备方法


技术介绍

1、异质结(silicon hetero-junction;shj)太阳能电池技术的转换效率达到了25.6%。基于异质结电池开发的异质结背接触(hbc)电池的转换效率达到26.67%,目前异质结太阳电池转换效率已达到26.81%的世界效率记录。异质结太阳电池是一种双面电池,其具有工艺流程简单,转换效率高,温度系数低,全程低温工艺制造节约能耗,适合薄片化,而且天然双面发电,弱光响应好等众多优点,已经在光伏领域中发展迅速。如何提高异质结太阳电池效率,降低其制造成本,最终转化为发电效益,是如今异质结产业化的重点。

2、需要说明的是,异质结太阳电池26.81%的世界效率记录中,其tco(transparentconductive oxide,透明导电氧化物薄膜)薄膜是利用反应离子沉积rpd设备进行沉积制备的。而量产化的异质结太阳的tco薄膜基本是利用物理气相沉积pvd设备进行沉积制备的。如今,也出现极少数的异质结电池利用rpd和pvd设备结合共同沉积tco薄膜,衍生出相应的par设本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述硅基底为N型单晶硅片,所述硅基底的厚度60μm~180μm,电阻率0.2Ω.cm~5Ω.cm。

3.根据权利要求1所述的异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于,对硅基底进行清洗制绒处理时,包括如下步骤:

4.根据权利要求2所述的异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于,对硅基底进行清洗时,包括如下步骤:对硅基底进行RCA清洁后,再采用HF溶液清洗硅基底去除表面氧化层,最后经过去离子水清洁及表面干燥处理。</p>

5.根据...

【技术特征摘要】

1.一种异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述硅基底为n型单晶硅片,所述硅基底的厚度60μm~180μm,电阻率0.2ω.cm~5ω.cm。

3.根据权利要求1所述的异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于,对硅基底进行清洗制绒处理时,包括如下步骤:

4.根据权利要求2所述的异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于,对硅基底进行清洗时,包括如下步骤:对硅基底进行rca清洁后,再采用hf溶液清洗硅基底去除表面氧化层,最后经过去离子水清洁及表面干燥处理。

5.根据权利要求1所述的异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于,在硅基底的两个表面分别制备本征非晶硅层时,具体包括如下步骤:

6.根据权利要求1所述的异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述本征非晶硅层的厚度为2nm~10nm。

7.根据权利要求1~6任意一项所述的异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述n型掺杂层为n型掺杂非晶硅层或纳米晶硅层或微晶硅层;

8.根据权利要求1~6任意一项所述的异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于,在硅基底的正面本征非晶硅层上制备n型掺杂层时,包括如下步骤:

9.根据权利要求1~6任意一项所述的异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述p型掺杂层为p型掺杂非晶硅层或纳米晶硅层或微晶硅层;

10.根据权利要求1~6任意一项所述的异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于,在硅基底的背面本征非晶硅层上制备p型掺杂层时,包括如下步骤:通过rf-cvd设备或者vhf-cvd设备在硅基底的背面本征非晶硅层上沉积p型掺杂层;其中,rf-cvd设备或者vhf-cvd设备电源采用13.56mhz~40mhz,工艺气体包含sih4、h2、co2、ch4、n2o、b2h6、tmb中的一种或几种,沉积温度160℃~200℃,沉积压力0.5mbar~5mbar。

11.根据权利要求1~6任意一项所述的异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述背面含铟tco种子层为ito薄膜、vtto薄膜、scot薄膜、...

【专利技术属性】
技术研发人员:李宏伟侯承利段誉杨广涛陈达明
申请(专利权)人:天合光能股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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