【技术实现步骤摘要】
本申请涉及单晶硅切片，特别是涉及硅片切割液回收系统。
技术介绍
1、光伏行业或半导体行业在对硅片进行切片操作时,会产生大量的切割液废水，直接排放不但会造成切割液的浪费，还会造成环境污染，基于此，各生产车间会对硅片切割液进行回收处理。
2、目前硅片切割液回收过程主要如下：将车间产生的切割废液经压滤后形成压滤水排放至清液罐，同时清液罐还连通持续流入的纯水和新切割液，清液罐用于将压滤水、纯水和新切割液三者混合后的清液水供车间切割使用，并以此进行循坏。
3、但上述循坏过程中每一次循坏所形成的清液水中的成分比例难以一致，清液水的形成容易受到车间用水量大小的影响；当车间机台用水量小时所形成的切割废液量少，从而导致提供给清液罐中的压滤水量减少，使得最终形成的清液水中新切割液的含量相对较高，容易导致切割良率波动大；当车间机台用水量大时所形成的切割废液量多，从而导致提供给清液罐中的压滤水量增多，使得最终形成的清液水中新切割液的含量相对较低，容易引起断线率的上升。
技术实现思路
1、基于此，有必要针对目前每一次循环形成的清液水中的成分比例难以保持一致的问题，提供一种硅片切割液回收系统。
2、一种硅片切割液回收系统，所述硅片切割液回收系统包括控制单元、废水压滤单元、水质调节单元和清液回用单元，其中：
3、所述废水压滤单元用于压滤车间切割废液后形成压滤水并输送所述压滤水至所述水质调节单元；
4、所述水质调节单元包括与所述废水压滤单元相连通的清液罐
5、所述控制单元包括控制模块及设置于所述清液罐的采集模块，所述采集模块用于采集所述清液罐内液体的液位，所述控制模块与所述采集模块、所述废水压滤单元、所述补水模块及所述新切割液补充模块通信连接，所述控制模块根据所述液位依次控制所述补水模块、所述新切割液补充模块及所述废水压滤单元的输液启停；
6、所述清液回用单元的一端与所述清液罐相连通，另一端与车间切割设备相连通，用于输送所述清液水至所述切割设备。
7、在其中一个实施例中，所述清液回用单元包括清液进水管、缓冲罐、清液回流管及进水泵，所述清液进水管的两端分别连通所述清液罐与所述缓冲罐，所述清液回流管的两端分别连通所述缓冲罐与所述切割设备，所述进水泵设置于所述清液进水管。
8、在其中一个实施例中，所述控制单元包括在线检测模块，所述在线检测模块设置于所述清液罐并与所述控制模块通信连接，所述在线检测模块用于监测所述清液水的水质指标，所述控制模块在所述废水压滤单元停止输液后根据所述水质指标控制所述清液回用单元的启停。
9、在其中一个实施例中，所述废水压滤单元包括依次相连通的废液收集池、压滤模块及传送模块，所述传送模块与所述清液罐相连通且与所述控制模块通信连接，所述压滤模块用于压滤所述车间传送至所述废液收集池中的所述切割废液后形成所述压滤水，所述传送模块用于输送所述压滤模块中的所述压滤水至所述清液罐。
10、在其中一个实施例中，所述压滤模块包括第一传送管、压滤罐及压滤机，所述第一传送管的两端分别与所述废液收集池和所述压滤罐相连通，所述压滤机设置于所述第一传送管。
11、在其中一个实施例中，所述压滤模块还包括脏水箱及第二传送管，所述脏水箱设置于所述废液收集池与所述压滤机之间，所述第二传送管的两端分别与所述废液收集池和所述脏水箱相连通，所述第一传送管的两端分别与所述脏水箱和所述压滤罐相连通。
12、在其中一个实施例中，所述传送模块包括第三传送管及第一输送泵，所述第三传送管的两端分别与所述压滤模块和所述清液罐相连通，所述第一输送泵设置于所述第三传送管且与所述控制模块通信连接。
13、在其中一个实施例中，所述补水模块包括纯水罐、纯水管及第二输送泵，所述纯水管的两端分别与所述纯水罐和所述清液罐相连通，所述第二输送泵设置于所述纯水管且与所述控制模块通信连接。
14、在其中一个实施例中，所述新切割液补充模块包括补液罐、补液管及第三输送泵，所述补液管的两端分别与所述补液罐和所述清液罐相连通，所述第三输送泵设置于所述补液管且与所述控制模块通信连接。
15、在其中一个实施例中，所述采集模块为液位计。
16、上述硅片切割液回收系统，通过设置控制模块根据采集模块反馈的清液罐内的液位，先控制补水模块输送纯水并在纯水液位达到设定值后依次控制新切割液补充模块及废水压滤单元的输液，以此实现纯水、压滤水及新切割液三者按设定比例配置，并在三者按设定比例配置形成清液水后，利用清液回用单元将清液水输送至切割设备。通过上述设置，将现有技术中的纯水、新切割液及压滤水三者持续动态性的向切割设备的输入，改为待上述三种液体按设定比例配置形成清液水后再输送至切割设备，较为方便地实现了每次循环后清液水中三种成分的比例一致。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种硅片切割液回收系统，其特征在于，所述硅片切割液回收系统包括控制单元、废水压滤单元、水质调节单元和清液回用单元，其中：
2.根据权利要求1所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述清液回用单元包括清液进水管、缓冲罐、清液回流管及进水泵，所述清液进水管的两端分别连通所述清液罐与所述缓冲罐，所述清液回流管的两端分别连通所述缓冲罐与所述切割设备，所述进水泵设置于所述清液进水管。
3.根据权利要求1所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述控制单元包括在线检测模块，所述在线检测模块设置于所述清液罐并与所述控制模块通信连接，所述在线检测模块用于监测所述清液水的水质指标，所述控制模块在所述废水压滤单元停止输液后根据所述水质指标控制所述清液回用单元的启停。
4.根据权利要求1所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述废水压滤单元包括依次相连通的废液收集池、压滤模块及传送模块，所述传送模块与所述清液罐相连通且与所述控制模块通信连接，所述压滤模块用于压滤所述车间传送至所述废液收集池中的所述切割废液后形成所述压滤水，所述传送模块用于输送所述压滤模块中的所述压
5.根据权利要求4所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述压滤模块包括第一传送管、压滤罐及压滤机，所述第一传送管的两端分别与所述废液收集池和所述压滤罐相连通，所述压滤机设置于所述第一传送管。
6.根据权利要求5所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述压滤模块还包括脏水箱及第二传送管，所述脏水箱设置于所述废液收集池与所述压滤机之间，所述第二传送管的两端分别与所述废液收集池和所述脏水箱相连通，所述第一传送管的两端分别与所述脏水箱和所述压滤罐相连通。
7.根据权利要求4所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述传送模块包括第三传送管及第一输送泵，所述第三传送管的两端分别与所述压滤模块和所述清液罐相连通，所述第一输送泵设置于所述第三传送管且与所述控制模块通信连接。
8.根据权利要求1所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述补水模块包括纯水罐、纯水管及第二输送泵，所述纯水管的两端分别与所述纯水罐和所述清液罐相连通，所述第二输送泵设置于所述纯水管且与所述控制模块通信连接。
9.根据权利要求1所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述新切割液补充模块包括补液罐、补液管及第三输送泵，所述补液管的两端分别与所述补液罐和所述清液罐相连通，所述第三输送泵设置于所述补液管且与所述控制模块通信连接。
10.根据权利要求1所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述采集模块为液位计。
...【技术特征摘要】
1.一种硅片切割液回收系统，其特征在于，所述硅片切割液回收系统包括控制单元、废水压滤单元、水质调节单元和清液回用单元，其中：
2.根据权利要求1所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述清液回用单元包括清液进水管、缓冲罐、清液回流管及进水泵，所述清液进水管的两端分别连通所述清液罐与所述缓冲罐，所述清液回流管的两端分别连通所述缓冲罐与所述切割设备，所述进水泵设置于所述清液进水管。
3.根据权利要求1所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述控制单元包括在线检测模块，所述在线检测模块设置于所述清液罐并与所述控制模块通信连接，所述在线检测模块用于监测所述清液水的水质指标，所述控制模块在所述废水压滤单元停止输液后根据所述水质指标控制所述清液回用单元的启停。
4.根据权利要求1所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述废水压滤单元包括依次相连通的废液收集池、压滤模块及传送模块，所述传送模块与所述清液罐相连通且与所述控制模块通信连接，所述压滤模块用于压滤所述车间传送至所述废液收集池中的所述切割废液后形成所述压滤水，所述传送模块用于输送所述压滤模块中的所述压滤水至所述清液罐。
5.根据权利要求4所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述压滤模块包括第一传送管、压滤罐及压滤机，所述第...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱超，梁海波，方保华，金小俊，
申请(专利权)人：句容协鑫光伏科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。