【技术实现步骤摘要】
本技术涉及清洁系统，尤其涉及一种用于清洁设备的基站和清洁系统。
技术介绍
1、在相关技术中，洗地机的基站上设有水箱和显示模块，但显示模块的相对高度通常不高于水箱的相对高度，以使显示模块被水箱遮挡，影响用户的使用。另外，由于显示模块与水箱的高度接近，水箱内的水可溅到显示模块上，随着时间腐蚀显示模块，影响用户的观感体验。
技术实现思路
1、本技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。
2、为此，本技术的一个目的在于提出一种用于清洁设备的基站，可更好的展示基站的信息，且可降低污水腐蚀显示模块的风险。
3、本技术的另一个目的在于提出一种清洁系统，所述清洁系统包括前述的基站。
4、根据本技术实施例中的基站，所述基站包括基座和主体部，所述基座用于承托或收容所述清洁设备；所述主体部连接于所述基座，并包括水箱组件和显示组件，所述水箱组件用于容纳清洁介质或脏污介质，所述显示组件至少用于显示所述基站的工作状态；所述基站处于工作位置时，所述显示组件在高度方向上高于所述水箱组件。
5、根据本技术实施例中的基站，显示模块高于水箱，可更好的展示基站的信息，且当水箱在基站上拆装时，可降低污水腐蚀显示模块的风险。
6、另外，根据本技术上述实施例的基站，还可以具有如下附加的技术特征：
7、可选地，所述水箱组件包括第一水箱和第二水箱，所述第一水箱用于容纳清洁介质，所述第二水箱用于容纳脏污介质。
8、可选地，所述第一水箱设置
9、可选地，所述主体部上设置有挡板，所述挡板用于对所述水箱组件限位。
10、可选地，所述挡板的高度h1不大于所述水箱组件的最高点距离所述显示组件的距离。
11、可选地，所述水箱组件可拆卸。
12、可选地，所述水箱组件上设置提手，所述提手具有存储状态和提起状态。
13、可选地，所述显示组件具有第一亮度和第二亮度。
14、可选地，所述显示组件与水平面之间夹角α为0-30°。
15、根据本技术实施例的清洁系统，所述清洁系统包括清洁设备和上述中的基站。
16、根据本技术实施例的清洁系统，通过应用前述的基站，显示模块高于水箱，可更好的展示基站的信息，且当水箱在基站上拆装时，可降低污水腐蚀显示模块的风险。
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1.一种用于清洁设备的基站，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于清洁设备的基站，其特征在于，所述水箱组件(20)包括第一水箱(21)和第二水箱(22)，所述第一水箱(21)用于容纳清洁介质，所述第二水箱(22)用于容纳脏污介质。
3.根据权利要求2所述的用于清洁设备的基站，其特征在于，所述第一水箱(21)设置在所述主体部(10)的一侧，所述第二水箱(22)设置在所述主体部(10)的另一侧。
4.根据权利要求1所述的用于清洁设备的基站，其特征在于，所述主体部(10)上设置有挡板(70)，所述挡板(70)用于对所述水箱组件(20)限位。
5.根据权利要求4所述的用于清洁设备的基站，其特征在于，所述挡板(70)的高度H1不大于所述水箱组件(20)的最高点到所述显示组件(30)的距离H2。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的基站，其特征在于，所述水箱组件(20)可拆卸。
7.根据权利要求6所述的用于清洁设备的基站，其特征在于，所述水箱组件(20)上设置提手(90)，所述提手(90)具有存储状态和提起状态
8.根据权利要求6所述的用于清洁设备的基站，其特征在于，所述显示组件(30)具有第一亮度和第二亮度。
9.根据权利要求6所述的用于清洁设备的基站，其特征在于，所述显示组件(30)与水平面之间夹角α为0-30°。
10.一种清洁系统，其特征在于，所述清洁系统包括清洁设备(200)和根据权利要求1-9中任一项所述的基站。
...【技术特征摘要】
1.一种用于清洁设备的基站，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于清洁设备的基站，其特征在于，所述水箱组件(20)包括第一水箱(21)和第二水箱(22)，所述第一水箱(21)用于容纳清洁介质，所述第二水箱(22)用于容纳脏污介质。
3.根据权利要求2所述的用于清洁设备的基站，其特征在于，所述第一水箱(21)设置在所述主体部(10)的一侧，所述第二水箱(22)设置在所述主体部(10)的另一侧。
4.根据权利要求1所述的用于清洁设备的基站，其特征在于，所述主体部(10)上设置有挡板(70)，所述挡板(70)用于对所述水箱组件(20)限位。
5.根据权利要求4所述的用于清洁设备的基站，其特征在于，所述挡板(70)的高...
【专利技术属性】
技术研发人员：蔡演强，陈龙，
申请(专利权)人：广东德尔玛科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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