【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于稀土固废资源化,涉及一种稀土废料基抗菌陶瓷釉面及其制备方法。
技术介绍
1、稀土抛光粉有“抛光粉之王”誉称,被广泛用于手机滑盖、液晶显示器、高端饰品等领域的抛光。在抛光过程中,稀土抛光粉会失效产生稀土抛光粉废料,但是由于低稀土含量抛光粉废料没有回收价值,所以企业大多对稀土抛光粉废料进行堆弃处理。大量堆积的稀土抛光粉废料会占用大面积土地,对土壤造成一定的污染,所产生的扬尘进入空气中会污染大气环境。同时,还会造成稀土资源的浪费。因此亟需对现存抛光粉废料进行处理。
2、cn109534472a、cn111471865a、cn108531735a、cn108531735a、cn109534472a等通过酸浸、还原剂辅助浸出以及碱焙烧法等方法成功从高稀土含量的抛光粉废料中回收稀土。但是这些方法存在着酸、碱耗大、污染大、回收效率等问题,因此需要整体利用稀土抛光粉废料。
3、日常生活中存在着大量的细菌和病毒,会引发各种疾病的产生。随着生活水平的提高,人们的健康意识不断增强。所以安全、无毒的抗菌产品逐渐受到人们的重
...【技术保护点】
1.一种稀土废料基抗菌陶瓷釉面的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:
2.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述Ce基抛光粉废料中CeO2的质量分数≥30%。
3.如权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述Ce基抛光粉废料、氧化铋和氧化硼的质量比为(5~50):(35~75):(10~30)。
4.如权利要求1-3任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述混合包括球磨;
5.如权利要求1-4任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)所述熔融的温度为1000~1300℃;
6.如...
【技术特征摘要】
1.一种稀土废料基抗菌陶瓷釉面的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:
2.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述ce基抛光粉废料中ceo2的质量分数≥30%。
3.如权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述ce基抛光粉废料、氧化铋和氧化硼的质量比为(5~50):(35~75):(10~30)。
4.如权利要求1-3任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述混合包括球磨;
5.如权利要求1-4任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)所述熔融的温度为1000~1300℃;
<...【专利技术属性】
技术研发人员:李国标,卞士亮,王东,王志,肖万海,林勇,程书平,
申请(专利权)人:中国科学院赣江创新研究院,
类型:发明
国别省市:
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