微机电系统流体控制技术方案

一种流体控制设备(1)包括晶片(20)堆叠体，该堆叠体中设置有作为微机电系统(MEMS)的流动部件(10A‑D)。流动部件(10A‑D)选自流体控制部件(11A‑C)和/或流体监测部件(12)。流体控制设备(1)具有在晶片堆叠体的主平面中被第二流动部件(10B)环绕的第一流动部件(10A)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本技术总体上涉及流体控制系统，更特别地涉及实现为微机电系统实现的流体控制系统。

技术介绍

1、如今，微机电系统(mems)用于以成本高效且节省空间的方式实现许多不同种类的微致动器或微传感器。mems的一个经常使用的应用是作为微流体控制设备。可以例如在以下文章中找到不同微流体应用的综述：e.chappel的“areview of passive constant flowregulators for microfluidic applications[用于微流体应用的被动恒流调节器的综述]”，《应用科学》2020,10,8858，2020年12月10日。

2、这种mems应用的共同目标是使流体控制设备尽可能小并且易于制造。mems典型地基于机械加工的晶片，这些晶片结合在一起而作为整体。就这来说，一般规则是，实现流体控制操作所需的晶片数量是关键参数。需要的晶片越多，结合变得越困难。因此，总的趋势是最小化所需的晶片数量。

3、典型的流体控制设备包括许多流动部件。这种流动部件例如可以是流体控制部件(比如过滤器、阀、调节器等)和/或流体监测部本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种流体控制设备(1)，包括晶片堆叠体(20)，该堆叠体中设置有作为微机电系统(MEMS)的流动部件(10，10A-F)，所述流动部件(10，10A-F)选自流体控制部件(11，11F)和流体监测部件(12)中的至少一个，其中，第一所述流动部件(10A)在所述晶片堆叠体(20)的主平面中被第二所述流动部件(10B)环绕，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的流体控制设备，其特征在于，第三所述流动部件(10C)在所述晶片堆叠体(20)的所述主平面中环绕所述第二所述流动部件(10B)。

3.根据权利要求2所述的流体控制设备，其特征在于，第四所述流动部件(10D)在...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种流体控制设备(1)，包括晶片堆叠体(20)，该堆叠体中设置有作为微机电系统(mems)的流动部件(10，10a-f)，所述流动部件(10，10a-f)选自流体控制部件(11，11f)和流体监测部件(12)中的至少一个，其中，第一所述流动部件(10a)在所述晶片堆叠体(20)的主平面中被第二所述流动部件(10b)环绕，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的流体控制设备，其特征在于，第三所述流动部件(10c)在所述晶片堆叠体(20)的所述主平面中环绕所述第二所述流动部件(10b)。

3.根据权利要求2所述的流体控制设备，其特征在于，第四所述流动部件(10d)在所述晶片堆叠体(20)的所述主平面中环绕所述第三所述流动部件(10c)。

4.根据权利要求3所述的流体控制设备，其特征在于n个所述流动部件(10，10a-f)，其中，n是大于4的整数，其中，第k所述流动部件(10e-f)在所述晶片堆叠体的所述主平面中环绕第(k-1)所述流动部件(10d-e)，其中，k是等于或小于n但大于1的整数。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的流体控制设备，其特征在于，至少两个所述流动部件(10，10a-f)串联流体连接。

6.根据权利要求5所述的流体控制设备，其特征在于，所述串联流体连接的流动部件中的两个是几何上相邻的流动部件。

7.根据权利要求5或6所述的流体控制设备，其特征在于，所述串联流体连接的流动部件中的两个是几何上不相邻的流动部件。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的流体控制设备，其特征在于，至少一个所述流动部件(10，10a-f)是流体控制部件(11，11a-f)。

9.根据权利要求8所述的流体控制设备，其特征在于，至少一个所述流体控制部件(11，11a-f)选自由以下各项组成的组：

10.根据权利要求1至9中任一项所述的流体控制设备，其特征在于，至少一个所述流动部件(10，10a-f)是流体监测部件(12)。

11.根据权利要求10所述的流体控制设备，其特征在于，至少一个所述流体监测部件(12)选自由以下各项组成的组：

12.根据权利要求1至11中任一项所述的流体控制设备，其特征在于包括至少一个压力调节器(30，30a-e)，所述压力调节器(30，30a-e)具有高压膜(32)，该高压膜被布置成在变形时允许抵靠阀座装置(34)实现密封作用。

13.根据权利要求12所述的流体控制设备，其特征在于，所述阀座装置(34)包括由凹部(65)分离的多个阀座表面环(64)，由此每个阀座表面环(64)形成闭合结构，所述高压膜(32)能够抵靠该闭合结构形成密封。

14.根据权利要求12或13所述的流体控制设备，其特征在于，所述压力调节器(30，30a-e)进一步具有调节压力膜(38)和压力调节器流动路径，该压力调节器流动路径包括从高压入口(31)经过所述高压膜(32...

【专利技术属性】
技术研发人员：约翰·贝赫德，
申请(专利权)人：水源和日光有限责任公司，
类型：发明
国别省市：