一种用于超透镜的十微米级非晶硫系薄膜的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种用于超透镜的十微米级非晶硫系薄膜的制备方法，特点包括：开启电子束热蒸发沉积系统，将需要蒸镀的材料装入有蒸发孔的坩埚中的步骤；对腔室进行抽真空直至腔室气压低于6.6*10<supgt;‑4</supgt;Pa后，开启样品台加热控温模块，将目标温度设置为低于所蒸镀的非晶硫系材料的玻璃化转变温度15‑25℃；开启电子束控制系统和电子枪高压按钮，将电子束产生的圆形光斑位置调整至坩埚中心位置，待蒸镀速率稳定后，打开样品台挡板进行蒸镀，即得到十微米级非晶Ge‑Se‑Te薄膜的步骤，优点是速率快、稳定、成膜质量高，在保持原玻璃材料的性能的基础上，具有蒸镀效率高、成膜质量好等特点，可以用于后续超透镜微纳结构的加工。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于半导体材料领域，尤其是涉及一种用于超透镜的十微米级非晶硫系薄膜薄膜的制备方法。

技术介绍

1、光学系统的微纳集成化是新一代信息技术发展的重要趋势，由亚波长纳米结构组成的平面超透镜可以克服大多数现有挑战，为成像系统的小型化提供了颠覆性的技术。硫系玻璃属于无机非氧化物玻璃材料的一个大类，其具有优秀的中远红外光学特性，目前在相变存储器、红外热成像技术、红外探测器、光波导等领域有广泛的研究与应用。非晶硫系材料也能够较好地满足远红外波段的超表面透镜对材料的需求，在理论上具有高折射率、较高透过率、低热膨胀系数和低折射率温度系数等良好的特性。

2、在非晶硫系材料的中远红外超透镜的制备中，使用的方法有两种，一是在合适的基片上直接进行微纳结构的制备，但这种方法做出的超透镜聚焦效率相对较低，二是在低折射率的衬底上镀中远红外材料薄膜进行微纳加工，这样的方法具有低反射损耗、聚焦效率高的特点。因此，需要将硫系玻璃块状材料制备成基片上的薄膜，用于下一步的超透镜微纳结构加工工艺。

3、非晶硫系薄膜通常可以采用常规的薄膜制备技术进行制备，常见的薄膜制本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于超透镜的十微米级非晶硫系薄膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种用于超透镜的十微米级非晶硫系薄膜的制备方法，其特征在于：所述的衬底为硅片、石英片、NaCl和BaF2中的任一种。

3.根据权利要求1所述的一种用于超透镜的十微米级非晶硫系薄膜的制备方法，其特征在于：所述的蒸发孔在所述的盖子上均匀分布。

4.根据权利要求3所述的一种用于超透镜的十微米级非晶硫系薄膜的制备方法，其特征在于：所述的盖子在以中心半径8mm的同心圆上均匀分布八个直径为3mm的蒸发孔。

5.根据权利要求1所述的一种用于超透镜的十微米...

【技术特征摘要】

1.一种用于超透镜的十微米级非晶硫系薄膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种用于超透镜的十微米级非晶硫系薄膜的制备方法，其特征在于：所述的衬底为硅片、石英片、nacl和baf2中的任一种。

3.根据权利要求1所述的一种用于超透镜的十微米级非晶硫系薄膜的制备方法，其特征在于：所述的蒸发孔在所述的盖子上均匀分布。

4.根据权利要求3所述的一种用...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈益敏，范策，沈祥，刘自军，顾辰杰，高一骁，徐铁峰，
申请(专利权)人：宁波大学，
类型：发明
国别省市：