基于热辐射的聚乙烯-聚硅氧烷基有机无机杂化的多孔涂层及其制备方法和应用技术

技术编号:40099773 阅读:25 留言:0更新日期:2024-01-23 17:30
本发明专利技术公开了一种聚乙烯‑聚硅氧烷基有机无机杂化的多孔涂层及其制备方法和应用,所述多孔涂层具有沿表面方向上平行取向的三维无规网络骨架结构;所述涂层中,沿面外方向的骨架堆积密度高于沿表面方向(或面内方向)的骨架堆积密度。本发明专利技术制备的聚乙烯‑聚硅氧烷基有机无机杂化的多孔涂层能够同时具备显著的机械鲁棒性、光学性能稳定性和优异的PDRC性能,为PDRC材料面向低成本、大规模应用的实用化挑战提供了一个有力的解决方案。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于高反射和高红外发射材料,具体涉及一种基于热辐射的聚乙烯-聚硅 氧烷基有机无机杂化的多孔涂层及其制备方法和应用。


技术介绍

1、自工业革命以来,温室效应造成的全球气候变暖已成为日趋严重的环境问题,显著影响 着人们的生产生活方式。被动日间辐射制冷(pdrc)作为一种新兴技术,通过利用材料对太 阳辐照波段(0.3-2.5μm)的高反射削减太阳热辐射能量输入,同时通过材料在中红外区大气 窗口波段(8-13μm)与宇宙空间(约3k,几乎无红外辐射)进行辐射热交换以捕获宇宙冷 源进而产生净的热损耗以此带来日间或者全天候的降温制冷效果。该技术能够用于节能建筑、 光伏、工厂、汽车、电子产品以及个人热管理系统,有望部分替代传统有源的制冷技术,如 空调、冰箱等,减少传统制冷技术导致的大量能源消耗和环境成本,进而达到缓解温室效应 和城市热岛效应。

2、2014年,raman等人设计了一种无机纳米光子晶体材料,利用97%的太阳辐照波段反射 率和大气窗口波段选择性高红外发射率,实现了850w m-2日间太阳辐照下4.9℃的亚环境 温降和40.1w m-2的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种聚乙烯-聚硅氧烷基有机无机杂化的多孔涂层,其特征在于,所述多孔涂层具有沿表面方向上平行取向的三维无规网络骨架结构;

2.根据权利要求1所述的多孔涂层,其特征在于,所述多孔涂层在沿面外方向具有长棒状结构。

3.根据权利要求1或2所述的多孔涂层,其特征在于,所述三维无规网络骨架结构的骨架成分为聚乙烯-聚硅氧烷双交联杂化聚合物网络。

4.权利要求1-3任一项所述的多孔涂层的制备方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述聚乙烯基二甲基乙氧基硅烷的数均分子量为2×103-5×103g/mol,重均...

【技术特征摘要】

1.一种聚乙烯-聚硅氧烷基有机无机杂化的多孔涂层,其特征在于,所述多孔涂层具有沿表面方向上平行取向的三维无规网络骨架结构;

2.根据权利要求1所述的多孔涂层,其特征在于,所述多孔涂层在沿面外方向具有长棒状结构。

3.根据权利要求1或2所述的多孔涂层,其特征在于,所述三维无规网络骨架结构的骨架成分为聚乙烯-聚硅氧烷双交联杂化聚合物网络。

4.权利要求1-3任一项所述的多孔涂层的制备方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述聚乙烯基二甲基乙氧基硅烷的数均分子量为2×103-5×103g/mol,重均分子量为1×104-5×104g/mol,分子量分布为2-25。

6.根据权利要求4或5所述的方法,其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员:邹为治徐坚赵宁
申请(专利权)人:中国科学院化学研究所
类型:发明
国别省市:

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