【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于高反射和高红外发射材料,具体涉及一种基于热辐射的聚乙烯-聚硅 氧烷基有机无机杂化的多孔涂层及其制备方法和应用。
技术介绍
1、自工业革命以来,温室效应造成的全球气候变暖已成为日趋严重的环境问题,显著影响 着人们的生产生活方式。被动日间辐射制冷(pdrc)作为一种新兴技术,通过利用材料对太 阳辐照波段(0.3-2.5μm)的高反射削减太阳热辐射能量输入,同时通过材料在中红外区大气 窗口波段(8-13μm)与宇宙空间(约3k,几乎无红外辐射)进行辐射热交换以捕获宇宙冷 源进而产生净的热损耗以此带来日间或者全天候的降温制冷效果。该技术能够用于节能建筑、 光伏、工厂、汽车、电子产品以及个人热管理系统,有望部分替代传统有源的制冷技术,如 空调、冰箱等,减少传统制冷技术导致的大量能源消耗和环境成本,进而达到缓解温室效应 和城市热岛效应。
2、2014年,raman等人设计了一种无机纳米光子晶体材料,利用97%的太阳辐照波段反射 率和大气窗口波段选择性高红外发射率,实现了850w m-2日间太阳辐照下4.9℃的亚环境 温降和
...【技术保护点】
1.一种聚乙烯-聚硅氧烷基有机无机杂化的多孔涂层,其特征在于,所述多孔涂层具有沿表面方向上平行取向的三维无规网络骨架结构;
2.根据权利要求1所述的多孔涂层,其特征在于,所述多孔涂层在沿面外方向具有长棒状结构。
3.根据权利要求1或2所述的多孔涂层,其特征在于,所述三维无规网络骨架结构的骨架成分为聚乙烯-聚硅氧烷双交联杂化聚合物网络。
4.权利要求1-3任一项所述的多孔涂层的制备方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述聚乙烯基二甲基乙氧基硅烷的数均分子量为2×103-5×1
...【技术特征摘要】
1.一种聚乙烯-聚硅氧烷基有机无机杂化的多孔涂层,其特征在于,所述多孔涂层具有沿表面方向上平行取向的三维无规网络骨架结构;
2.根据权利要求1所述的多孔涂层,其特征在于,所述多孔涂层在沿面外方向具有长棒状结构。
3.根据权利要求1或2所述的多孔涂层,其特征在于,所述三维无规网络骨架结构的骨架成分为聚乙烯-聚硅氧烷双交联杂化聚合物网络。
4.权利要求1-3任一项所述的多孔涂层的制备方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述聚乙烯基二甲基乙氧基硅烷的数均分子量为2×103-5×103g/mol,重均分子量为1×104-5×104g/mol,分子量分布为2-25。
6.根据权利要求4或5所述的方法,其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员:邹为治,徐坚,赵宁,
申请(专利权)人:中国科学院化学研究所,
类型:发明
国别省市:
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