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高光谱图像获取中消除光场非均匀分布的校正系统及方法技术方案

技术编号:40088586 阅读:21 留言:0更新日期:2024-01-23 15:50
高光谱图像获取中消除光场非均匀分布的校正系统及方法,涉及高光谱图像处理技术领域,有效消除由于卤素灯光源照射下光场非均匀分布对高光谱图像信息采集所造成的影响。校正方法包括(1)获取卤素灯光源照射下两不同反射率的标准白板所对应的高光谱图像A;(2)获取同一光源照射下的茶叶样品对应的高光谱图像B;(3)基于高光谱图像A得到光场的空间分布特性;(4)对高光谱图像A和B中的像素点进行空间匹配;(5)对高光谱图像B中同一位置样品的像素点进行光场校正;(6)对样品光场校正后的结果进行反射率校正。本发明专利技术可以有效消除由于卤素灯光源照射下光场非均匀分布对高光谱图像所造成的影响,并能对高光谱数据进行反射率校正。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及高光谱图像处理,具体为一种高光谱图像获取中消除光场非均匀分布的校正系统及方法


技术介绍

1、高光谱图像具有丰富的光谱和空间信息,能够直接反映出物质的组成成分和结构差异,目前已被广泛应用。卤素灯价格便宜、输出功率高且稳定性好,但光照均匀性较差,使用卤素灯作为光源获取高光谱图像时,会导致样品扫描区域光照不均匀,无法体现样品的空间分布特征。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种高光谱图像获取中消除光场非均匀分布的校正系统及方法,通过对光场和叶片反射率进行校正,有效消除由于卤素灯光源照射下光场非均匀分布对高光谱图像信息采集所造成的影响,并能够对高光谱数据进行反射率校正。

2、本专利技术解决技术问题所采取的技术方案是:高光谱图像获取中消除光场非均匀分布的校正系统,包括ccd相机、成像光谱仪、光源、镜头、第一标准白板、第二标准白板和暗室,所述ccd相机位于暗室的上部,所述成像光谱仪位于ccd相机的下方且成像光谱仪顶部与ccd相机衔接,所述镜头位于成像光谱仪的底部,所述光源位于镜头的左本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.高光谱图像获取中消除光场非均匀分布的校正系统,其特征在于,包括CCD相机、成像光谱仪、光源、镜头、第一标准白板、第二标准白板和暗室,所述CCD相机位于暗室的上部,所述成像光谱仪位于CCD相机的下方且成像光谱仪顶部与CCD相机衔接,所述镜头位于成像光谱仪的底部,所述光源位于镜头的左右两侧,所述第二标准白板位于镜头的下方,所述第一标准白板放置于第二标准白板上。

2.根据权利要求1所述的高光谱图像获取中消除光场非均匀分布的校正系统,其特征在于,所述第一标准白板的反射率为20%,所述第二标准白板的反射率为60%。

3.根据权利要求1至2任一项所述的高光谱图像获取中消除...

【技术特征摘要】

1.高光谱图像获取中消除光场非均匀分布的校正系统,其特征在于,包括ccd相机、成像光谱仪、光源、镜头、第一标准白板、第二标准白板和暗室,所述ccd相机位于暗室的上部,所述成像光谱仪位于ccd相机的下方且成像光谱仪顶部与ccd相机衔接,所述镜头位于成像光谱仪的底部,所述光源位于镜头的左右两侧,所述第二标准白板位于镜头的下方,所述第一标准白板放置于第二标准白板上。

2.根据权利要求1所述的高光谱图像获取中消除光场非均匀分布的校正系统,其特征在于,所述第一标准白板的反射率为20%,所述第二标准白板的反射率为60%。

3.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:李晓丽张玉莹徐伟何青海
申请(专利权)人:浙江大学
类型:发明
国别省市:

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