一种硅片清洗系统技术方案

本发明专利技术涉及硅片生产技术领域，具体涉及一种硅片清洗系统，主要包括第一漂洗槽、药水槽、第二漂洗槽、溢流清洗槽、慢提拉装置、烘干装置和下料机构。在药水槽环节，溢流槽道布置于药剂槽体的顶部，便于连接形成循环水路的药剂进水管、药剂出水管、药剂泵和过滤器，提高药剂的利用率。再者，超声波振板与药洗托架之间设置有可抬离的过滤网，便于将清洗过程中产生的碎渣、破碎硅片清理。在溢流清洗槽环节，从最前方的一个洗片槽注水，当第一个洗片槽的水位超过第一隔板的顶部时，水则溢到溢流间隙，从第二隔板的底部流道后一个洗片槽，水是从底部溢到下一个洗片槽，槽体底部的水流动性好，避免了污水在槽内停留形成不流动的死水区域，保障清洗效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及硅片生产，具体涉及一种硅片清洗系统。

技术介绍

1、晶体硅作为太阳能电池的主要原料，在推动世界光伏产业的发展中起到了举足轻重的作用。在太阳能电池的制造中，晶体硅占整个电池制造成本的68.5％，其中硅片(切片后)占12.3％。因此提高晶体硅在各道加工工序中的成品率是降低太阳能电池成本的一个关键步骤。

2、在硅片加工过程中，所有与硅片接触的外部媒介都可能是硅片污染物的来源。由此可知，硅片表面的污染物来源主要有：加工器械带来的污染，加工液的污染、环境污染、操作人员带来的污染以及加工过程中硅片表面发生化学反应产生的污染等。

3、随着太阳能工业的发展，对硅片表面洁净度的要求也越来越高，这在一定程度上促进了硅片清洗技术的发展，也促进了人们对硅片清洗工艺的研究。硅片表面的湿法清洗是半导体和太阳能电池领域非常重要的一个环节，在半导体工业中，由于表面清洗不干净引起的芯片失效已超过制造环节总损失的一半以上，其清洗质量、清洗效率的高低将直接影响到产品的性能乃至可靠性、稳定性。在太阳能电池制造流程中，硅片需要经过多次清洗的环节以保证杂质、污染本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种硅片清洗系统，其特征是：包括朝前依次布置的第一漂洗槽、药水槽、第二漂洗槽、溢流清洗槽、慢提拉装置、烘干装置和下料机构，药水槽包括开口朝上的药剂槽体，药剂槽体内部设置有超声波振板、用于承托装载有硅片的花篮的药洗托架、以及固定于药剂槽体顶部周缘的溢流槽道，药剂槽体的侧壁顶部设置有消泡齿牙，超声波振板位于药洗托架的下方，且超声波振板与药洗托架之间设置有可抬离的过滤网；药剂槽体连接有依次连接形成循环水路的药剂进水管、药剂出水管、药剂泵和过滤器；

2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗系统，其特征是：药剂槽体的内壁设置有用于支撑药洗托架的止位凸起；药剂槽体的内壁对应药剂进水管之处...

【技术特征摘要】

1.一种硅片清洗系统，其特征是：包括朝前依次布置的第一漂洗槽、药水槽、第二漂洗槽、溢流清洗槽、慢提拉装置、烘干装置和下料机构，药水槽包括开口朝上的药剂槽体，药剂槽体内部设置有超声波振板、用于承托装载有硅片的花篮的药洗托架、以及固定于药剂槽体顶部周缘的溢流槽道，药剂槽体的侧壁顶部设置有消泡齿牙，超声波振板位于药洗托架的下方，且超声波振板与药洗托架之间设置有可抬离的过滤网；药剂槽体连接有依次连接形成循环水路的药剂进水管、药剂出水管、药剂泵和过滤器；

2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗系统，其特征是：药剂槽体的内壁设置有用于支撑药洗托架的止位凸起；药剂槽体的内壁对应药剂进水管之处设置有导流罩，导流罩与药剂槽体的内壁围成开口朝下的导流通道。

3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗系统，其特征是：药剂槽体的底部截面呈梯形，其包括与其侧壁衔接的斜底壁和衔接两个斜底壁的平底壁；平底壁倾斜布置，且在其低位连接有排污口和掏渣口。

4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗系统，其特征是：溢流槽道包括整体呈“[”形的底壁、立壁和顶壁，底壁密封地固定于药剂槽体的靠近端口的外壁，底壁连接有溢流接管。

5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗系统，其特征是：慢提拉装置包括两组分隔竖立布置的提拉支撑轨，每组提拉支撑轨可滑动地设有提拉梁；还包括用于驱动提拉梁沿提拉支撑轨上下运动的提拉驱动组件；

6.根据权利要求5所述的一种硅片清洗系统，其特征是：每组提拉支撑轨包括两条提拉导杆和两条衔接板，两条提拉导杆并列布置，两条提拉导杆的两端经由衔接板相互固定，提拉梁的两端经由...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡运俊，李成，姚禄华，阮清山，赵江风，
申请(专利权)人：东莞市鼎力自动化科技有限公司，
类型：发明
国别省市：