System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种切割线表面的颗粒及其制备方法、切割线及切割装置制造方法及图纸_技高网

一种切割线表面的颗粒及其制备方法、切割线及切割装置制造方法及图纸

技术编号:40081101 阅读:4 留言:0更新日期:2024-01-23 14:44
本发明专利技术提供了一种切割线表面的颗粒及其制备方法、切割线及切割装置,涉及材料切割技术领域。所述颗粒的D05为n1,D95为n2,n2减去n1的差小于或等于6.84微米。本发明专利技术实施例中,颗粒的D95和D05的差距较小,各个颗粒之间的空间大小较为均匀,切割液在颗粒之间的空间停留的时长较为均匀,切割液对颗粒均能够起到良好的冷却和润滑作用,同时,切割碎屑在颗粒之间的空间内分布也较为均匀,利于切割碎屑及时排出。未参与切割的颗粒的数量较小,可以减少未参与切割的颗粒占据的带液和排屑空间。并且,切割线中未参与切割的颗粒的数量减少,则参与切割的颗粒的数量增多,增强了切割线的切割能力,提升了切割效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及材料切割,特别是涉及一种切割线表面的颗粒及其制备方法、切割线及切割装置


技术介绍

1、切割线广泛应用于硅片切片、石材切割等方面。切割线表面的颗粒通常包含多种粒径。

2、目前,现有的切割线表面的颗粒和带液相互匹配性能较差,会影响切割线的带液和排屑效果,进而影响切割能力和切割效率。


技术实现思路

1、本专利技术提供一种切割线表面的颗粒及其制备方法、切割线及切割装置,旨在解决现有的颗粒和带液相互匹配性能较差,降低了切割效率的问题。

2、本专利技术的第一方面,提供一种切割线表面的颗粒,所述颗粒的d05为n1,d95为n2,所述n2减去所述n1的差小于或等于6.84微米。

3、本专利技术实施例中,颗粒的d95减去d05的差小于或等于6.84微米,即颗粒的d95和d05的差距较小,未参与切割的颗粒的数量较小,可以减少未参与切割的颗粒占据的带液和排屑空间。颗粒之间的空间大小较为均匀,切割液在颗粒之间的空间停留的时长较为均匀,对颗粒能够起到良好的冷却和润滑作用,同时,切割碎屑在颗粒之间的空间内分布也较为均匀,切割碎屑能够得到有序引导,切割碎屑在颗粒之间基本不会堆积,利于切割碎屑及时排出。并且,切割线中未参与切割的颗粒的数量减少,则参与切割的颗粒的数量增多,增强了切割线的切割能力,提升了切割效率。

4、可选的,所述n2减去所述n1的差小于或等于6.46微米。

5、可选的,所述n2减去所述n1的差小于或等于5.7微米。

6、可选的,所述n2减去所述n1的差小于或等于5.32微米。

7、可选的,所述颗粒的d10为n3,d90为n4,所述n4减去所述n3的差小于或等于5.31微米。

8、可选的,所述颗粒的d10为n3,d90为n4,所述n4减去所述n3的差小于或等于4.13微米。

9、可选的,所述颗粒的d50为7.2至7.6微米。

10、可选的,所述颗粒的d50为7.2至7.6微米,所述n1大于或等于5微米,所述n2小于或等于11微米。

11、可选的,所述颗粒的d10为n3,d90为n4,所述n3大于或等于5.4微米,所述n4小于或等于9.5微米。

12、可选的,所述颗粒的材料选自:金刚石、碳化硅、刚玉、氮化硼中的至少一种。

13、本专利技术的第二方面,提供一种切割线,包括:任一前述的切割线表面的颗粒。

14、本专利技术的第三方面,提供一种切割装置,包括:前述的切割线。

15、本专利技术的第四方面,提供一种任一前述切割线表面的颗粒的制备方法。

16、可选的,采用水分筛选方式,筛选所需的颗粒;或,采用电磁离心筛选方式,筛选所需的颗粒。

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【技术保护点】

1.一种切割线表面的颗粒,其特征在于,

2.根据权利要求1所述的切割线表面的颗粒,其特征在于,所述n2减去所述n1的差小于或等于6.46微米。

3.根据权利要求1所述的切割线表面的颗粒,其特征在于,所述n2减去所述n1的差小于或等于5.7微米。

4.根据权利要求1所述的切割线表面的颗粒,其特征在于,所述n2减去所述n1的差小于或等于5.32微米。

5.根据权利要求1-4中任一所述的切割线表面的颗粒,其特征在于,所述颗粒的D10为n3,D90为n4,所述n4减去所述n3的差小于或等于5.31微米。

6.根据权利要求1-4中任一所述的切割线表面的颗粒,其特征在于,所述颗粒的D10为n3,D90为n4,所述n4减去所述n3的差小于或等于4.13微米。

7.根据权利要求1-4中任一所述的切割线表面的颗粒,其特征在于,所述颗粒的D50为7.2至7.6微米。

8.根据权利要求1-4中任一所述的切割线表面的颗粒,其特征在于,所述颗粒的D50为7.2至7.6微米,所述n1大于或等于5微米,所述n2小于或等于11微米。

9.根据权利要求8所述的切割线表面的颗粒,其特征在于,所述颗粒的D10为n3,D90为n4,所述n3大于或等于5.4微米,所述n4小于或等于9.5微米。

10.根据权利要求1-4中任一所述的切割线表面的颗粒,其特征在于,所述颗粒的材料选自:金刚石、碳化硅、刚玉、氮化硼中的至少一种。

11.一种切割线,其特征在于,包括:权利要求1-10中任一所述的切割线表面的颗粒。

12.一种切割装置,其特征在于,包括:权利要求11所述的切割线。

13.一种如权利要求1-10中任一所述切割线表面的颗粒的制备方法。

14.根据权利要求13所述的切割线表面的颗粒的制备方法,其特征在于,采用水分筛选方式,筛选所需的颗粒;或,采用电磁离心筛选方式,筛选所需的颗粒。

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【技术特征摘要】

1.一种切割线表面的颗粒,其特征在于,

2.根据权利要求1所述的切割线表面的颗粒,其特征在于,所述n2减去所述n1的差小于或等于6.46微米。

3.根据权利要求1所述的切割线表面的颗粒,其特征在于,所述n2减去所述n1的差小于或等于5.7微米。

4.根据权利要求1所述的切割线表面的颗粒,其特征在于,所述n2减去所述n1的差小于或等于5.32微米。

5.根据权利要求1-4中任一所述的切割线表面的颗粒,其特征在于,所述颗粒的d10为n3,d90为n4,所述n4减去所述n3的差小于或等于5.31微米。

6.根据权利要求1-4中任一所述的切割线表面的颗粒,其特征在于,所述颗粒的d10为n3,d90为n4,所述n4减去所述n3的差小于或等于4.13微米。

7.根据权利要求1-4中任一所述的切割线表面的颗粒,其特征在于,所述颗粒的d50为7.2至7.6微米。

8.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘晓东杨浩冯亚波冯少辉贾勇杰
申请(专利权)人:隆基绿能科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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