【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及偏光片，具体涉及一种聚乙烯醇光学基膜、基膜制备方法及偏光片。
技术介绍
1、聚乙烯醇光学膜主要用于偏光片的生产，终端产品为各类液晶显示器。聚乙烯醇光学膜的性能，影响了偏光片的偏振度、透光率、色调、耐候性以及抗收缩等光学及物理性能。
2、目前聚乙烯醇光学薄膜的生产方法是将聚乙烯醇树脂及辅料溶解于超纯水中，配置成铸膜原液，铸膜原液经挤出机脱泡、模头流延成型、干燥导辊预干燥、热处理烘箱烘干定型，最后收卷获得成品的聚乙烯醇光学基膜；聚乙烯醇光学基膜再经膨润、染色、交联、拉伸、水洗、补色及干燥等工序制备偏光膜；对偏光膜贴合tac膜后制成偏光片。
3、由于上述偏振片是通过拉伸而制成，聚乙烯醇分子链因拉伸产生高度取向，为将高度取向的聚乙烯醇分子链固定，所以使用大量硼酸对聚乙烯醇进行交联，但使用硼酸交联聚乙烯醇分子链，其主要依赖于络合作用，交联结构不稳定，极易在苛刻环境下发生失效,所以用此法制成的偏光片在高温环境下容易产生收缩。
4、另外，聚乙烯醇系基膜是一种亲水性聚合物，因此由聚乙烯醇光学基膜制成的偏光片在高温高湿条件下非常容易因吸湿而发生变形。且由于偏光膜被延伸4-8倍，聚乙烯醇分子链在延伸方向上被高度取向，因此其在延伸方向上强度很高，但在垂直于延伸方向上的强度很弱，因此存在膜在受到冷热冲击时，有时会沿吸收轴方向裂开的问题。所以，一直使用使偏振片的双侧或单侧与三醋酸纤维素等透明保护膜贴合的方法来补充偏振板的强度。作为用于上述偏振片与透明保护膜的粘接的偏振板用胶粘剂，优选为水系胶粘剂使其耐候性
5、在研究提高偏光片的耐候性时，研究的方向主要集中于改善偏光片用水胶的性能；偏光片保护膜的性能；调控硼酸、碘与碘化钾等在偏光片中的浓度；以及在偏光膜或保护膜外涂敷防水材料来提高偏光片的耐久性。
6、另有研究提出，为抑制偏光片中偏光膜的收缩，使用厚度在10μm以下的偏光膜，因此，在生产薄型偏光片时，使用乙酰乙酰基改性聚乙烯醇做涂层或按照一定比例直接加入聚乙烯醇中一起溶解，能够提高树脂基材与聚乙烯醇系树脂层的密合性，来抑制例如聚乙烯醇系树脂层从树脂基材上剥离等的不良情况，从而可以良好地进行后述的染色、水中拉伸。
7、以上方法虽然都可以在一定程度上改善偏光片的耐候性，但向聚乙烯醇光学基膜中添加一定比例的乙酰乙酰基改性的聚乙烯醇树脂，并在生产偏光膜时加入能够与乙酰乙酰基发生交联的交联剂来直接改善偏光膜的耐候性的研究，一直未见报道。
8、基于上述了解，本专利技术的目的在于，通过改善偏光膜本身的耐久性来提高偏光片的耐久性。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种聚乙烯醇光学基膜、基膜制备方法及偏光片；解决以下技术问题：
2、如何提高偏光片的耐久性。
3、本专利技术的目的可以通过以下技术方案实现：
4、(一)聚乙烯醇光学基膜
5、本专利技术公开了一种聚乙烯醇光学基膜，由以下重量组分的原料组成：聚乙烯醇100份；乙酰乙酰基改性聚乙烯醇1-10份；增塑剂1-25份；表面活性剂0.01-1份；抗氧剂0.01-0.5份；去离子水60-1000份。
6、进一步地，所述聚乙烯醇的聚合度没有特别限定，该聚合度优选为1500-6500，更优选为1700-5000，进一步优选为2000-4000；通过使用聚合度在该范围内的聚乙烯醇，所得光学膜的耐久性与光学性能优异，且易于加工，能够降低生产成本；本专利技术中聚乙烯醇的醇解度也没有特别限定，但从耐水性能及光学性能考虑，所述聚乙烯醇的醇解度优选98.5％以上，更优选为99.0％以上，进一步优选为99.5％以上。
7、进一步地，所述乙酰乙酰基改性聚乙烯醇的取代度为0.1-40％，若聚乙烯醇的乙酰乙酰基取代度低于0.1％，则获得的偏光膜中交联结构较少，不足以维持偏光膜在高温高湿下的尺寸稳定性；若聚乙烯醇的乙酰乙酰基取代度高于40％，则一方面会影响乙酰乙酰基改性的聚乙烯醇的溶解性，另一方面会导致配制成的溶液凝胶速度过快，加工性能差；
8、所述乙酰乙酰基改性的聚乙烯醇的添加量须为1-10份，若乙酰乙酰基改性的聚乙烯醇的添加量少于1份，则获得的偏光膜中交联结构较少，不足以维持偏光膜在高温高湿下的尺寸稳定性；添加量多于10份，则产生的交联结构过多，导致聚乙烯醇分子链上的羟基的数量减少，进而导致偏光膜中i 3-、i5-与高度取向的聚乙烯醇分子链上的羟基所形成的交联结构减少，从而会影响偏光膜的偏振度。
9、进一步地，所述增塑剂种类没有特别限定；作为增塑剂，其需要具备大量羟基以便更好的对聚乙烯醇进行增塑，因此，可选用如甲醇、乙醇、乙二醇、甘油、丙二醇、山梨醇、季戊四醇等多元醇类；在本专利技术中，所述聚乙烯醇光学基膜可以包含这些增塑剂中的1种或多种；
10、所述增塑剂的含量在1-25份的基础上更优选为3-20份，进一步优选为5-18份；若增塑剂含量低于1份，则所得聚乙烯醇光学基膜的可延伸性能大幅降低，若增塑剂含量高于25份，则所得聚乙烯醇光学基膜会过于柔软而导致处理性能降低。
11、进一步地，所述表面活性剂种类没有特别限定；表面活性剂的作用主要是提高聚乙烯醇的制膜性，抑制聚乙烯醇光学基膜发生厚度不均，以及难以从聚乙烯醇铸片辊上剥离的情况；从易于剥离的角度出发，所述表面活性剂优选为阴离子性表面活性剂或非离子性表面活性剂，特别优选为非离子性表面活性剂；同时，表面活性剂可以单独使用1种，也可以是2种及以上表面活性剂组合使用；
12、作为阴离子性表面活性剂，可以是羧酸类衍生物、磺酸盐、硫酸酯盐、磷酸酯盐、n-酰基氨基羧酸盐类等的1种或2种及以上的组合物，例如，可选用十二烷基苯磺酸钠；作为非离子性表面活性剂，可以是长链脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯酯、聚氧乙烯烷基胺、聚氧乙烯烷基醇酰胺、聚醚类等的1种或2种及以上的组合物；
13、所述表面活性剂含量在0.01-1份的基础上更优选为0.03-0.8份，进一步优选为0.05-0.5份；通过使表面活性剂的含量在0.01份以上，能够提高制膜性和剥离性；通过使表面活性剂的含量在1份以下，能够抑制表面活性剂渗出至聚乙烯醇光学基膜的表面而使得聚乙烯醇光学基膜的品质变差。
14、进一步地，所述抗氧剂种类没有特别限定，抗氧剂的作用主要是帮助捕获并中和自由基，阻止氧气等氧剂对聚乙烯醇分子链产生不良影响；由于聚乙烯醇光学基膜使用大量水做溶剂，兼顾考虑抗氧剂的水溶性，可选择抗坏血酸类、异抗坏血酸及其盐、植酸、氨基酸类等的1种或2种及以上的组合物，例如，可选用亚硫酸钠；
15、所述抗氧剂含量在0.01-0.5份的基础上更优选为0.02-0.4份，进一步优选为0.04-0.3份；通过使抗氧剂的含量在0.01份以上，能够保护聚乙烯醇分子链不被氧化；通过使抗氧剂的含量在0.5以下，能够抑制抗氧剂渗出至聚乙烯本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种聚乙烯醇光学基膜，其特征在于，由以下重量组分的原料组成：
2.根据权利要求1所述的聚乙烯醇光学基膜，其特征在于，所述乙酰乙酰基改性聚乙烯醇的取代度为0.1-40％。
3.根据权利要求1所述的聚乙烯醇光学基膜，其特征在于，所述增塑剂为甲醇、乙醇、乙二醇、甘油、丙二醇、山梨醇、季戊四醇中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的聚乙烯醇光学基膜，其特征在于，所述表面活性剂为阴离子型表面活性剂或非离子型表面活性剂。
5.根据权利要求1所述的聚乙烯醇光学基膜，其特征在于，所述抗氧剂为抗坏血酸类、异抗坏血酸及其盐、植酸、氨基酸类中的一种或多种。
6.一种如权利要求1-5任一所述的聚乙烯醇光学基膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
7.根据权利要求6所述的聚乙烯醇光学基膜的制备方法，在步骤S1中，最终将两釜溶液混合均匀的方法为：待两溶解釜温度降至90-110℃之后将乙酰乙酰基改性聚乙烯醇溶液加入聚乙烯醇溶解釜中进行混合，混合时间为1-5h。
8.一种偏光片，其特征在于，选用权利要求6所述的聚乙烯醇光
9.根据权利要求8所述的偏光片，其特征在于，所述与乙酰乙酰基反应的交联剂的添加量为0.01-1％。
10.根据权利要求8所述的偏光片，其特征在于，所述交联剂为二胺、二醛、多胺、多醛及其盐类的一种或多种。
...【技术特征摘要】
1.一种聚乙烯醇光学基膜，其特征在于，由以下重量组分的原料组成：
2.根据权利要求1所述的聚乙烯醇光学基膜，其特征在于，所述乙酰乙酰基改性聚乙烯醇的取代度为0.1-40％。
3.根据权利要求1所述的聚乙烯醇光学基膜，其特征在于，所述增塑剂为甲醇、乙醇、乙二醇、甘油、丙二醇、山梨醇、季戊四醇中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的聚乙烯醇光学基膜，其特征在于，所述表面活性剂为阴离子型表面活性剂或非离子型表面活性剂。
5.根据权利要求1所述的聚乙烯醇光学基膜，其特征在于，所述抗氧剂为抗坏血酸类、异抗坏血酸及其盐、植酸、氨基酸类中的一种或多种。
6.一种如权利要求1-5任一所述的聚乙烯醇光学基膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
7.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：王之乐，徐学斌，叶克，王道亮，俞纪贤，
申请(专利权)人：安徽皖维先进功能膜材料研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：
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