【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及晶体生长,尤其涉及一种多坩埚下降法生长晶体的装置及晶体的生长方法。
技术介绍
1、目前,生长大尺寸晶体(如氧化镓晶体等)的方法主要有提拉法、导模法和下降法。提拉法倾向于生长成圆柱形的晶锭,德国莱布尼茨晶体生长研究所的团队开创了使用提拉法生长大尺寸氧化镓晶体的先河,早在2016年就已经生长出2英寸的β-ga2o3单晶。导模法利用毛细效应将材料拉成所需的形状,日本公司novel crystal technologies(nct)采用导模法已经实现了2英寸与4英寸β-ga2o3晶体的商业化。坩埚下降法又称垂直布里奇曼法,通过垂直放置的坩埚让熔体自下而上或自上而下凝固,具体地,将晶体生长用的材料装在圆柱型的坩埚中,缓慢地下降,并通过一个具有一定温度梯度的加热炉,炉温控制在略高于材料的熔点附近。根据材料的性质加热器件可以选用电阻炉或高频炉。在通过加热区域时,坩埚中的材料被熔融,当坩埚持续下降时,坩埚底部的温度先下降到熔点以下,并开始结晶,晶体随坩埚下降而持续长大。目前虽然已经公开报道出2英寸的β-ga2o3晶体,但其是采用传统的单晶
...【技术保护点】
1.一种多坩埚下降法生长晶体的装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的多坩埚下降法生长晶体的装置,其特征在于,所述平面螺旋线结构从外到内的螺距呈等差数列。
3.根据权利要求1所述的多坩埚下降法生长晶体的装置,其特征在于,所述壳体外轮廓在水平面上的投影覆盖所述圆盘状感应线圈在水平面上的投影,所述圆盘状感应线圈在水平面上的投影覆盖所有坩埚在水平面上的投影。
4.根据权利要求1所述的多坩埚下降法生长晶体的装置,其特征在于,每个炉体与设置在所述每个炉体内的坩埚同轴;所述若干个炉体中,所有炉体的高度均相同。
5.根据权利
...【技术特征摘要】
1.一种多坩埚下降法生长晶体的装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的多坩埚下降法生长晶体的装置,其特征在于,所述平面螺旋线结构从外到内的螺距呈等差数列。
3.根据权利要求1所述的多坩埚下降法生长晶体的装置,其特征在于,所述壳体外轮廓在水平面上的投影覆盖所述圆盘状感应线圈在水平面上的投影,所述圆盘状感应线圈在水平面上的投影覆盖所有坩埚在水平面上的投影。
4.根据权利要求1所述的多坩埚下降法生长晶体的装置,其特征在于,每个炉体与设置在所述每个炉体内的坩埚同轴;所述若干个炉体中,所有炉体的高度均相同。
5.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈端阳,齐红基,秦娟,孙栋晴,
申请(专利权)人:杭州富加镓业科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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