感光性树脂组合物和蚀刻方法技术

本发明专利技术的课题在于提供对含有高浓度的氢氟酸或氟化铵的蚀刻液的耐性优异的感光性树脂组合物、和利用该感光性树脂组合物的蚀刻方法。感光性树脂组合物，其是在通过含有氢氟酸或氟化铵的蚀刻液进行蚀刻处理的蚀刻方法中使用的感光性树脂组合物，至少包含(A)酸改性环氧丙烯酸酯、(B)光聚合引发剂、(C)封端异氰酸酯化合物和(D)填料；以及，蚀刻方法，在基材的至少单面上形成含有该感光性树脂组合物的感光性树脂层，对感光性树脂层进行曝光后显影，对感光性树脂层进行加热后，通过含有氢氟酸或氟化铵的蚀刻液进行蚀刻处理。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及对含有氢氟酸或氟化铵的蚀刻液的耐性优异的感光性树脂组合物、和利用该感光性树脂组合物的蚀刻方法。

技术介绍

1、对玻璃基材、硅基板、钛基板等基材进行蚀刻时，有时使用含有氢氟酸或氟化铵的蚀刻液。例如，作为在玻璃基材上形成图案的方法，在玻璃基材上形成感光性树脂组合物，接着隔着期望图案的光掩模实施曝光，使感光性树脂组合物固化。接着，通过显影除去非曝光部(非固化部)，在玻璃基材上形成由感光性树脂组合物形成的抗蚀剂图案。接着，对露出的玻璃基材部吹附含有氢氟酸或氟化铵的蚀刻液从而将玻璃溶解，可以形成图案。

2、作为在这样的利用含有氢氟酸或氟化铵的蚀刻液进行的蚀刻处理中使用的感光性树脂组合物，一直以来使用负型的感光性树脂组合物。例如，作为难以从玻璃基材剥离的光固化性抗蚀剂材料，公开了含有在侧链上具有烯属不饱和双键的丙烯酸树脂、聚硅烷和光敏剂的抗蚀剂材料(例如参照专利文献1)。此外，作为与玻璃基材的密合性优异的感光性树脂组合物，公开了含有特定的含羧基的粘合剂树脂、光聚合性单体和引发剂、以及特定的有机硅烷化合物的感光性树脂组合物(例如参照专利文献2)本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.蚀刻方法，其特征在于，在基材的至少单面上形成含有感光性树脂组合物的感光性树脂层，对感光性树脂层进行曝光后显影，加热感光性树脂层后，通过含有氢氟酸或氟化铵的蚀刻液进行蚀刻处理，

2.根据权利要求1所述的蚀刻方法，其中，(C)封端异氰酸酯化合物为通过甲乙酮肟封端的1,6-六亚甲基二异氰酸酯。

3.根据权利要求1或2所述的蚀刻方法，其中，(D)填料为滑石。

【技术特征摘要】

1.蚀刻方法，其特征在于，在基材的至少单面上形成含有感光性树脂组合物的感光性树脂层，对感光性树脂层进行曝光后显影，加热感光性树脂层后，通过含有氢氟酸或氟化铵的蚀刻液进行蚀刻处理，

【专利技术属性】
技术研发人员：入泽宗利，后闲宽彦，梶谷邦人，丰田裕二，中川邦弘，
申请(专利权)人：三菱制纸株式会社，
类型：发明
国别省市：

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