一种载具平台和光强检测系统技术方案

本技术涉及一种载具平台和光强检测系统，载具平台包括直线调节模组，所述直线调节模组包括可直线移动的滑台，高度调节模组，包括底座、第一调节杆、夹具以及第二调节杆，所述第一调节杆竖直固定于底座，所述夹具构造有第一夹持部和第二夹持部，所述夹具通过第一夹持部夹持于第一调节杆，第二夹持部夹持于第二调节杆，第一调节杆与第二调节杆相互垂直，且第二调节杆构造有适配探头的安装部，以及磁性部件，具有磁性，底座通过磁性部件的磁性吸附于滑台；本载具平台，适用于光强计的探头，并可以方便的调节探头的位置，不仅调节简便、可快速定位探头位置，而且可以有效保证探头的位置精度，有利于提高光强测量精度。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及激光全息光刻，具体涉及一种载具平台和光强检测系统。

技术介绍

1、光刻工艺是微电子技术的核心技术之一，是一种最精密的半导体晶片表面图形加工技术。在常规的光刻工艺中，首先要设计出图形复制用的掩模版，然后通过投影步进曝光机使覆盖在半导体晶片上的光致抗蚀剂膜按掩模版的图形曝光。但是随着半导体器件图形尺寸的日益缩小，对于在大面积衬底上制备由微小图形阵列构成的器件时，常规的光刻工艺的显得效率很低，而且常规的光刻工艺中投影曝光机价格昂贵、高成本的掩模版制备过程以及使用过程中掩模版的消耗，都使得投影光刻的成本很高。

2、激光全息光刻技术是一种基于相干光干涉效应的无掩模版光刻技术。在这种技术中，使用多束激光在晶片表面重迭发生干涉效应从而产生各种由光亮区和暗区构成的干涉图形。图形以重复周期排列，图形的最小线宽可达波长的几分之一。由于干涉图形能形成在任意表面，所以避免了常规光刻中晶面的平整度和表面形貌对光刻质量的影响。此外，系统中没有掩模版和成象透镜，象场尺寸仅与使用激光束尺寸有关，所以能够加工大面积图形。由于这些优点，激光全息光刻技术在用于制备衍射光栅本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种载具平台，其特征在于，包括直线调节模组，所述直线调节模组包括可直线移动的滑台，

2.根据权利要求1所述的载具平台，其特征在于，所述滑台构造有第一定位部，所述底座或磁性部件构造有适配所述第一定位部的第二定位部。

3.根据权利要求2所述的载具平台，其特征在于，所述第一定位部为构造于滑台顶部的定位孔，所述第二定位部为构造于底座下端的定位柱；

4.根据权利要求1所述的载具平台，其特征在于，所述滑台设置有所述磁性部件，所述底座设置有铁片或适配磁性部件的磁力部件；

5.根据权利要求1-4任一所述的载具平台，其特征在于，所述磁性部件采用的是开关式...

【技术特征摘要】

1.一种载具平台，其特征在于，包括直线调节模组，所述直线调节模组包括可直线移动的滑台，

2.根据权利要求1所述的载具平台，其特征在于，所述滑台构造有第一定位部，所述底座或磁性部件构造有适配所述第一定位部的第二定位部。

3.根据权利要求2所述的载具平台，其特征在于，所述第一定位部为构造于滑台顶部的定位孔，所述第二定位部为构造于底座下端的定位柱；

4.根据权利要求1所述的载具平台，其特征在于，所述滑台设置有所述磁性部件，所述底座设置有铁片或适配磁性部件的磁力部件；

5.根据权利要求1-4任一所述的载具平台，其特征在于，所述磁性部件采用的是开关式磁力座。

6.根据权利要求1所述的载具平台，其特征在于，所述安装部为构造于第二调节杆的通孔或螺纹孔或螺柱，

7.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：李启仪，袁康，张林建，
申请(专利权)人：江苏索尔思通信科技有限公司，
类型：新型
国别省市：