【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光纤，具体涉及一种硼锗共掺型保偏光敏光纤及其制备方法。
技术介绍
1、在光纤传感和通信领域，光纤光栅因其具有体积小、插入损耗低、结构简单等优点，得到了广泛的应用。
2、光纤光栅是基于光纤材料的光敏性而制成的，即外界的入射光子与纤芯的锗离子相互作用引起折射率的永久变化，在光纤纤芯内形成空间相位光栅。一般掺锗光纤中的紫外光敏性有限，要提高光纤的光敏性方法通常是通过提高锗元素的掺杂浓度，增多与锗相关的缺陷，以此达到提高光敏性的作用。然而，通过该方法得到的光敏光纤其光纤折射率往往过高，导致其与常规标准通信光纤参数不适配，存在在使用过程中接头损耗过大等弊端，极大地限制了光敏光纤的适用范围，制约了其广泛应用。
3、作为一种特殊的单模光纤，保偏光纤通过在纤芯两侧引入足够的应力，增强光纤的固有双折射性能，克服在传输过程中外界因素对光纤偏振态的影响，从而实现其保偏性能。保偏光纤因其具有较强的偏振保持能力，且与普通单模光纤具有良好的兼容性，广泛应用于航天、航空、航海、工业制造、通信等领域。常见的保偏光纤光栅使用的光纤类...
【技术保护点】
1.一种硼锗共掺型保偏光敏光纤，包括位于中部的纤芯和包覆设置于纤芯外周的包层，并在所述包层中以所述纤芯中心对称设置有两个圆形应力区；其特征在于，
2.根据权利要求1所述的硼锗共掺型保偏光敏光纤，其特征在于，所述应力区中的掺硼浓度为20%~25%。
3.根据权利要求1所述的硼锗共掺型保偏光敏光纤，其特征在于，所述应力区边缘到所述纤芯中心的距离r与纤芯半径a的比值不小于2。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的硼锗共掺型保偏光敏光纤，其特征在于，所述掺氟层的直径d2与所述纤芯直径d1的比值介于2.5~5.0之间。
5.一种硼...
【技术特征摘要】
1.一种硼锗共掺型保偏光敏光纤，包括位于中部的纤芯和包覆设置于纤芯外周的包层，并在所述包层中以所述纤芯中心对称设置有两个圆形应力区；其特征在于，
2.根据权利要求1所述的硼锗共掺型保偏光敏光纤，其特征在于，所述应力区中的掺硼浓度为20%~25%。
3.根据权利要求1所述的硼锗共掺型保偏光敏光纤，其特征在于，所述应力区边缘到所述纤芯中心的距离r与纤芯半径a的比值不小于2。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的硼锗共掺型保偏光敏光纤，其特征在于，所述掺氟层的直径d2与所述纤芯直径d1的比值介于2.5~5.0之间。
5.一种硼锗共掺型保偏光敏光纤的制备方法，用于权利要求1~4中任一项所述的硼锗共掺型保偏光敏光纤的制备，其特征在于，包括如下制备过程：
6.根据权利要求5所述的硼锗共掺型保偏光敏光纤的制备方法，其特征在于，在制备过程（3）中，沉积制备的工艺参数包括低沉积速率0.5 g/min ...
【专利技术属性】
技术研发人员：唐浩，常华峰，胡小龙，方足成，邓旭，张翼菲，骆城，杨坤，杨晨，
申请(专利权)人：长飞光纤光缆股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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