【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种电路板的风刀，尤其是指应用机构使风刀可进行各轴向与角度的调整，并借以提升去除电路板及挂架上残留水渍与药液能力的一种cda风刀机构。
技术介绍
1、电路板的湿制程包括有显影、电镀及剥膜等加工过程，一般来说湿制程会使用洗净水、蚀刻液、电镀液或显影液等处理液来进行电路板的加工，制程完成后附着于电路板的处理液则必须予以去除；诸如，完成显影制程后，必须透过水洗清除附着于电路板上的显影液，水洗后需将电路板上的水渍去除，以免水渍残留而造成金属表面的氧化；或如电镀制程后，必须将电路板或/及挂架上残留的电镀液予以去除，避免电路板或/及挂架因电镀液而产生污染与品质异常，并可将昂贵的电镀液回收，降低废水产生。
2、借由风刀吹送cda(clean dry air高压的清洁干燥空气)以去除电路板及挂架上残留的制程流体，为业者所熟悉及广泛应用的方法，但固定式的风刀机构往往不易达成所欲的效果；因此，如何应用机构使风刀可进行各轴向与角度的调整，进而得以完全去除电路板及挂架上残留水渍与药液，便成为本技术设计人所要积极思考的课题。
技术实现思路
1、因此，本技术的主要目的是在于提供一种风刀架机构，使风刀可进行各轴向与角度的调整，进而得以完全去除电路板及挂架上残留水渍与药液的一种cda风刀机构。
2、为达上述目的，本技术提供一种cda风刀机构，其特征在于，包括：
3、一基座；
4、至少一对的风刀架，是呈对称设置于该基座的前后两侧，各该风刀架枢设一风刀，且该风
5、所述的cda风刀机构，其中，该风刀架还包括一立架、一上横架以及一下横架，该上横架与该下横架是呈对称且连座方式固设于该立架的上下两端，该风刀枢设于该上横架、下横架之间；至少一固定座连结该立架与该基座，并使该风刀架能够相对该基座进行立向位置的调整。
6、所述的cda风刀机构，其中，该上横架、下横架各固设一滑座，且该上横架、下横架各具有一滑块，该上横架、下横架凭借各自的滑块能够在该滑座上同步位移并定位，而该垂直式风刀枢设于两个该滑块之间，使该风刀能够相对该风刀架进行横向位置的调整。
7、所述的cda风刀机构，其中，还包括二定位盘，各枢设于两个该滑块上而能够旋转及定位，而该垂直式风刀的上下两端分别固设于该二定位盘上，使该风刀能够相对该风刀架进行水平角度的调整。
8、所述的cda风刀机构，其中，该固定座能够相对该基座进行枢转及定位，使该风刀架能够相对该基座进行倾斜角度的调整。
9、借助前揭特征，本技术「cda风刀机构」，可使该风刀架相对该基座进行立向位置与倾斜角度的调整；且可使该风刀相对该风刀架进行横向位置调整，以及可相对该风刀架进行水平角度的调整，并使该成对风刀的出风口相向；因此，本技术可提高去除电路板及挂架上残留水渍与药液的能力，且可进一步提供不同尺寸工作物应用的功效。
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1.一种CDA风刀机构，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的CDA风刀机构，其特征在于，该风刀架还包括一立架、一上横架以及一下横架，该上横架与该下横架是呈对称且连座方式固设于该立架的上下两端，该风刀枢设于该上横架、下横架之间；至少一固定座连结该立架与该基座，并使该风刀架能够相对该基座进行立向位置的调整。
3.如权利要求2所述的CDA风刀机构，其特征在于，该上横架、下横架各固设一滑座，且该上横架、下横架各具有一滑块，该上横架、下横架凭借各自的滑块能够在该滑座上同步位移并定位，而属垂直式的该风刀枢设于两个该滑块之间，使该风刀能够相对该风刀架进行横向位置的调整。
4.如权利要求3所述的CDA风刀机构，其特征在于，还包括二定位盘，各枢设于两个该滑块上而能够旋转及定位，而属垂直式的该风刀的上下两端分别固设于该二定位盘上，使该风刀能够相对该风刀架进行水平角度的调整。
5.如权利要求2所述的CDA风刀机构，其特征在于，该固定座能够相对该基座进行枢转及定位，使该风刀架能够相对该基座进行倾斜角度的调整。
【技术特征摘要】
1.一种cda风刀机构，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的cda风刀机构，其特征在于，该风刀架还包括一立架、一上横架以及一下横架，该上横架与该下横架是呈对称且连座方式固设于该立架的上下两端，该风刀枢设于该上横架、下横架之间；至少一固定座连结该立架与该基座，并使该风刀架能够相对该基座进行立向位置的调整。
3.如权利要求2所述的cda风刀机构，其特征在于，该上横架、下横架各固设一滑座，且该上横架、下横架各具有一滑块，该上横架、下横架凭借各自的滑...
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