一种铝合金PVD流化工艺制造技术

本发明专利技术涉及材料表面改性技术领域，具体涉及一种铝合金PVD流化工艺。其特征是：将真空溅射室的气体抽离，使得上导流口与下导流口的压差为350Pa，引导真空溅射室内的气体沿螺旋叶片挂架自下而上螺旋流动，控制气体流速300‑500ml/s，靶材原子形成的气相粒子形成流态化蒸汽通流铝合金基材工件表面，使得铝合金基材工件表面获得均匀的膜沉积，交换上导流口与下导流口的压差，引导真空溅射室内的气体沿螺旋叶片挂架自上而下螺旋流动，如此循环往复，膜沉积时间为4～8h，并保持真空溅射室内温度在100℃范围内，可获得多层镀膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及材料表面改性，具体涉及一种铝合金pvd流化工艺。

技术介绍

1、物理气相沉积(pvd)作为材料表面镀膜技术，膜层具有高硬度、高耐磨性、低摩擦系数、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长，同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。pvd主要的镀膜基材有不锈钢、钛合金两大类，这两种镀膜基材表面硬度高、耐高温、抗氧化性强，与pvd靶材成分结合力好，如果铝合金作为镀膜基材表面硬度较低、耐高温性较差、表面抗氧化性较差，其pvd膜层结合力较差，但铝合金材料加工制作成本较低，特别适合加工复杂表面、孔洞的的产品。中国专利技术专利(专利号为cn201480016804.9，专利名称为pvd处理装置以及pvd处理方法)公开了pvd处理装置以及pvd处理方法，用于对多个基材的表面进行成膜，其特征在于包括：真空腔室，收容所述多个基材；公转台，被设置在所述真空腔室内，一边支撑所述多个基材一边使这些基材绕公转轴公转；多个自转台，各自一边支撑所述多个基材中的一个，一边使该基材在所述公转台上绕平行于所述公转轴的自转轴自转；多个靶材，采用互不相同的种类的成膜物质形成本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种铝合金PVD流化工艺，其特征是：包括以下步骤

2.根据权利要求1所述的一种铝合金PVD流化工艺，其特征是：螺旋导流工作台设计有支撑架、螺旋叶片挂架，螺旋叶片挂架通过支撑架固定在上端盖内，其轴心线与真空溅射室中心线同轴。

3.根据权利要求1所述的一种铝合金PVD流化工艺，其特征是：阴极靶材沿真空溅射室壁环形均布，溅射出来的中性靶材原子形成的气相粒子流向铝合金基材各面投射。

4.根据权利要求1所述的一种铝合金PVD流化工艺，其特征是：此时启动真空系统将真空溅射室的气体抽离，使得上导流口与下导流口的压差为350Pa，引导真空溅射室内的气体沿螺旋叶片挂...

【技术特征摘要】

1.一种铝合金pvd流化工艺，其特征是：包括以下步骤

2.根据权利要求1所述的一种铝合金pvd流化工艺，其特征是：螺旋导流工作台设计有支撑架、螺旋叶片挂架，螺旋叶片挂架通过支撑架固定在上端盖内，其轴心线与真空溅射室中心线同轴。

3.根据权利要求1所述的一种铝合金pvd流化工艺，其特征是：阴极靶材沿真空溅射室壁环形均布，溅射出来的中性靶材原子形成的气相粒子流向铝合金基材各面投射。

4.根据权利要求1所述的一种铝合金pvd流化...

【专利技术属性】
技术研发人员：文晓斌，
申请(专利权)人：深圳金迈克精密科技有限公司，
类型：发明
国别省市：