【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于阳光控制镀膜玻璃制造，具体涉及一种新型钛基阳光控制镀膜玻璃及其制备方法。
技术介绍
1、阳光控制镀膜玻璃具有优良的降低可见光及太阳能透过率的功能，广泛应用于建筑行业。阳光控制镀膜玻璃主要生产方法有磁控溅射法、在线化学气相沉积法。磁控溅射法生产的阳光控制镀膜玻璃需要多层膜系结构设计，结构及控制难度较大，并且膜层中多含有金属膜层，一般需要合成中空玻璃使用。在线化学气相沉积法生产的阳光控制镀膜玻璃以硅基阳光控制镀膜玻璃为主，膜层的颜色为硅质材料的本体颜色，呈现灰褐色，可以在不同颜色玻璃基片上镀膜。经查，没有发现在锡槽内采用化学气相沉积法制备氮化钛薄膜的相关技术。
技术实现思路
1、本专利技术要解决的技术问题是针对现有技术的不足而提供一种新型钛基阳光控制镀膜玻璃及其制备方法。
2、为解决上述技术问题，本专利技术的内容包括：
3、一种新型钛基阳光控制镀膜玻璃的制备方法，包括在锡槽内部利用化学气相沉积法在玻璃上表面依次制备第一层二氧化钛膜层、第二层二氧化硅膜层和第三层相互掺杂的二氧化钛/氮化钛膜层；所述二氧化钛膜层用于作为增加二氧化硅膜层与玻璃粘结能力的金属桥，并与二氧化硅膜层一起构成双层减反射层，以降低膜层整体反射率及反射干涉色；所述互相掺杂的氧化钛/氮化钛膜层用于选择性吸收可见光及太阳能，以降低可见光及太阳能的透过率。
4、进一步的，所述方法具体包括以下步骤：
5、s1：制备第一层二氧化钛膜层：将钛源前驱体在蒸发器中蒸发得到前驱
6、s2：制备第二层二氧化硅膜层：将硅烷、乙烯、氧气和氮气按不同比例组成的混合气体物料导入第二反应器，硅烷-氧气-乙烯的配比为1：2-5：4-8，硅烷的用量为0.1-1m3/h，氧气的用量为0.4-4m3/h，乙烯的用量为0.6-6m3/h，氮气的用量为18-42m3/h；在玻璃温度为650-660℃时，混合气体物料在第一层二氧化钛膜层上反应，制备成厚度为15-40nm的第二层二氧化硅膜层，膜层折射率为1.43-1.45；
7、s3：制备第三层相互掺杂的二氧化钛/氮化钛膜层：将钛源前驱体在蒸发器中蒸发得到钛源前驱体蒸汽，蒸发温度为110-150℃；将氨气与钛源前驱体蒸汽混合得到工艺气体，并利用氮气作为携载气体将工艺气体导入锡槽中的第三反应器，钛源前驱体用量为2-10kg/h，氨气的用量为1-10m3/h，氮气的用量为18-42m3/h；在玻璃温度为640-650℃时，物料气体在第二层二氧化硅膜层上反应，制备成厚度为20-100nm的第三层相互掺杂的氧化钛/氮化钛膜层。
8、进一步的，所述步骤s1中，钛源前驱体的蒸发温度为120-140℃；钛源前驱体的用量为1.5-4kg/h，氮气用量为24-36m3/h；二氧化钛膜层的厚度为20-30nm，膜层折射率为1.9-1.95。
9、进一步的，所述步骤s2中，硅烷-氧气-乙烯的优选配比为1：3.5-4.5：5.5-6.5；硅烷的用量为0.15-0.72m3/h，氧气的用量为0.6-3m3/h，乙烯的用量为1-4.5m3/h，氮气的用量为24-36m3/h；二氧化硅膜层的厚度为20-30nm。
10、进一步的，所述步骤s3中，蒸发温度为120-140℃；钛源前驱体用量为2.5-8kg/h，氨气的用量为1.5-8m3/h，氮气的用量为24-36m3/h；相互掺杂的氧化钛/氮化钛膜层的厚度为30-80nm。
11、进一步的，所述步骤s1和s3中，所述钛源前驱体为钛酸乙酯、钛酸丙酯、钛酸丁酯以及其异构体。
12、一种新型钛基阳光控制镀膜玻璃，采用上述新型钛基阳光控制镀膜玻璃制备方法制得。
13、本专利技术的有益效果是：
14、本专利技术在锡槽内部利用化学气相沉积法在玻璃上表面制备第一层二氧化钛膜层，作为金属桥，以增加膜层与玻璃的粘结能力；利用化学气相沉积法在第一层二氧化锡薄膜上制备第二层二氧化硅膜层，二氧化硅膜层与二氧化钛膜层构成双层减反射层，以降低膜层的整体反射率及反射干涉色；利用化学气相沉积法在第二层二氧化硅膜层上制备第三层互相掺杂的氧化钛/氮化钛膜层，该膜层对可见光及太阳能具有选择性吸收作用，能够有效降低可见光及太阳能的透过率。
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1.一种新型钛基阳光控制镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述方法包括在锡槽内部利用化学气相沉积法在玻璃上表面依次制备第一层二氧化钛膜层、第二层二氧化硅膜层和第三层相互掺杂的二氧化钛/氮化钛膜层；所述二氧化钛膜层用于作为增加二氧化硅膜层与玻璃粘结能力的金属桥，并与二氧化硅膜层一起构成双层减反射层，以降低膜层整体反射率及反射干涉色；所述互相掺杂的氧化钛/氮化钛膜层用于选择性吸收可见光及太阳能，以降低可见光及太阳能的透过率。
2.根据权利要求1所述的新型钛基阳光控制镀膜玻璃制备方法，其特征在于，所述方法具体包括以下步骤：
3.根据权利要求2所述的新型钛基阳光控制镀膜玻璃制备方法，其特征在于，所述步骤S1中，钛源前驱体的蒸发温度为120-140℃；钛源前驱体的用量为1.5-4kg/h，氮气用量为24-36m3/h；二氧化钛膜层的厚度为20-30nm，膜层折射率为1.9-1.95。
4.根据权利要求2所述的新型钛基阳光控制镀膜玻璃制备方法，其特征在于，所述步骤S2中，硅烷-氧气-乙烯的优选配比为1：3.5-4.5：5.5-6.5；硅烷的用量为0.15-0
5.根据权利要求2所述的新型钛基阳光控制镀膜玻璃制备方法，其特征在于，所述步骤S3中，蒸发温度为120-140℃；钛源前驱体用量为2.5-8kg/h，氨气的用量为1.5-8m3/h，氮气的用量为24-36m3/h；相互掺杂的氧化钛/氮化钛膜层的厚度为30-80nm。
6.根据权利要求2所述的新型钛基阳光控制镀膜玻璃制备方法，其特征在于，所述步骤S1和S3中，所述钛源前驱体为钛酸乙酯、钛酸丙酯、钛酸丁酯以及其异构体。
7.一种新型钛基阳光控制镀膜玻璃，其特征在于，采用权利要求1-6任一项所述的新型钛基阳光控制镀膜玻璃制备方法制得。
...【技术特征摘要】
1.一种新型钛基阳光控制镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述方法包括在锡槽内部利用化学气相沉积法在玻璃上表面依次制备第一层二氧化钛膜层、第二层二氧化硅膜层和第三层相互掺杂的二氧化钛/氮化钛膜层；所述二氧化钛膜层用于作为增加二氧化硅膜层与玻璃粘结能力的金属桥，并与二氧化硅膜层一起构成双层减反射层，以降低膜层整体反射率及反射干涉色；所述互相掺杂的氧化钛/氮化钛膜层用于选择性吸收可见光及太阳能，以降低可见光及太阳能的透过率。
2.根据权利要求1所述的新型钛基阳光控制镀膜玻璃制备方法，其特征在于，所述方法具体包括以下步骤：
3.根据权利要求2所述的新型钛基阳光控制镀膜玻璃制备方法，其特征在于，所述步骤s1中，钛源前驱体的蒸发温度为120-140℃；钛源前驱体的用量为1.5-4kg/h，氮气用量为24-36m3/h；二氧化钛膜层的厚度为20-30nm，膜层折射率为1.9-1.95。
4.根据权利要求2所述的新型钛基阳光控...
【专利技术属性】
技术研发人员：孙立群，孟庆瑞，张欣，鲁大学，刘卫东，马玉聪，郭振，李彩苓，王贤，谢银霞，
申请(专利权)人：中国耀华玻璃集团有限公司，
类型：发明
国别省市：
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