【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种膜片钳脑片记录浴槽。
技术介绍
1、膜片钳技术是指采用尖端经过处理的微电极与细胞膜发生紧密接触，采用电压钳或电流钳技术对生物膜上的离子通道的电活动(尤其可对单通道电流)进行记录的微电极技术。
2、现有脑片记录浴槽(slicerecordingchamber)种类繁多，结构繁简不一。早期的脑片记录浴槽为半浸式脑片记录浴槽(interfacechamber),脑片放置在尼笼网上，下半部浸入流动的人工脑脊液(acsf)中，上半部暴露在湿润的氧混合气中。此种结构的记录浴槽可使脑片得到充分的氧气供应，然而即使有湿润的气体覆盖脑片表面，脑片表面也容易干燥，而且要观察药物或acsf的变化对脑片细胞的影响也较为困难，后来发展了全浸式脑片记录浴槽(submergingchamber),脑片全部浸入到流动的氧饱和acsf中，便于观察药物作用或acsf变化对脑片的影响，目前多采用全浸式脑片记录浴槽，然而现有的全浸式脑片记录浴槽结构都较为复杂，并且浴槽设有供氧系统和恒温系统,并且价格昂贵。
技术实现思路b>
1本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种膜片钳脑片记录浴槽，其特征在于：包括透明板体，所述透明板体上设置有浴槽缓冲孔，所述浴槽缓冲孔包括缓冲前孔(2)和缓冲后孔(4)，所述缓冲前孔(2)为通孔，所述缓冲后孔(4)为盲孔，在所述缓冲前孔(2)和所述缓冲后孔(4)之间设置有贯通所述透明板体的放置孔(3)，在所述透明板体的一侧板面上设置有第一通道(1)和第二通道(5)，所述第一通道(1)的一端贯通所述透明板体的一个端面，第一通道(1)的另一端与所述缓冲前孔(2)连通；所述第二通道(5)的一端贯通所述透明板体的另一个端面，第二通道(5)的另一端贯通所述的缓冲后孔(4)与所述的放置孔(3)连通；所述透明板体的...
【技术特征摘要】
1.一种膜片钳脑片记录浴槽，其特征在于：包括透明板体，所述透明板体上设置有浴槽缓冲孔，所述浴槽缓冲孔包括缓冲前孔(2)和缓冲后孔(4)，所述缓冲前孔(2)为通孔，所述缓冲后孔(4)为盲孔，在所述缓冲前孔(2)和所述缓冲后孔(4)之间设置有贯通所述透明板体的放置孔(3)，在所述透明板体的一侧板面上设置有第一通道(1)和第二通道(5)，所述第一通道(1)的一端贯通所述透明板体的一个端面，第一通道(1)的另一端与所述缓冲前孔(2)连通；所述第二通道(5)的一端贯通所述透明板体的另一个端面，第二通道(5)的另一端贯通所述的缓冲后孔(4)与所述的放置孔(3)连通；所述透明板体的另一侧板面上设置有第三通道(7)连通所述的缓冲前孔(2)和放置孔(3)；所述透明板体的另一侧板面上还贴合有透明玻片(6)将所述放置孔(3)、缓冲前孔(2)和第三通道(7)封闭。
2.根据权利要求1所述的一种膜片钳脑片记录浴槽，其特征在于：所述的放置孔(3)的开口面积大于所述的缓冲前孔...
【专利技术属性】
技术研发人员：王蕊蕊，王燕，何婷，
申请(专利权)人：中国人民解放军空军军医大学，
类型：新型
国别省市：
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