【技术实现步骤摘要】
本技术涉及印花面料工艺领域，具体为一种便于清洗的印花面料。
技术介绍
1、印花面料是用坯布印花纸高温印染加工而成，但是印花面料在清洗时容易出现掉色的情况，从而导致串色情况的发生，使得清洗起来较为麻烦，因此需要一种便于清洗的印花面料。
2、现有的印花面料在进行使用时，无法防止面料不被污染且便于清洗洁净操作，同时无法防止面料在使用的时候产生静电对人体带来危害，并且无法确保面料在使用的时候有效防止褶皱和磨损的问题，为此急需一种便于清洗的印花面料。
技术实现思路
1、基于此，本技术的目的是提供一种便于清洗的印花面料，以解决现有的印花面料在使用的时候，无法防止面料不被污染且便于清洗洁净操作，同时无法防止面料在使用的时候产生静电对人体带来危害，并且无法确保面料在使用的时候有效防止褶皱和磨损的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种便于清洗的印花面料，包括棉布本体，所述棉布本体表面连接有疏水层。
3、所述疏水层上端连接有导电纤维层。
4、所述导电纤维层上端连接有脲类化合物层，所述脲类化合物层上端连接有防磨层。
5、优选地，所述棉布本体的外端表面与疏水层的内端表面相互粘黏，且棉布本体均匀分布透气孔。
6、优选地，所述疏水层的上端表面与导电纤维层的下端表面相互粘黏，且导电纤维层厚度小于疏水层厚度。
7、优选地，所述导电纤维层的上端表面与脲类化合物层的下端表面相紧密贴合，且脲类化合物层以棉布本体中轴线对
8、优选地，所述棉布本体表面为“凸”式设置，且棉布本体的厚度大于脲类化合物层的厚度。
9、优选地，所述脲类化合物层上端表面与防磨层下端表面紧密贴合，且防磨层的厚度大于脲类化合物层的厚度。
10、与现有技术相比，本技术的有益效果是：
11、本技术通过设置的棉布本体和疏水层，可以通过装置中安装有的棉布本体进行染色厚晾干成为初级的印花面料，而后进行涂层疏水层，此操作保护印花面料颜色不受清洗操作影响而掉色，起到固色的效果，同时使得面料表面面临脏污污染的时候有效防止污染色浸染到棉布本体内端，提升了整个印花面料清洗的便捷性；
12、本技术通过设置的棉布本体、导电纤维层，可以通过装置中安装有的导电纤维层附着于疏水层外端，使得棉布本体在使用的时候由于摩擦温度等原因产生的静电被有效隔离开，有效防止面料在使用的时候产生静电对人体带来危害，提升整个面料使用的安全性；
13、本技术通过设置的棉布本体、脲类化合物层和防磨层，可以通过装置中安装有的脲类化合物层为棉布本体表面形成一层保护膜，使得印花面料在进行清洗或者使用的时候防止褶皱，提升使用感官，同时通过设置有的防磨层，很好的保护了面料使用的同时，避免了使用环境的不确定性对面料造成的磨损，也在一定的程度上加强了印花面料的韧性，提升了对使用人的保护性。
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1.一种便于清洗的印花面料，包括棉布本体（1），其特征在于：所述棉布本体（1）表面连接有疏水层（2）；
2.根据权利要求1所述的一种便于清洗的印花面料，其特征在于：所述棉布本体（1）的外端表面与疏水层（2）的内端表面相互粘黏，且棉布本体（1）均匀分布透气孔。
3.根据权利要求1所述的一种便于清洗的印花面料，其特征在于：所述疏水层（2）的上端表面与导电纤维层（3）的下端表面相互粘黏，且导电纤维层（3）厚度小于疏水层（2）厚度。
4.根据权利要求1所述的一种便于清洗的印花面料，其特征在于：所述导电纤维层（3）的上端表面与脲类化合物层（4）的下端表面相紧密贴合，且脲类化合物层（4）以棉布本体（1）中轴线对称设置。
5.根据权利要求1所述的一种便于清洗的印花面料，其特征在于：所述棉布本体（1）表面为“凸”式设置，且棉布本体（1）的厚度大于脲类化合物层（4）的厚度。
6.根据权利要求1所述的一种便于清洗的印花面料，其特征在于：所述脲类化合物层（4）上端表面与防磨层（5）下端表面紧密贴合，且防磨层（5）的厚度大于脲类化合物层（4）的
...【技术特征摘要】
1.一种便于清洗的印花面料，包括棉布本体（1），其特征在于：所述棉布本体（1）表面连接有疏水层（2）；
2.根据权利要求1所述的一种便于清洗的印花面料，其特征在于：所述棉布本体（1）的外端表面与疏水层（2）的内端表面相互粘黏，且棉布本体（1）均匀分布透气孔。
3.根据权利要求1所述的一种便于清洗的印花面料，其特征在于：所述疏水层（2）的上端表面与导电纤维层（3）的下端表面相互粘黏，且导电纤维层（3）厚度小于疏水层（2）厚度。
4.根据权利要求1所述的一种便于清...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐小强，
申请(专利权)人：常州新视角纺织品有限公司，
类型：新型
国别省市：
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