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基于TSV的多层双频SIW滤波器制造技术

技术编号:39985920 阅读:7 留言:0更新日期:2024-01-09 01:53
本发明专利技术公开了基于TSV的多层双频SIW滤波器,包括从上至下依次设置的四层谐振腔,每层谐振腔中均分布有TSV阵列和耦合槽结构,其中第一层的TSV阵列结构和第四层的TSV阵列结构相同,第二层的TSV阵列结构与第三层的TSV阵列结构相同,第一层谐振腔的一侧设有输入RDL,第四层谐振腔的一侧设有输出RDL。本发明专利技术提供的滤波器结构能够实现层与层之间的耦合,实现了更好的性能以及更小的尺寸。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于无线通信,涉及一种基于tsv的多层双频siw滤波器。


技术介绍

1、随着无线通信技术的发展,人类的生活已经与相关通信设备无法分隔。与此同时,频谱资源变得日益紧张,如何在有限的频谱资源内产生更大的应用空间,已经成为一个非常重要问题。近年来,随着5g毫米波频谱资源的开发,多协议系统逐渐被应用在通信领域中,同时对于双频甚至多频段器件的研究越来越多,双频带滤波器作为其中重要。

2、目前面对双频滤波器的研究一方面是单层滤波器,一方面是双层滤波器,更多的是围绕同层之间的腔体进行耦合的研究设计,即使是双层滤波器,其中也是更多的包含同层之间的耦合研究,这样的研究设计在尺寸设计上存在一定的局限。

3、基于tsv的siw滤波器具有结构紧凑、易于集成、体积小、高品质因数和优良的高频特性等特点。为了实现低频段频谱资源和空间资源的充分利用,提升频段选用灵活性,实现紧凑的低频段双频滤波器是十分重要的课题之一。因此,基于tsv的多层双频滤波器在低频段的研究具有非常深远的意义。


技术实现思路

1、本专利技术的目的是提供一种基于tsv的多层双频siw滤波器,该滤波器结构能够实现层与层之间的耦合,实现了更好的性能以及更小的尺寸。

2、本专利技术所采用的技术方案是,基于tsv的多层双频siw滤波器,包括从上至下依次设置的四层谐振腔,每层谐振腔中均分布有tsv阵列和耦合槽结构,其中第一层的tsv阵列结构和第四层的tsv阵列结构相同,第二层的tsv阵列结构与第三层的tsv阵列结构相同,第一层谐振腔的一侧设有输入rdl,第四层谐振腔的一侧设有输出rdl。

3、本专利技术的特点还在于:

4、四层谐振腔的结构为:包括五层从上至下依次平行设置的金属层rdl,相邻两层金属层rdl之间形成一个谐振腔,五层金属层rdl两两之间依次从上至下形成第一谐振腔、第二谐振腔、第三谐振腔及第四谐振腔,输入rdl设置在第一层金属层rdl一侧;输出rdl设置在第五层金属层rdl的一侧。

5、四层谐振腔均为矩形结构,每层谐振腔的两条对角线上均设有两个tsv。

6、耦合槽结构具体为:

7、第二层金属层rdl的中心处开设有两个半圆形槽a,两个半圆形槽a的两端分别通过矩形槽a连通;第二层金属层rdl上还分别开设有一个矩形槽b和两个矩形槽c,两个矩形槽c分别设置在两个半圆形槽a的两侧,一个矩形槽b设置在其中一个矩形槽a一侧;

8、第三层金属层rdl的中心处开设有两个半圆形槽b,两个半圆形槽b的两端分别通过矩形槽d连通,第三层金属层rdl上还分别开设有一个矩形槽e和两个矩形槽f,两个矩形槽f分别设置在两个半圆形槽b的两侧,一个矩形槽e设置在其中一个矩形槽d一侧;

9、第四层金属层rdl的中心处开设有两个半圆形槽c,两个半圆形槽c的两端分别通过矩形槽g连通,第四层金属层rdl上还分别开设有一个矩形槽h和两个矩形槽i,两个矩形槽i分别设置在两个半圆形槽c的两侧,一个矩形槽h设置在其中一个矩形槽g一侧。

10、两个半圆形槽a、两个半圆形槽b及两个半圆形槽c之间能够实现交叉耦合,即电耦合;矩形槽b、矩形槽e及矩形槽h之间进行直接耦合,即磁耦合;

11、两个矩形槽a、两个矩形槽c、两个矩形槽d、两个矩形槽f、两个矩形槽g及两个矩形槽i实现了滤波器的双频及外带特性。

12、本专利技术的有益效果如下:

13、1.本专利技术滤波器每一层只有一个siw腔体,减少了同层之间的耦合,增加层与层之间的耦合,进一步的缩小了尺寸。

14、2.本专利技术中的滤波器对结构的尺寸进行优化,从常见的单层双频滤波器到本专利技术中的多层双频滤波器,同时该滤波器采用的频段相对较高,避免了频谱资源紧张的问题。

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【技术保护点】

1.基于TSV的多层双频SIW滤波器,其特征在于:包括从上至下依次设置的四层谐振腔,每层谐振腔中均分布有TSV阵列和耦合槽结构,其中第一层的TSV阵列结构和第四层的TSV阵列结构相同,第二层的TSV阵列结构与第三层的TSV阵列结构相同,第一层谐振腔的一侧设有输入RDL,第四层谐振腔的一侧设有输出RDL。

2.根据权利要求1所述的基于TSV的多层双频SIW滤波器,其特征在于:所述四层谐振腔的结构为:包括五层从上至下依次平行设置的金属层RDL,相邻两层金属层RDL之间形成一个谐振腔,五层金属层RDL两两之间依次从上至下形成第一谐振腔、第二谐振腔、第三谐振腔及第四谐振腔,所述输入RDL设置在第一层金属层RDL一侧;所述输出RDL设置在第五层金属层RDL的一侧。

3.根据权利要求2所述的基于TSV的多层双频SIW滤波器,其特征在于:所述四层谐振腔均为正方形结构,每层谐振腔的两条对角线上均设有两个TSV。

4.根据权利要求2所述的基于TSV的多层双频SIW滤波器,其特征在于:所述耦合槽结构具体为:

5.根据权利要求4所述的基于TSV的多层双频SIW滤波器,其特征在于:两个所述半圆形槽A、两个半圆形槽B及两个半圆形槽C之间能够实现交叉耦合,即电耦合;矩形槽B、矩形槽E及矩形槽H之间进行直接耦合,即磁耦合;

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【技术特征摘要】

1.基于tsv的多层双频siw滤波器,其特征在于:包括从上至下依次设置的四层谐振腔,每层谐振腔中均分布有tsv阵列和耦合槽结构,其中第一层的tsv阵列结构和第四层的tsv阵列结构相同,第二层的tsv阵列结构与第三层的tsv阵列结构相同,第一层谐振腔的一侧设有输入rdl,第四层谐振腔的一侧设有输出rdl。

2.根据权利要求1所述的基于tsv的多层双频siw滤波器,其特征在于:所述四层谐振腔的结构为:包括五层从上至下依次平行设置的金属层rdl,相邻两层金属层rdl之间形成一个谐振腔,五层金属层rdl两两之间依次从上至下形成第一谐振腔、第二谐振腔、第三谐振腔及第四谐振...

【专利技术属性】
技术研发人员:王凤娟卢颖刘静杨媛余宁梅尹湘坤朱樟明
申请(专利权)人:西安理工大学
类型:发明
国别省市:

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