System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind()
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及流体样品处理领域并且还涉及颗粒流式细胞术领域。
技术介绍
1、在流式细胞仪中,使流式细胞仪中被询问的颗粒穿过照射激光的中心对于数据质量至关重要。由于一般的加工公差、精度成本和询问组件的流体动力学,这对于重复制造是一个挑战。因此,在本领域中长期存在对确保颗粒在询问期间在所有流速下适当地定位在流动池中的系统和方法的需求。
技术实现思路
1、在满足所述需求中,本公开提供了流动集中部件,包括:所述流动集中部件限定中心轴线、近端和远端,并且具有在所述流动集中部件内沿着所述中心轴线的方向延伸的中心孔;所述流动集中部件限定花键外表面,所述花键外表面限定多个周向布置的旁路凹槽通道,所述多个旁路凹槽通道在所述中心轴线的方向上延伸,并且每个旁路凹槽通道具有深度hf和长度lf,并且所述流动集中部件的外表面限定了当在从所述近端到所述远端的方向上沿着所述中心轴线测量时变化的横截面尺寸。
2、还提供了流动池组件,所述流动池组件包括:根据本公开的流动集中部件;鞘流体输送区域,所述鞘流体输送区域在所述流动集中部件的近端与多个旁路凹槽通道流体连通,所述鞘流体输送区域在所述流动集中部件的所述近端与所述流动集中部件的所述中心孔流体隔离,所述流动池进一步包括聚焦区域,该聚焦区域被配置成包含来自所述流动集中部件的所述中心孔的流体样品流和来自所述多个旁路凹槽通道的鞘流体流,所述聚焦区域限定中心轴线,并且所述流动池被配置成将与所述流动集中部件接合的样品流体毛细管在所述聚焦区域的所述中心轴线上居中。
...【技术保护点】
1.一种流动集中部件,所述流动集中部件包括:
2.根据权利要求1所述的流动集中部件,其特征在于,所述流动集中部件的横截面轮廓限定第一部分,所述第一部分具有成角度的、弯曲的或以其他方式远离所述中心孔延伸的横截面轮廓,所述第一部分任选地包括相对于所述中心轴线以约5度至约60度的第一角度θ1倾斜的部分,所述第一部分从所述流动集中部件的端部延伸。
3.根据权利要求2所述的流动集中部件,其特征在于,所述流动集中部件的所述横截面轮廓限定第二部分,所述第二部分具有成角度的、弯曲的或以其他方式远离所述中心孔延伸的轮廓。
4.根据权利要求3所述的流动集中部件,其特征在于,所述第二部分的所述横截面轮廓不同于所述第一部分的所述横截面轮廓。
5.根据权利要求4所述的流动集中部件,其特征在于,所述第二部分的至少一部分以相对于所述中心轴线测量的第二角度θ2倾斜,θ2小于θ1。
6.根据权利要求1-5中任一权利要求所述的流动集中部件,其特征在于,所述流动集中部件的所述横截面轮廓限定了基本上平行于所述中心轴线的部分。
7.根据权利要求1-6
8.根据权利要求1-7中任一权利要求所述的流动集中部件,其特征在于,所述中心孔限定直径DB,其中所述流动集中部件限定在所述流动集中部件的沿着所述中心轴线的最宽点处测量的直径DC,并且其中DB与DC的比率为约2:10至约4:10。
9.根据权利要求1-8中任一权利要求所述的流动集中部件,其特征在于,旁路凹槽通道限定深度HF,其中所述流动集中部件限定在所述流动集中部件的沿着所述中心轴线的最宽点处测量的直径DC,并且其中HF与DC的比率为约1:20至约1:5.1。
10.根据权利要求1-9中任一权利要求所述的流动集中部件,其特征在于,旁路凹槽通道限定深度HF,并且其中HF在从所述近端到所述远端的方向上沿着所述中心轴线测量时变化,所述深度HF任选地在从所述近端到所述远端的方向上沿着所述中心轴线测量时增加。
11.根据权利要求1-10中任一权利要求所述的流动集中部件,其特征在于,旁路凹槽通道限定深度HF,并且其中HF为约100μm至约1000μm。
12.根据权利要求1-11中任一权利要求所述的流动集中部件,其特征在于,所述流动集中部件限定长度LC,并且其中LC与旁路凹槽通道的所述长度LF的比率为约10:5至约10:8。
13.根据权利要求1-12中任一权利要求所述的流动集中部件,其特征在于,所述流动集中部件包括多个部件的组件。
14.根据权利要求1-13中任一权利要求所述的流动集中部件,其特征在于,所述流动集中部件包括单个主体。
15.根据权利要求1-14中任一权利要求所述的流动集中部件,其特征在于,所述流动集中部件包括陶瓷材料。
16.根据权利要求1-15中任一权利要求所述的流动集中部件,其特征在于,所述中心孔限定中心轴线,并且其中当在所述流动集中部件的所述近端和所述流动集中部件的所述远端中的一者或两者处测量时,所述中心孔的所述中心轴线偏离所述流动集中部件的所述中心轴线小于约10μm。
17.一种流动池组件,所述流动池组件包括:
18.根据权利要求17所述的流动池,进一步包括所述样品流体毛细管,所述样品流体毛细管被配置成在其中连通流体样品,所述流体样品包括布置在其中的多个颗粒,所述毛细管被配置成与所述流动集中部件的所述中心孔接合。
19.一种方法,所述方法包括:
20.根据权利要求19所述的方法,其特征在于,执行所述连通使得所述鞘流体没有湍流。
21.根据权利要求19-20中任一权利要求所述的方法,其特征在于,所述鞘流体流体动力学地集中所述多个颗粒中的至少一些颗粒,使得所述至少一些颗粒基本上位于所述中心流动轴线上。
22.根据权利要求19-21中任一权利要求所述的方法,其特征在于,进一步包括通过施加声辐射压力来聚焦所述多个颗粒中的至少一些颗粒。
23.根据权利要求19-22中任一权利要求所述的方法,其特征在于,进一步包括分析朝向所述中心流动轴线集中的至少一些所述颗粒。
24.一种分析系统,所述分析系统包括:
25.根据权利要求24所述的分析系统,其特征在于,所述颗粒分析器包括激光器。
26.根据权利要求24-25中任一权利...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种流动集中部件,所述流动集中部件包括:
2.根据权利要求1所述的流动集中部件,其特征在于,所述流动集中部件的横截面轮廓限定第一部分,所述第一部分具有成角度的、弯曲的或以其他方式远离所述中心孔延伸的横截面轮廓,所述第一部分任选地包括相对于所述中心轴线以约5度至约60度的第一角度θ1倾斜的部分,所述第一部分从所述流动集中部件的端部延伸。
3.根据权利要求2所述的流动集中部件,其特征在于,所述流动集中部件的所述横截面轮廓限定第二部分,所述第二部分具有成角度的、弯曲的或以其他方式远离所述中心孔延伸的轮廓。
4.根据权利要求3所述的流动集中部件,其特征在于,所述第二部分的所述横截面轮廓不同于所述第一部分的所述横截面轮廓。
5.根据权利要求4所述的流动集中部件,其特征在于,所述第二部分的至少一部分以相对于所述中心轴线测量的第二角度θ2倾斜,θ2小于θ1。
6.根据权利要求1-5中任一权利要求所述的流动集中部件,其特征在于,所述流动集中部件的所述横截面轮廓限定了基本上平行于所述中心轴线的部分。
7.根据权利要求1-6中任一权利要求所述的流动集中部件,其特征在于,至少一个旁路凹槽通道限定了在从所述近端到所述远端的方向上沿着所述中心轴线测量时变化的宽度,所述宽度任选地在从所述近端到所述远端的方向上沿着所述中心轴线测量时增加。
8.根据权利要求1-7中任一权利要求所述的流动集中部件,其特征在于,所述中心孔限定直径db,其中所述流动集中部件限定在所述流动集中部件的沿着所述中心轴线的最宽点处测量的直径dc,并且其中db与dc的比率为约2:10至约4:10。
9.根据权利要求1-8中任一权利要求所述的流动集中部件,其特征在于,旁路凹槽通道限定深度hf,其中所述流动集中部件限定在所述流动集中部件的沿着所述中心轴线的最宽点处测量的直径dc,并且其中hf与dc的比率为约1:20至约1:5.1。
10.根据权利要求1-9中任一权利要求所述的流动集中部件,其特征在于,旁路凹槽通道限定深度hf,并且其中hf在从所述近端到所述远端的方向上沿着所述中心轴线测量时变化,所述深度hf任选地在从所述近端到所述远端的方向上沿着所述中心轴线测量时增加。
11.根据权利要求1-10中任一权利要求所述的流动集中部件,其特征在于,旁路凹槽通道限定深度hf,并且其中hf为约100μm至约1000μm。
12.根据权利要求1-11中任一权利要求所述的流动集中部件,其特征在于,所述流动集中部件限定长度lc,并且其中lc与旁路凹槽通道的所述长度lf的比率为约10:5至约10:8。
13.根据权利要求1-12中任一权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:E·芬安,M·瓦德,
申请(专利权)人:生命科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。