【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及有机化学,具体涉及一种用于光学材料的抗黄变添加剂及其制备方法和包含其的组合物。
技术介绍
1、随着社会科技的发展,高分子光学材料在电子器件以及光学器件等方面有广泛的应用前景,而在实际使用过程中,高分子光学材料经过一段时间后可能会发生黄变,对器件外观以及性能造成一定的影响,最终会影响其使用寿命。在材料合成过程中加入抗黄变剂是解决黄变的一种常用的方法。抗黄变添加剂是一种能有效抑制、抵抗或减缓添加物产品在加工和使用过程中因为光、热及其他因素造成的产品黄变现象的一种物质。抗黄变剂具有以下要求:具有相当的通用性;与大多数高分子体系良好的相容性,无析出风险;起始色泽浅,不会影响产品起始颜色。但是目前的一些抗黄变剂配方复杂,这大大提高了原有成本,并且抗黄变效果不佳,而且在光学材料方面的应用也较少。本专利技术创造性的将2,4,6-三吗啉-1,3,5-三嗪应用于抗黄变添加剂中,测试结果表明,其具有较好的抗黄变性能。
技术实现思路
1、本专利技术要解决的技术问题是:将2,4,6-三吗啉-1,3,
...【技术保护点】
1.2,4,6-三吗啉-1,3,5-三嗪用于光学材料抗黄变剂的添加剂的应用,其结构式如下:
2.制备如权利要求1所述的抗黄变剂添加剂的方法,其特征在于,以三聚氯氰和吗啉为原料,在二异丙基乙胺和DMF的作用下转化为所述的抗黄变添加剂,反应式如下:
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述三聚氯氰、吗啉、二异丙基乙胺的mol比为1:3~5:3~5。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述三聚氯氰和DMF的质量比为1:2~3。
5.包含权利要求1所述的含抗黄变剂添加剂的组合物,其特征在于,所述组合物包括如下重量份
...【技术特征摘要】
1.2,4,6-三吗啉-1,3,5-三嗪用于光学材料抗黄变剂的添加剂的应用,其结构式如下:
2.制备如权利要求1所述的抗黄变剂添加剂的方法,其特征在于,以三聚氯氰和吗啉为原料,在二异丙基乙胺和dmf的作用下转化为所述的抗黄变添加剂,反应式如下:
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述三聚氯氰、吗啉、二异丙基乙胺的mol比为1:3~5:3~5。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述三聚氯氰和dmf的质量比为1:2~3。
5.包含权利要求1所述的含抗黄变剂添加剂的组合物,其特征在于,所述组合物包括如下重量份的组分:乙氧基化双酚a丙烯酸酯50-60份、tpgda10-15份、2(丙氧基)新戊二醇二丙烯酸酯10-15份、聚乙二醇(400)二丙烯酸酯5-7份、光引发剂0.1-1份、抗黄变添加剂1-3份、苯亚磷酸酯...
【专利技术属性】
技术研发人员:聂俊,郑好,万晓君,朱晓群,
申请(专利权)人:江苏集萃光敏电子材料研究所有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。