盖板、显示屏组件及电子设备制造技术

技术编号:39962021 阅读:19 留言:0更新日期:2024-01-09 00:07
本申请提供一种盖板、显示屏组件及电子设备。本申请的盖板包括:基材层;以及第一加硬层,所述第一加硬层层叠设置于所述基材层的一侧,所述第一加硬层的硬度大于所述基材层的硬度,第一加硬层包括二氧化硅及第一无机化合物,所述第一无机化合物包括氧化铌、氧化锆、氧化铝及氮化硅中的至少一种;由所述基材层指向所述第一加硬层的方向上,所述第一加硬层中,所述二氧化硅的质量分数逐渐增加,所述第一无机化合物的质量分数逐渐减小。本申请实施例的盖板具有较高硬度,具有较高抗划伤及抗磨损能力。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及电子领域,具体涉及一种盖板、显示屏组件及电子设备


技术介绍

1、现有的电子设备(例如手机)的显示屏通常采用玻璃作为保护盖板,然而,化学强化后的玻璃表面的纳米硬度的抗划伤和抗磨损能力仍然较差,这大大降低了用户体验。


技术实现思路

1、本申请实施例提供一种盖板,其具有较高硬度,具有较高抗划伤及抗磨损能力。

2、第一方面,本申请实施例提供一种盖板,其包括:

3、基材层;以及

4、第一加硬层,所述第一加硬层层叠设置于所述基材层的一侧,所述第一加硬层的硬度大于所述基材层的硬度,第一加硬层包括二氧化硅及第一无机化合物,所述第一无机化合物包括氧化铌、氧化锆、氧化铝及氮化硅中的至少一种;由所述基材层指向所述第一加硬层的方向上,所述第一加硬层中,所述二氧化硅的质量分数逐渐增加,所述第一无机化合物的质量分数逐渐减小。

5、第二方面,本申请实施例提供一种盖板,其包括:

6、基材层;以及

7、第一加硬层,所述第一加硬层层叠设置于所述基材层的一侧,所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种盖板,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,由所述基材层指向所述第一加硬层的方向上,所述第一加硬层中,所述二氧化硅的质量分数w1的渐变范围为:46%≤w1≤78%,所述第一无机化合物的质量分数w2的渐变范围为:22%≤w2≤54%。

3.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,由所述基材层指向所述第一加硬层的方向上,所述第一加硬层的折射率逐渐变小。

4.根据权利要求3所述的盖板,其特征在于,所述第一加硬层的折射率n1的渐变范围:1.56≤n1≤1.8。

5.根据权利要求4所述的盖板,其特征在于,沿所述基材层与所...

【技术特征摘要】

1.一种盖板,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,由所述基材层指向所述第一加硬层的方向上,所述第一加硬层中,所述二氧化硅的质量分数w1的渐变范围为:46%≤w1≤78%,所述第一无机化合物的质量分数w2的渐变范围为:22%≤w2≤54%。

3.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,由所述基材层指向所述第一加硬层的方向上,所述第一加硬层的折射率逐渐变小。

4.根据权利要求3所述的盖板,其特征在于,所述第一加硬层的折射率n1的渐变范围:1.56≤n1≤1.8。

5.根据权利要求4所述的盖板,其特征在于,沿所述基材层与所述第一加硬层的层叠方向上,所述第一加硬层上相距50nm的厚度,靠近所述基材层的位置的折射率与背离所述基材层的位置的折射率的差值△n≤0.01。

6.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,入射至所述第一加硬层的光线在所述第一加硬层内的传输路径呈弧线,由所述第一加硬层指向所述基材层的方向上,所述弧线的曲率逐渐变大。

7.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述盖板还包括:

8.根据权利要求7所述的盖板,其特征在于,所述光学调整层的折射率小于所述第一加硬层靠近所述基材层一侧的折射率。

9.根据权利要求7所述的盖板,其特征在于,所述光学调整层的折射率n2的范围为:1.62≤n2≤1.66。

10.根据权利要求7所述的盖板,其特征在于,所述光学调整层包括二氧化硅及第二无机化合物,所述第二无机化合物包括氧化铌、氧化锆、氧化铝及氮化硅中的至少一种。

11.根据权利要求1-10任一项所述的盖板,其特征在于,所述盖板还包括:

12.根据权利要求1-10任一项所述的盖板,其特征在于,所述盖板还包括:

13.根据权利要求1-10任一项所述的盖板,其特征在于,所述第一加硬层的厚度d1的范围为900nm≤d1≤3000nm。

14.一种盖板,其特征在于,包括:

15.根据权利要求14所述的盖板,其特征在于,所述第一加硬层的折射率n1...

【专利技术属性】
技术研发人员:卢湘武李晓波陈志斌
申请(专利权)人:OPPO广东移动通信有限公司
类型:发明
国别省市:

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